JPH039559A - 半導体集積装置 - Google Patents

半導体集積装置

Info

Publication number
JPH039559A
JPH039559A JP1144845A JP14484589A JPH039559A JP H039559 A JPH039559 A JP H039559A JP 1144845 A JP1144845 A JP 1144845A JP 14484589 A JP14484589 A JP 14484589A JP H039559 A JPH039559 A JP H039559A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
channel
transistor
trs
surge
resistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1144845A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3100137B2 (ja
Inventor
Yoichi Imamura
陽一 今村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP01144845A priority Critical patent/JP3100137B2/ja
Publication of JPH039559A publication Critical patent/JPH039559A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3100137B2 publication Critical patent/JP3100137B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 CU業上の利用分野] 本発明は、相補型電界効果トランジスタ(以下0MO3
と略記する)の静電気保護装置に関する。
[従来の技術] 従来の0MO3半導体集積回路の保護装置は1例えば特
公昭62−57819に示される様に入力もしくは出力
端子に直+A接続された保護装置が一般的であった。す
なわち端子から入って(るサージ′4圧を抵抗手段で減
衰させながら、直接電源に放電させる経路を作るもので
あった。
[発明が解決しようとする課題] しかし、前述の従来技術では、半導体集積回路の加工寸
法が微細化するにつれ、従来の方法では充分な保謔がで
きない場合が出てきた。半導体集積回路が微細化された
場合、トランジスタのチャネル長は、2g4図に示すP
+とN+拡散間の距離より短くなり、従来と逆転する。
このため、第1図のダイオード4,5.14が働かなく
なり、従来充分な破壊耐圧を有していた比較的ドレイン
面積の大きな出力端子でも破壊するようになった。この
厘由はドレインのPN接合の逆耐圧に比べて出力トラン
ジスタのソース・ドレイン間のパンチスルー電圧が低く
なり、本来阻止されるべきトランジスタ部を介してサー
ジ電荷が放電されるようKなりたためである。これによ
り出カド2ンジスタのドレイン拡散のゲート直下の接合
が低いサージ電圧で破壊されてしまうという課題を有す
る。
そこで本発明は、このような問題点を解決するもので、
その目的とするところは、0MO8集積回路の電源間(
VCQ−GND)にある逆接合と並列に電界効果型トラ
ンジスタを設け、前記逆接合部のサージ電荷の放電能力
を高めることにより、従来よりチャネル長の短い出力ト
ランジスタを用いた場合でも、従来と同水準のサージ電
圧に耐え得ることのできる保護装置を提供することKあ
る。
[課題を解決するための手段] 本発明の保護装置は、入力もしくは出力端子と入力トラ
ンジスタのゲートもしくは出力トランジスタのドレイン
をつなぐ配線に一端を接続し、他端を電源もしくはグラ
ンドに接続された第1と第2のダイオードと、ソースも
しくはドレインの一方をDtl記′L4源に接続し、他
方をグランドに接続し、ゲートはオフIll!I電位に
抵抗を介して接続してなる艶縁ゲート型電界効果トラン
ジスタを備えたことを特徴とする。
[実施例] 第1因は、本発明の一笑流側を示す保護回路であって、
0M0Sインバータを出力回路とした場合である。第5
図は、第1図の破線枠10で囲まれた部分の集積回路の
平面パターン図の一例を示したものである。第4図は、
拡散部分に着目して第5図の断面構造を示した図である
。第2図は、本発明の考え方を入力端子に適用した場合
の保藷回路の一例を示す図である。
さて第1図において、端子1は電源であり、−船釣な回
路では、励作詩に故Vの電圧が端子3のグランドとの間
に印刷される。端子2は、PチャンネルMO8)ランジ
スタ11とNチャネルトランジスタ12からなるインバ
ータの出力端子である。PチャネルMO8)ランジスタ
9は、ソースとゲートを電源Wooに接続し、ドレイン
をグランド3に接続した通常非導通のトランジスタであ
る。トランジスタ9のチャネル長は、集積回路内のトラ
ンジスタの最短のチャネル長と同一にするまたトランジ
スタ11,12のチャネル長は、トランジスタ9よりも
わずかに長(す、る。トランジスタt1.12のチャネ
ル長を長(しない場合は、トランジスタ11,12のド
レインに抵抗4.5より大きな抵抗を抵抗10とは別K
vける。
こうすることによりてサージ電荷の放電しきい値電圧は
、第1図のAもしくはBの経路が最小となる。ダイオー
ド4,5の逆方向やトランジスタ11.12のチャネル
を通る経路は、経路A、Bよりも高い電圧でないと放電
経路が形成されないため、サージ電荷は経路A、Eをシ
先して流れる。
抵抗8,10は、保護抵抗で、拡散もしくは多結晶シリ
コン等の半導体県債回路内の導電性材料を用いて形成さ
れる。ダイオード4.5は、従来の保護装置で用いられ
ているP”W−、N”P−接合で、端子2と電源1,5
の間に接続される。抵抗/、、7.16は、通常ダイオ
ード4,5.16を形成するときに必然的にできるPウ
ェル、Hウェル抵抗である。サージ電荷が流れた場合、
抵抗6.7とトランジスタ9とでサージ電圧が分圧され
トランジスタ9の破壊耐圧を上げる働きをする。抵抗1
0は、出力トランジスタのドレイン面積が小さい場合に
、サージ耐圧を上げるために付加される0Ωから数10
00の抵抗である。第5図は、抵抗10がない場合を示
しである。本発明では、OUT端子2に印加されたサー
ジ電荷は、第1図のAもしくはB経路をたどって電源端
子1゜5に放電される。経路Aは、vcc端子1に対し
”(OUT端子2がマイナスのサージ電圧を受けた場合
である。一方経路Bは、GND端子3に対して0υで端
子がプラスのサージを受けた場合である。この場合ダイ
オード4,5は順方向にバイアスされるので、破壊され
にくい。非導通のPチャネルトランジスタ9は、高電圧
サージがソース・ドレイン間に印加されるとパンチスル
ーやソースドレインそれにサブからなる寄生PIPバイ
ボー2トランジスタがオンし、サージ電流が流れるこの
とき抵抗6,7がサージ電流なM限し、またサージ電圧
を分圧をするので、トランジスタ11.12をサージ電
流が流れる場合に比べてトランジスタ9は破壊されにく
い。したがってトランジスタ9のチャネル幅は、電流集
中を緩和する目的で、できるだけ長(することが望まし
い。第3図、第4図に示すようにトランジスタ9は、サ
ブ−サブ領域に形成できるため、大きな集積回路面接を
必要とせず、長いチャネル幅のトランジスタを作ること
ができる。また第3図では省略しであるが、ダイオード
4,5を形成する拡散部は金属配線により均一に低抵抗
化して、経路A、Bのインピーダンスを最小化する必要
がある。
以上本発明によれば、トランジスタ9に相当するトラン
ジスタは、NチャネルMO8)ランジスタでも良く、ま
たPチャネルMO8)ランジスタとNチャネルMO3)
ランジスタを並列に設けても良いことは明らかである。
また第2図に示されるように入力端子忙対しても、同一
の考え方で本発明の保護回路を適用することができる。
[発明の効果コ 以上述べたように本発明によれば、半導体集積回路の加
工寸法に応じてサージ電荷の放電経路を最適化できるた
め、本保護装置を設けるために加工プロセス条件の変更
、追加を必要とせず、また再現性の高い仔細装置が得ら
れる。またトランジスタ9は、直接OUT端子につなが
らないので、本来の回路動作に影響を与えることはない
。さらにサブ−サブ領域を使ってトランジスタ9を形成
できるので、集積回路化に有利で、応用の自由度が高い
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の保ん装置の一槽成例を示す図。 第2図は、本発明を入力端子に適用した場合の構成を示
す図。 第3図は、本発明の保護装置の葉間回路パターンを示す
略図。 第4図は、第5図の断面図。 1・・・・・・・・・・・・電源Vcc2・・・・・・
・・・・・・出力端子 5°゛°゛°°°°゛°°グランドGND4.5・・・
・・・保護ダイオード 9・・・・・・・・・・・・PチャネルMO8)ジンジ
スタ8.10・・・保護抵抗 11.12・・・出力トランジスタ 以上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 入力もしくは出力端子と入力トランジスタのゲートもし
    くは出力トランジスタのドレインをつなぐ配線に一端を
    接続し、他端を電源もしくはグランドに接続された第1
    と第2のダイオードと、ソースもしくはドレインの一方
    を前記電源に接続し、他方をグランドに接続し、ゲート
    はオフ側電位に抵抗を介して接続してなる絶縁ゲート型
    電界効果トランジスタを備えたことを特徴とする相補型
    電界効果トランジスタの保護装置。
JP01144845A 1989-06-07 1989-06-07 半導体集積装置 Expired - Lifetime JP3100137B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01144845A JP3100137B2 (ja) 1989-06-07 1989-06-07 半導体集積装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01144845A JP3100137B2 (ja) 1989-06-07 1989-06-07 半導体集積装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10373587A Division JP3141865B2 (ja) 1998-12-28 1998-12-28 半導体集積装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH039559A true JPH039559A (ja) 1991-01-17
JP3100137B2 JP3100137B2 (ja) 2000-10-16

Family

ID=15371760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP01144845A Expired - Lifetime JP3100137B2 (ja) 1989-06-07 1989-06-07 半導体集積装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3100137B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61246995A (ja) * 1985-04-24 1986-11-04 Fujitsu Ltd 不揮発性ランダムアクセスメモリ装置
US5276350A (en) * 1991-02-07 1994-01-04 National Semiconductor Corporation Low reverse junction breakdown voltage zener diode for electrostatic discharge protection of integrated circuits
US5491655A (en) * 1993-07-08 1996-02-13 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device having non-selecting level generation circuitry for providing a low potential during reading mode and high level potential during another operation mode
CN112491395A (zh) * 2019-09-11 2021-03-12 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 单元电路

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61246995A (ja) * 1985-04-24 1986-11-04 Fujitsu Ltd 不揮発性ランダムアクセスメモリ装置
US5276350A (en) * 1991-02-07 1994-01-04 National Semiconductor Corporation Low reverse junction breakdown voltage zener diode for electrostatic discharge protection of integrated circuits
US5491655A (en) * 1993-07-08 1996-02-13 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device having non-selecting level generation circuitry for providing a low potential during reading mode and high level potential during another operation mode
US5506805A (en) * 1993-07-08 1996-04-09 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Static semiconductor memory device having circuitry for enlarging write recovery margin
US5515326A (en) * 1993-07-08 1996-05-07 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Static semiconductor memory device having circuitry for lowering potential of bit lines at commencement of data writing
US5544105A (en) * 1993-07-08 1996-08-06 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Static semiconductor memory device having circuitry for lowering potential of bit lines at commencement of data writing
US5629900A (en) * 1993-07-08 1997-05-13 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device operable to write data accurately at high speed
US5659513A (en) * 1993-07-08 1997-08-19 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Static semiconductor memory device having improved characteristics
CN112491395A (zh) * 2019-09-11 2021-03-12 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 单元电路

Also Published As

Publication number Publication date
JP3100137B2 (ja) 2000-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6140682A (en) Self protected stacked NMOS with non-silicided region to protect mixed-voltage I/O pad from ESD damage
JP3246807B2 (ja) 半導体集積回路装置
US4893157A (en) Semiconductor device
US4672584A (en) CMOS integrated circuit
US5087955A (en) Input-output circuit of reduced device area for semicustom semiconductor integrated circuit
US5663678A (en) ESD protection device
US7777294B2 (en) Semiconductor device including a high-breakdown voltage MOS transistor
KR100325190B1 (ko) 반도체집적회로
KR100387189B1 (ko) 절연체상반도체장치및그보호회로
JPH08274267A (ja) 半導体装置
US7859808B2 (en) Electrostatic protection circuit
JP3149999B2 (ja) 半導体入出力保護装置
JP3141865B2 (ja) 半導体集積装置
JPH039559A (ja) 半導体集積装置
KR940004455B1 (ko) Cmos 반도체 집적 회로 장치
KR100347397B1 (ko) 반도체 집적회로용 입출력 보호 장치
JPH06244371A (ja) 半導体装置
EP0083699A2 (en) Protective circuit for semiconductor devices
JPS6233752B2 (ja)
US5432369A (en) Input/output protection circuit
JP2870923B2 (ja) 半導体集積回路の保護回路
JP3274561B2 (ja) 半導体集積回路
JPH0412627B2 (ja)
JP3779256B2 (ja) 半導体装置
JPH0532908B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070818

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080818

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080818

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090818

Year of fee payment: 9

EXPY Cancellation because of completion of term