JPH0386230A - ２段階流動性触媒作用分解装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は２段階流動性触媒作用分解装置およびその製
造方法に関する。この発明は触媒粒子の流動流を用いて
重い炭化水素を軽い炭化水（以下ＦＣＣという）に関す
る。特にこの発明はＦＣＣ方法を実施するための装置に
関する。

従来の技術 触媒分解を行なうには、反応領域内の炭化水素に微粒化
した触媒を接触させる。水素分解と異なり触媒分解では
、水素を添加したり、水素を消費したりしなくとも反応
が行なわれる０分解反応が進行するにつれて、相当量の
コークスが触媒に被着するので、再生領域内での高温再
生によって触媒上のコークスを燃焼させる。コークスを
含む触媒は本明細書中で使用済触媒と呼ぶ、使用済触媒
は反応領域から連続的に取り除かれ、再生領域からの実
質的にコークスを含まない触媒と置き換えられる６種々
のガス気流を用いて触媒粒子を流動化して、反応領域と
再生領域との間で触媒の移動を行なう、流動性触媒気流
中での炭化水素の分解１反応領域と再生領域との間での
触媒の移動、再生室中でのコークスの燃焼などを行なう
一方法はＦＣＣ処理の当業者に周知である。上記の処理
で触媒粒子を供給原料とか、再生ガスに接触させるのに
用いられる数多くの室形状が従来知られている。

１９５０年代から１９６０隼代にかけて広く認められた
ＦＣＣ装置の周知構造に、積重ね式のＦＣＣ式反応再生
装置がある。この従来装置は再生室の上に積重ねた反応
室を有している。再生室からの再生された触媒は、再生
室分配パイプを介して上昇通路へ流れ込み、ＦＣＣ供給
原料に接触する。供給原料と流動媒体とから生じる膨張
ガスが、外部上昇通路内の触媒を上方へ運び反応室へ送
り込む０反応室内のサイクロンによって触媒と反応供給
原料蒸気とを分離する。供給原料蒸気は上方の回収通路
へ排出されるが、触媒は反応室の底部に集まる１反応室
の側部から垂下する除去室が、反応領域からの使用済触
媒を受は入れる。除去室の底部からの上昇気流が下降触
媒流に対向して触媒から吸着炭化水素を除去する。除去
室からの使用済触媒は、反応室分配パイプを通って引続
き下降して、再生室内の濃い流動性触媒床へ入る。使用
済触媒上のコークスは、再生室内を上昇する空気流中の
酸素と反応して最終的に再生ガスとなる。再生室内上部
のサイクロンも、触媒粒子を濃触媒床へ戻すので、比較
的触媒の少ない再生ガスが上方のガス通路から排出され
る。

再生技術や利用供給原料の変化、さらに高産出量の要求
などのために、上記Ｔ１１重ね式装置の利用価値が著し
く低下した。積重ね式ＦＣＣ装置においては、再生技術
に対して２つの付加技術、すなわち多段階再生および再
生室から熱を奪う手段を加えることが有用である。上記
した変化を促がしたのは、多種多様な供給原料の変換を
改善しようとする要請である。

通常、最適１２供給原料変換を行なうためには、触媒か
らコークスをほぼ完全に除去しなければならない、この
触媒からのコークスの実質的完全除去は、しばしば完全
再生と呼ばれる。完全再生は０．１重量％以下、好まし
くは０．０５重量％以下のコークスをもつ触媒を生成す
る。完全再生を行なうためには、コークスを炭素酸化物
へ燃焼させるのに必要な化学量論量以上の酸素を再生室
へ供給する。再生領域内の過剰酸素は、コークスの燃焼
によって生じた一酸化炭素とも反応して更に熱を発生す
る。１個の再生室を用いた場合は、該再生室内の濃触媒
床の上方の領域などでは触媒が比較的少ない、再生室の
このよう領域中でＣＯの燃焼が起ると、その高温のため
に関連部材が著しい損傷を受ける。一方、放熱剤として
の触媒内でＣＯ燃焼が起れば上記の事態を回避できる。

したがって通常再生室は、触媒が比較的少ない領域で酸
素と一酸化炭素とが一緒にならないような構造になって
いる。それにも拘わらず、予想外のＣＯ燃焼の発生熱に
よって、触媒の温度が上昇して触媒が熱で、不活性化さ
れたり、供給原料に接触できる触媒の量を制限するとい
った処理への影響が生じたりする。ＦＣＣ処理を重い供
給原料に適用する場合に、上記の触媒温度、再生室温度
の制御の問題が一層深刻になる０重い残留供給原料では
コークスの発生が増加する傾向があるから、コークスや
ＣＯ燃焼に伴う過大発生熱のために、触媒の完全再生が
ますます難かしくなる。ＣＯ燃焼をできるだけ少なくす
る一方で充分な再生触媒を得ることができる一般的な方
法として多段階再生法がある。

ＣＯ燃焼をできるだけ少なくすることを別にしたとして
も、触媒上のコークスが増すと循環触媒約４５：１ｇ（
１ボンド）につき、再生室内で燃焼するコークスが増量
する。従来のＦＣＣ装置の再生室から奪われた熱は、煙
導ガスや、主に高熱再生触媒気流となる。使用済触媒上
のコークス量が多いと１反応室と再生室との間の温度差
が大きくなり再生触媒の温度が全体として高くなる。し
たがって、同一反応室温度を保つためには、循環触媒を
減量する必要がある。ところが、反応室と再生室との間
の大温度差に応じて低触媒循環にすると、炭化水素変換
が低下してしまうので、反応室を高動作温度にして所望
の変換レベルを維持しなければならなくなる。

上記の状況の下では、処理生成物の種類によっては意図
しない産出原料構造変化をきたす、また、触媒活性化に
実質的な悪影響を与えない範囲内で、ＦＣＣ触媒が許容
できる温度には限度がある。一般に、通常入手可能な最
新のＦＣＣ用触媒を使用すると、約７６０〜７９０℃（
１４００〜＋４５０’Ｆ）で活性化損失が極めて著しい
ので、再生触媒の温度は通常７６０°Ｃ（＋４００下）
以下に保たれる。

軽アラビヤ原油（Ｌｉｇｈｔ　Ａｒａｂｉａｎ　ｃｒｕ
ｄｅ　ｏｉｌ）から抽出したような、比較的−数的な還
元原料を従来のＦＣＣ装置へ供給し、ガスオイル原料の
ような軽い生成物に変換するのに必要な温度で処理する
と、再生室温度は８７０〜９８０℃（１６００〜１８０
０下）の範囲内となる。この温度は触媒にとって高すぎ
るばかりでなく、極めて高価な構造材を必要とし、さら
に触媒の循環率を非常に低下させる。したがって、再生
室温度を過大にする原料の処理に際して再生室から熱を
奪うことによって、再生室温度を下げて反応室と再生室
との間の温度差を小さくすることができる。

ＦＦＣ用触媒の再生において、多段階再生方式は周知で
ある。米国特許第３，９５８，９５３号は、共通のスペ
ースへ開口して使用済再生ガスを集め、触媒粒子を分離
するパンフルによって分離された同心触媒床を有する多
段階装置を開示している。マイヤ他の米国特許第４．２
９９．６８７号は、使用済触媒粒子がまず上部の濃い流
動性触媒床に入って、下部の触媒床からの再生ガスと新
しい再生ガスとに接触する積重ね触媒床をもつ多段再生
装置の使用を開示している。第１再生領域での部分再生
の後に、触媒粒子は新しい再生ガス流が供給されている
下部触媒床へ下降流によって送り込まれる。マイヤの発
明は残留原料を処理するものであり、２段階再生処理を
用いてＣＯ燃焼を制限し、再生室内の全体的熱発生を少
くしている。

シュタイン化の米国特許第３，８４４，９７３号、同第
３，９２３，６０６号は、比較的希釈された相再生領域
の使用による完全触媒再生を示している。シュタイン化
の発明はそもそも空気汚染、熱効率化、装置の小形化な
どの観点から完全ＣＯ燃焼を行なうもので、速い速度の
ガスを用いて濃い触媒床、比較的希釈された相再生領域
を介して触媒を移動させている。

ディーン他の米国特許第４，３３６．１０３号は、比較
的希釈された相再生領域と、濃い触媒床領域とを組み合
せて、残留原料分解用触媒を再生する２段階装置を示し
ている。ディーンの発明では、第１ｍ触媒床を用いて下
方再生部内のコークス燃焼を開始し、該下方再生部に続
く上方の希釈された相再生部を苛酷に動作させて再生お
よび一酸化炭素の燃焼を達成している。デイーンの発明
は積重ね式ＦＣＣ装置を変更して使用しており、この装
置では濃触媒再生部として、積重ね式の再生室を用いて
いるが、希釈相再生は積重ね式装置の側部に付設した室
内で行なうようになっている。

従来、再生室からの熱を除去するための一般的手段とし
て、触媒と接触する冷媒充填コイルを再生室内に設けて
いる０例えばメトリン化の米国特許第２，８１９，９５
１号、マツクキニーの米国特許第３，９９０，９９２号
、ピッガースの米国特許第４．２１９，４４２号は、第
２領域に冷却コイルを配置した２重領域再生室を用いる
ＦＣＣ方法を開示している。さらにＦＣＣ処理を示す従
来技術は多数あり、これらは再生室の外部に設けた、濃
厚または希釈相再生流動性触媒の熱の除去領域、すなわ
ち熱交換器を用いて高温再生触媒を冷却して再生室へ戻
している０例えば、ローマス化の米国特許第４，４３９
，５３３号に記載された外部熱除去領域では、熱除去領
域と再生室とに連通ずる１本の通路を介して両領域間で
触媒が循環される。

発明が解決しようとする課題 通常、積重ね方式のＦＣＣ装置は、１段再生だけで動作
する構造になっており、触媒からの熱を奪う外部手段を
装備していないので、そのままでは２段階再生および触
媒熱除去に適応できない、この種の装置に対する大幅１
２変更の必要性が認められており、現存の積重ね式ＦＣ
Ｃ装置はあまり存在価値がない、さらに、１段階再生を
部分ＣＯ燃焼モードで行なう場合に、積重ね式ＦＣＣ装
置が普通使用される０通常、部分ＣＯ燃焼動作する再生
室の構造は、完全ＣＯ再再生伴う高温度に適していない
、今日稼働している多くのＦＣＣ装置では部材の高品質
化が必要であり、そのために装置の利用性が低い。

多くの積重ね式装置が高動作温度に適合するように改良
されてきた。−数的な改良では、内部部材を一層耐熱性
の高い部材と交換し、かつ内部絶縁または外部対流装置
を用いて通路とか室周壁のような金属部材の表皮温度を
下げている。この観点からすると、従来の反応室の金属
材は高温化が望まれる反応室に通常適合しない。

反応室温度に制限が加わると変換作用も制限を受けるの
で、装置の反応室の交換が強く望まれる。

課題を解決するための手段 この発明の方法によると、積重ね式ＦＣＣ装置に用いら
れている多くの現存部材を２段階再生の新しい積重ね式
ＦＣＣ装置の一部分として使用し、さらに外部の熱除去
部を付設する。これによって従来の積重ね式ＦＣＣ装置
の処理能力を大幅に増大することができ５重い供給原料
の処理が安価に行なえるようになる。現存の反応室、再
生室、除去室を利用することが費用低減をもたらしてい
る。

この発明の方法によると、積重ね式ＦＣＣ装置は、大規
模な流動ＦＣＣ処理の一部に用いられる少なくとも２段
階再生の再生装置に変更される。最も簡単な変更方法で
は、従来の再生室を第１段階再生領域として用い、従来
の反応室を第２段階再生領域として用い、従来の反応室
、除去室を触媒熱除去領域として用いる。

したがって、この発明の１実施例においては、下部再生
室と、隣接する上部反応室と、下部再生室の下の部分か
らの触媒を取り出し上部反応室へ送り込むための外部通
路と、下部再生室へ使用済触媒を添加する手段と、下部
再生室の上方部分から再生ガスを回収する手段と、上部
反応室から側方にずれて設けられ、該反応室へ開口して
連通ずる除去室とを備えた積重ね式ＦＣＣ反応再生装置
を２段階再生装置に変更する。

この変更方法では、上部反応室の下方部分へ触媒を集取
する手段を付加し、上部反応室の上端から再生ガスを取
り出す手段を設けることによって上部反応室を第２段目
再生室として機能するように変更する。上記触媒集取手
段は、上部反応室から触媒を取り出すための触媒取出通
路に連通している。また、側部室から熱を取り出す熱交
換器と、該側部室へ流動化ガスを分配する手段とを付設
する。これによって従来の除去室が外部触媒熱除去領域
として機能することとなる。必要に応じ外部触媒通路を
変更して上昇ガス供給部にする。

この発明による変更方法、装置動作は上記に限定される
ものではない。

この発明の別の実施例によると、下部再生室からの触媒
を上部反応室へ運ぶための外部通路が、更に再生を行う
領域として機能する。

実施例 以下、実施例によりこの発明の詳細な説明する。

この発明の方法は、従来の積重ね式ＦＣＣ装置の機能を
変更するための工程を具備している。

この発明の方法を適用できる装置は、下部再生室の上方
に積重ねた上部反応室と、この上部反応室から垂下して
上部反応室に連通する除去室とを有している。この発明
の変更方法は、従来の積重ね式装置の側方へ新たな反応
室を設けることによって実現できるものであるから、変
更′後のＦＣＣ装置での供給原料処理能力は通常増大す
る。したがって、新たに反応室を付設できる積重ね式装
置であればこの発明の適用が可能である。

第１図はこの発明の方法を適用し得る積重ね式ＦＣＣ装
置を示す、第１図に示すように従来のＦＣＣ装置は下部
再生室１０と、上部反応室１２と、側部除去室１４とを
有している。下部再生室１０からの触媒は、再生された
触媒用の通路１６内を通り、制御弁２３を介して上昇外
部通路２０へ入る。この外部通路２０内では、炭化水素
供給通路１８からの供給原料である炭化水素に再生触媒
が接触する０通路ｌａ内の供給原料には、蒸気のような
流動化媒体を添加できる。供給原料と流動化媒体とから
生成された膨張性ガスは、外部通路２０内の触媒を上方
へ運び上昇内部通路２２へ導びく、触媒と供給原料とが
上昇通路内を上昇しているときに、供給原料である炭化
水素は低沸点の炭化水素生成物に分解する。

出口４４を通って触媒と炭化水素の混合物が内部通路２
２から排出されると、触媒蒸気と炭化水素蒸気の最初の
分離が行なわれる。出口４４の外側では大部分の炭化水
素蒸気が継続的に上方へ移動してサイクロン４６に入り
、このサイクロン４６が炭化水素蒸気から触媒をほぼ完
全に除去する０分離された炭化水素蒸気は頂部通路４８
を介して上部反応室１２から排出され、一方、分離され
た触媒は垂下脚通路５０を通って上部反応室１２の下方
部分へ戻る。内部通路２２の出口４４および垂下脚通路
５０からの触媒は、上部反応室１２の下方部分に集って
触媒床５２を形成する。一方、通路５４から除去室１４
へ供給された蒸気は、除去室１４内の下方向の触媒流に
対向する上昇流となって、触媒から吸着炭化水素を除去
する。除去された炭化水素は最終的にサイクロン４６に
よる気流によって回収される。炭化水素の除去を容易に
するために、下方向に煩斜した一連のバッツル５６を除
去室１４内に設ける。除去室１４の下部の円錐形部分６
０からの触媒は、使用済触媒用の通路５８によって除去
される０通路５８を通る触媒流は制御弁５９によって調
節する。

圧縮空気のような再生ガスは、通路３０を介して下部再
生室１０内に入る。空気分配器２８は下部再生室１０の
断面に亘って空気を分散させ１分散空気は使用済触媒床
３４に接触する０分配器２８からの酸素によって燃焼が
起り、触媒からコークスが除去される。燃焼副産物と未
反応空気成分は、とり込まれた触媒と一緒に下部再生室
１０内を上昇してサイクロン２６内に入る。触媒成分が
殆んどないガスは下部再生室１０の内部の内部室３８に
集まる。この内部室３８は、下部再生室１０からの使用
済再生ガスを除去するためのガス通路４０に連通してい
る。サイクロン２６で分離された触媒はサイクロン２６
から降下し、垂下脚通路４２を通って触媒床３４へ戻る
。

出口４４を介して反応室１２に入る触媒と、炭化水素と
の混合物の温度は通常５４０℃（１０００下）以下であ
る。したがって、反応室１２および除去室１４の周壁６
２は通常裏ばりなしの炭素鋼材とか低クロム材から作る
。また、サイクロン４６、内部通路２２、バッフル５６
のような反応室１２および除去室１４の内部装置も同様
な金属材から作る。したがって、通常は反応室１２、除
去室１４およびこれらの内部装置は、５４０℃（１００
０”Ｆ）以上の温度で行なわれる第２段階再生に使用す
ることができない、つまり、より高い温度に耐え得るよ
うに変更しない限り、反応室１２および除去室１４は２
段階再生法での第２段階再生に適合できない。

一方、下部再生室１０の周壁２４は、通常耐火レンガで
裏ばりした金属材から作られ、８１５℃（ｔｓｏ。

下）以上の内部温度に耐えることができる。したがって
、下部再生室１０自体は高い動作温度に適合する。とこ
ろが、下部再生室１０内の主要装置であるサイクロン２
６や空気分配器２８は高温動作に適合できない、このた
め、２段階再生法での第１段階に新たに設けた介装再生
装置を使用するとよい。

第２図はこの発明のＦＣＣ装置を示す、第１図の積重ね
装置を変更したものが第２図の装置の２段階再生系の一
部分を形成している。２段階再生装置は、上部反応室１
２と下部再生室１０の側部近くに設けた反応室６４を有
している０反応室６４は当業者に周知の上昇分解作用を
行なうようになっている。動作時に、再生された触媒は
Ｙ字形部分６６に入り、パイプライン６８から供給され
た供給原料である炭化水素に接触する。場合によっては
流動化媒体もパイプラインを介して供給される。したが
って膨張炭化水素蒸気や流動化媒体によって、触媒が外
部通路７０内を上方へ運ばれて内部通路７ｚ内へ入る。

上部反応室１２に関して蒸気したのと同様に、内部通路
７２の出口と、１対のサイクロン７４とによって触媒と
炭化水素蒸気とが分離され、炭化水素蒸気が上部蒸気通
路７５を介して反応室６４から排出される一方、触媒は
反応室６４の底部へ戻される０反応室６４の底部の触媒
は１分配器７８を介して流入する気流に抗して除去室７
６内を下方へと降下する。

除去室７６の底部で触媒は０．０５〜２．０重量％のコ
ークスを含み、この触媒が再生触媒通路８０を介して再
生室へ戻る。

従来約６５０℃（１２００”Ｆ）の限界温度をもつのが
、普通の低クロム金属で作られていたサイクロン２６や
、空気分配器２８を通常７９０℃（１４５０″Ｆ）まで
の温度に耐え得るステンレス鋼製に変更する。

付設の装置と共に反応室６４を設けたことによって、上
部反応室１２と除去室１４の機能が変るので、この発明
に従って上記の室とか積重ね式再生装置の残り部分を変
更すれば、再生容量や融通性を増すことができる。典型
的な積重ね方式装置に対して、反応室の追加および現存
の室の変更を行なうと、概ね２０〜６０％だけ供給容量
を増大できる。

第２図の変更積重ね式再生装置においてまず再生室を変
更するに際して、使用済触媒を反応室６４から下部再生
室１０へ運ぶための通路８０が付設される。第２図のも
のでは、下部再生室１０の側部に新たに入口ノズル８２
を設けて通路８０が下部再生室１０の内部と連通ずるよ
うにする。側部の除去室１４から下部再生室１０へ触媒
を運び込むのに、ノズル３２が依然として使用されてい
るので、新たなノズル８２を設ける必要がある。下部再
生室１０は、濃い触媒床３４をもつ第１段階再生領域と
して働く、付設ノズル８２以外の点では。

再生室１０は上記したのとほぼ同じに動作する。

好ましくは、第１段階再生を部分ＣＯ燃焼モードで動作
させる。この動作モードにおいては、入ってくる使用済
触媒上のコークスの約５０〜９０％が第１段階再生によ
って除去される。動作温度を下げて酸素必要量を低減す
るために、第１段階再生ではコークス燃焼中に発生する
一酸化炭素の部分酸化だけが行なわれる。この動作モー
ドでは温度が低く空気供給量も少くてすむので、現存装
置の再生室としての使用が容易となる。サイクロン２６
、空気分配器２８が低合金金属材から作られている再生
室１０の場合、下部再生室１０の温度が例えば６５０℃
（１２００下）以下と低ければ、上記金属材の動作寿命
が延びる。また、空気分配器２８での空気流量の設定量
はかなり低いから、下部再生室１０内のコークスや一酸
化炭素を全部燃焼するのに要する酸素量を全て供給する
ことができない、しかし、第１段階再生領域はコークス
やＣＯの完全燃焼に必要な空気の３０〜７０％しか使用
しないから、空気分配器２８は実質的な変更を加えなく
ても第１段階再生に適合できる。

第２図の装置でも、制御弁２３で決まる率で触媒が再生
触媒通路！６へと導びかれる。しかし、この装置では外
部通路２０へ入る触媒は部分的に再生されているに過ぎ
ない０通路１ｇ’から供給される空気が外部通路ｚＯの
底部の上記部分的再生触媒に接触して、触媒粒子からの
コークス燃焼をさらに行なう、このように、外部通路２
ｏは再生を更に行なう領域として機能する。上記空気は
上昇ガスの働きもし、外部通路２ｏ内で触媒粒子を上方
へ運んで上部反応室１２の底部へ供給する０通路１８′
からの空気を外部通路２０内へ噴出させる空気分配器が
設けられており、この分配器は第２図に示す簡単な開口
バイブ２１から戒っている。非常に大きな上昇通路に対
しては、外部通路２０の内径に亘って離間して配置され
た複数の出口を有する分配器を用いることができる０通
路１６、外部通路２０の下部部分に入る部分的再生触媒
の温度は、通常変更前の従来装置においてこの領域に入
る触媒の温度と同様に低いか、それ以下であるから、現
存の部材を２段階式装置に適合させて使用できる。触媒
が上昇通路内を上方へ移動するときに、コークスとコー
クス副産物が引続き燃焼するので、外部通路２０の上部
部分は下部部分よりも動作温度が高くなる。この温度状
態は、上部室１２が反応室として用いられ、触媒が上昇
するにつれて温度が下る場合のものと反対である。した
がって現存の外部通路２０の上部部分は、触媒の完全再
生に伴う高温（通常６５０℃（１２００下）以上）に適
合しない。

したがって、外部通路２０の上部部分はステンレス鋼の
ような高金属材製か、もしくは内部熱絶縁性のパイプ部
材と交換する必要がある。これとは別に、内部絶縁を除
去してパイプ表面を対流冷却することによって、外部通
路ｚＯの金属材の温度を下げることができる。僅かでは
あるが、上記対流冷却によって触媒から熱を奪い、上部
反応室ｌｚ内の触媒温度を全体的に下げる効果もあり、
これによって触媒に対する冷却必要量を低減できる。

上部反応室１２は放出室として機能し、かつ必要範囲で
第２段階燃焼領域として働く、未変換コークスやコーク
ス副産物が、外部通路２０がらの触媒が存する上部反応
室１２へ入った時に、上部反応室１２は燃焼領域として
働く、上部反応室１２内に濃い触媒床８４が形成され、
外部通路２ｏからの触媒はここへ流入する。濃触媒床８
４は内部ホッパ８６と同レベルまたはそれ以上のレベル
にある。内部通路２２が除去されているから、ホッパ８
６用の場所を確保できるのである。使用済再生ガスと、
取り込まれた触媒とが触媒床８４から上方へ移動してサ
イクロン４６′に入る。このサイクロン４６′において
触媒からガスが分離され、上方通路８８によって回収さ
れる一方、触媒粒子は触媒床８４へ戻される。上部反応
室１２の完全再生作用に供される使用済再生ガスは、１
〜２％の過剰酸素を含む、完全再生作用に伴う温度は高
温であるから、サイクロン４６はステンレス鋼製の新サ
イクロン４６′と交換する。触媒床８４からの充分に再
生された触媒粒子はホッパ８６に回収され、上部反応室
１２から離れ、再生触媒通路９０を通ってＹ字状部分６
６へ送り込まれる。

第２図の実施例においては、触媒床８４からの触媒は除
去室１４へも送り込まれる。この触媒は除去室１４の底
部から取り出され、冷却通路の働きをする通路５８を介
して下部再生室１０へ送り込まれる。除去室１４は、冷
却層！９４を付設し熱交換チューブ９６を挿入するとい
った変更が施こされている。熱交換チューブ９６はバヨ
ネット型のものである。冷却流体は通常水か飽和気流で
あり、分配ヘッド９８へ供給されてからバヨネット型チ
ューブへ分配される。バヨネット型チューブを出た冷却
流体は、室１０Ｇに回収されてから外部へ排出される。

触媒が冷却チューブ９６に接触すると下部再生部１０か
も熱を奪い比較的冷い触媒源を形成する。冷却装置は下
降流モードで動作し、比較的冷い触媒粒子を通路５８を
介して下部再生室１０の第１段階再生領域へ送る。冷却
装置を後方混合モードで動作させチューブ９６と潰触媒
床８４との間で触媒を循環させることもできる。

流動化ガスは通常空気であり、分配器１０２を介して除
去室１４内のチューブ９６の下方の場所へ供給される０
分配器１０２内への流動化媒体流は。

制御弁１０４）とよって調節する。導入する流動化媒体
の量は少なくして、触媒が冷却装置内を流れやすくし、
かつ触媒がチューブ９６の周りによく分配されるように
する。除去室１４内の下降触媒流が制御弁Ｓ９によって
遮断されると、空気量が増大し１分配器１０２を通って
濃触媒床８４と後方混合する触媒の量を増大させる。触
媒冷却装置の他の動作は先に述べた参考文献のものと同
じである。

他の若干簡単な実施例によると、除去室１４は後方混合
モードだけで作動する触媒冷却装置を収容する。この実
施例では第３図に示すように除去室１４の下部部分が室
１００′と分配ヘッド９８′とによって閉じられている
。第３図で、熱交換チューブ９６′は室１００′および
分配ヘッド９８′から上方へ延びている。流動化ガスは
室１００′の近くの分配器１０２’を介して除去室１４
に供給される。

この実施例の動作モードでは分配器１０２′から供給さ
れる流動化ガスによって、熱伝達および触媒床８４との
触媒交換が完全に制御される。この装置の場合、冷却さ
れた触媒粒子だけが第２段階再生に参入できるようにな
っているが、制御弁や触媒搬送通路を除去すれば装置動
作がもっと簡単になる。また、この実施例ではノズル３
２を用いて反応室６４からの使用済触媒を受は取ること
ができる。

この発明の詳細な説明したが、上記実施例によってこの
発明の範囲が限定されるものではない、特に、サイクロ
ン、空気分配器、触媒通路のような各種の現存部材を利
用する例について説明したが、再生室、反応室、除去室
以外の特定部材を変更するものであれば、この発明を適
用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の積重ね式ＦＣＣ装置を示す正面図、第２
図はこの発明の実施例の正面図、第３図はこの発明の他
の実施例の要部正面図である。 １０・・・下部再生室　　　１２・・・上部反応室１４
・・・除去室　　　　　１８・・・炭化水素供給手段１
ｇ’・・・上昇ガス供給手段 ２０・・・外部通路　　　　４０・・・再生ガス回収手
段４８・・・炭化水素蒸気取出手段 ５８・・・添加手段　　　　６４・・・側部反応室７０
・・・上昇通路　　　　７６・・・除去室８０・・・添
加手段　　　　８６・・・収集手段８８・・・再生ガス
取出手段

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下部再生室１０と、隣接する上部反応室１２と、下
   部再生室１０の下方部分からの触媒を取り出し上部反応
   室１２へ送り込むための外部通路２０と、外部通路２０
   内へ供給原料である炭化水素を供給する手段１８と、下
   部再生室１０へ使用済触媒を添加する手段５８と、下部
   再生室１０の上部部分から再生ガスを回収する手段４０
   と、上部反応室１２の上部部分から炭化水素蒸気を取り
   出す手段と、上部反応室１２から側方にずれて設けられ
   該反応室へ開口して連通する除去室１４とを備えた積重
   ね式の流動性触媒分解装置を変更することによる２段階
   流動性触媒分解装置を製造する方法であって、 （ａ）上部反応室１２の下方部分へ触媒を収集する手段
   ８６を付加し、この収集手段を介して上部反応室１２の
   下方部分に連通して上部反応室１２から触媒を取り出す
   触媒取出通路９０を付加し、炭化水素蒸気取出手段４８
   を上部反応室１２の上端から再生ガスを取り出す手段８
   ８と交換することによって、上部反応室１２を第２段階
   再生室として機能するように変更する工程と、 （ｂ）除去室１４からの熱を奪う手段９４と、流動化ガ
   スを除去室１４内へ分配する手段１０２とを設けること
   によって、除去室１４を外部触媒熱除去領域として機能
   するように変更する工程と、 （ｃ）供給原料である炭化水素の供給手段を外部通路内
   へ上昇ガスを供給する手段１８′で交換する工程と、 （ｄ）触媒取出通路９０から再生触媒を取りいれる上昇
   通路７０と、使用済触媒を下部再生室１０へ加える手段
   ８０へ該使用済触媒を供給する除去室７６とを有する側
   部反応室６４を、前記積重ね式の流動性触媒分解装置へ
   付加する工程とを備えた２段階流動性触媒分解装置の製
   造方法。 ２、請求項１において、工程（ｃ）で使用済触媒添加手
   段５８が、除去室１４からの触媒を下部再生室１０へ送
   り込むための冷却通路として用いられる２段階流動性触
   媒分解装置の製造方法。 ３、請求項１において、工程（ｃ）で外部通路２０に沿
   つて触媒を冷却する手段を付加する２段階流動性触媒分
   解装置の製造方法。 ４、請求項１において、工程（ｂ）の熱を奪う手段が複
   数個のバヨネット型熱交換チューブ９６、または後方混
   合式冷却装置９６′である２段階流動性触媒分解装置の
   製造方法。５、請求項１〜４のいずれかによって製造さ
   れた２段階分解装置を有する流動性触媒分解用上昇装置
   。 ６、流動性触媒を用いて反応領域内の供給原料である炭
   化水素気流を変換する方法であつて、使用済触媒を反応
   領域から取り出して流動性触媒再生領域内で連続的に再
   生し、反応領域と再生領域とが請求項１の積重ね式の反
   応再生装置を構成してなる前記変換方法において、請求
   項１〜４のいずれかに記載の工程に従って積重ね式の装
   置を、２段階流動性触媒分解用触媒再生器を有する流動
   性触媒分解用上昇装置に変更する方法。