JPH0399842A - ガス遮断性材料 - Google Patents
ガス遮断性材料Info
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- JPH0399842A JPH0399842A JP23847189A JP23847189A JPH0399842A JP H0399842 A JPH0399842 A JP H0399842A JP 23847189 A JP23847189 A JP 23847189A JP 23847189 A JP23847189 A JP 23847189A JP H0399842 A JPH0399842 A JP H0399842A
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- Japan
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- ethylene
- mol
- vinyl acetate
- evoh
- silane
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
A、産業上の利用分野
本発明は、高湿度下においても優れたガス遮断性を有す
るガス遮断性材料に関する。
るガス遮断性材料に関する。
1エに嵐二玖丘
近年、様々な用途においてガス遮断性材料に対する要求
は益々高度化しつつあり、従来、各種ガス(例えば酸素
)遮断性材料の機能高度化に関する研究開発が盛んに行
われている。種々のガス遮断性材料の中で、エチレン−
ビニルアルコール共重合樹脂(以後、EVOH樹脂と略
記する)は優れたガス遮断性の故をもって広範囲な用途
に使用されている事は周知の事実であるが、市場の要求
の高度化・多様化により対応出来ない用途が多々出て来
ていることも事実である。
は益々高度化しつつあり、従来、各種ガス(例えば酸素
)遮断性材料の機能高度化に関する研究開発が盛んに行
われている。種々のガス遮断性材料の中で、エチレン−
ビニルアルコール共重合樹脂(以後、EVOH樹脂と略
記する)は優れたガス遮断性の故をもって広範囲な用途
に使用されている事は周知の事実であるが、市場の要求
の高度化・多様化により対応出来ない用途が多々出て来
ていることも事実である。
EVOH樹脂の場合、とくに高湿度下におけるガス遮断
性の劣化が問題となる。この問題を解決するために、た
とえばEV○H樹脂膜表面に金属酸化物の薄膜を蒸着法
により設けることも考えられるが、致命的な欠陥が認め
られる。即ち、屈曲、摩擦等の機械的な外力を受けた場
合、層間接着性が不充分であるため改質効果が著しく損
なわれ、場合によっては効果が殆ど無に帰する事である
。
性の劣化が問題となる。この問題を解決するために、た
とえばEV○H樹脂膜表面に金属酸化物の薄膜を蒸着法
により設けることも考えられるが、致命的な欠陥が認め
られる。即ち、屈曲、摩擦等の機械的な外力を受けた場
合、層間接着性が不充分であるため改質効果が著しく損
なわれ、場合によっては効果が殆ど無に帰する事である
。
この現象はプラスチックスにこの種の処理をした場合に
一般的に認められる事であり、EVOH樹脂の場合も例
外ではない。この欠陥を改善するため、一般的に密着性
改善の為に採用されるサンドブラストの様な物理的表面
処理、コロナ放電あるいはプライマー塗布などの化学的
表面処理をEV○H樹脂膜に適用したが満足のゆく改善
効果は認められなかった。
一般的に認められる事であり、EVOH樹脂の場合も例
外ではない。この欠陥を改善するため、一般的に密着性
改善の為に採用されるサンドブラストの様な物理的表面
処理、コロナ放電あるいはプライマー塗布などの化学的
表面処理をEV○H樹脂膜に適用したが満足のゆく改善
効果は認められなかった。
C1発明が解決しようとする課題
本発明は、前記欠点を改善したもので、高湿度下におい
ても優れたガス遮断性を有し、しかも屈曲、摩擦等の機
械的な外力を受けても優れたガス遮断性が維持されるガ
ス遮断性材料である。
ても優れたガス遮断性を有し、しかも屈曲、摩擦等の機
械的な外力を受けても優れたガス遮断性が維持されるガ
ス遮断性材料である。
00課題を解決するための手段
本発明者等は、EVOH樹脂の、特に高湿度下における
ガス遮断性の劣化を改良するべく、EV○H栃脂組成物
表面に金属酸化物の薄膜を蒸着法により設ける方法に関
して鋭意検討を重ねた結果、屈曲、摩擦等の機械的な外
力を受けた場合に効果が殆ど無に帰すると言う通常のE
VOHの場合に見られる当該方法の致命的な欠陥が、エ
チレン、酢酸ビニル及びビニルシラン系化合物の共重合
体をけん化して得た、シラン含有エチレン−酢酸ビニル
共重合体けん化物(以下5i−EVOHと略称する)を
使用する事で改善される事を新たに見出だし本発明を完
成するに至った。5i−EVQH樹脂膜上に金属酸化物
の薄膜を設けた場合、EVOH樹脂膜を使用する場合に
くらべ、優れた効果が得られることは後述する実施例お
よび比較例から明らかである。
ガス遮断性の劣化を改良するべく、EV○H栃脂組成物
表面に金属酸化物の薄膜を蒸着法により設ける方法に関
して鋭意検討を重ねた結果、屈曲、摩擦等の機械的な外
力を受けた場合に効果が殆ど無に帰すると言う通常のE
VOHの場合に見られる当該方法の致命的な欠陥が、エ
チレン、酢酸ビニル及びビニルシラン系化合物の共重合
体をけん化して得た、シラン含有エチレン−酢酸ビニル
共重合体けん化物(以下5i−EVOHと略称する)を
使用する事で改善される事を新たに見出だし本発明を完
成するに至った。5i−EVQH樹脂膜上に金属酸化物
の薄膜を設けた場合、EVOH樹脂膜を使用する場合に
くらべ、優れた効果が得られることは後述する実施例お
よび比較例から明らかである。
本発明者等は、先に、EVOH樹脂膜中に金属酸化物を
含有せしめることにより、金属酸化物を含有せしめない
場合にくらべ優れた効果が得られることを見出だし、既
に特許出願済みであるが、本発明は、金属酸化物をEV
OH甜脂膜牛脂膜中せしめることによると同様の効果が
得られ、かつヘイズの悪化などの問題がない点でより優
れた方法である。
含有せしめることにより、金属酸化物を含有せしめない
場合にくらべ優れた効果が得られることを見出だし、既
に特許出願済みであるが、本発明は、金属酸化物をEV
OH甜脂膜牛脂膜中せしめることによると同様の効果が
得られ、かつヘイズの悪化などの問題がない点でより優
れた方法である。
また、特開昭60−144304には、シランを含有す
るオレフィン性単量体を共重合した、酢酸ビニル成分の
けん化度95モル%以上、エチレン含有量25モル〜6
0モル%、シランを含有するオレフィン性化合物含有量
0.0005〜O12モル%である5i−EVOHなる
溶融成形材料について述べられている。しかし上記特開
昭には5i−EVOHが耐ストレスクラツキング性、酸
素等のガス遮断性の温度依存性、耐極性溶剤性、耐水性
等が改良される事には言及しているが、5L−EVOH
樹脂膜表面に金属酸化物の薄膜を設けることによって、
高湿度下においても優れたガス遮断性を有し、しかも屈
曲、摩擦等の機械的な外力を受けても優れたガス遮断性
が維持される事実に関する記述はなく、本発明は全く別
の着想に基ずく新規な発明である。
るオレフィン性単量体を共重合した、酢酸ビニル成分の
けん化度95モル%以上、エチレン含有量25モル〜6
0モル%、シランを含有するオレフィン性化合物含有量
0.0005〜O12モル%である5i−EVOHなる
溶融成形材料について述べられている。しかし上記特開
昭には5i−EVOHが耐ストレスクラツキング性、酸
素等のガス遮断性の温度依存性、耐極性溶剤性、耐水性
等が改良される事には言及しているが、5L−EVOH
樹脂膜表面に金属酸化物の薄膜を設けることによって、
高湿度下においても優れたガス遮断性を有し、しかも屈
曲、摩擦等の機械的な外力を受けても優れたガス遮断性
が維持される事実に関する記述はなく、本発明は全く別
の着想に基ずく新規な発明である。
以下、本発明を更に詳しく説明する。本発明において、
5i−EVOH樹脂膜とは5i−EVOH樹脂フィルム
、またはシートであり、その厚みはとくに制限されない
が、5〜2000μm、好適には5〜300μm程度で
ある。
5i−EVOH樹脂膜とは5i−EVOH樹脂フィルム
、またはシートであり、その厚みはとくに制限されない
が、5〜2000μm、好適には5〜300μm程度で
ある。
また、ビニルシラン系化合物としては、下記の(I>、
(IF)及び(I[[)で示される化合物の中から選ば
れた1種または2種以上の物を好適に用いる事が出来る
。
(IF)及び(I[[)で示される化合物の中から選ば
れた1種または2種以上の物を好適に用いる事が出来る
。
[但し、ここでnは0〜1、mは0〜2、R1は低級ア
ルキル基、アリル基、又はアリル基を有する低級アルキ
ル基、R2は炭素数1〜40の飽和分岐又は非分岐のア
ルコキシル基であり、該アルコキシル基は酸素を含有す
る置換基を有していても良い、R3は水素又はメチル基
、R4は水素又は低級アルキル基、R5はアルキレン基
又は連鎖炭素原子が酸素もしくは窒素によって相互に結
合された2価の有機残基、R6は水素、ハロゲン、低級
アルキル基、アリル基、又はアリル基を有する低級アル
キル基、R7はアルコキシル基又はアシロキシル基であ
り、該アルコキシル基又はアシロキシル基は酸素もしく
は窒素を含有する置換基を有していても良い。R8は水
素、ハロゲン、低級アルキル基、アリル基、又はアリル
基を有する低級アルキル基、R9は低級アルキル基であ
る。]更に詳しく述べれば、R1は炭素数1〜5の低級
アルキル基、炭素数6〜18のアリル基、又は炭素数6
〜18のアリル基を有する炭素数1〜5の低級アルキル
基、R4は水素又は炭素数1〜5の低級アルキル基、R
5は炭素数1〜5のアルキレン基又は連頒炭素原子が酸
素もしくは窒素によって相互に結合された2価の有機残
基、R6は水素、ハロゲン、炭素数1〜5の低級アルキ
ル基、炭素数6〜18のアリル基、又は炭素数6〜18
のアリル基を有する炭素数1〜5の低級アルキル基、R
8は水素、ハロゲン、炭素数1〜5の低級アルキル基、
炭素数6〜18のアリル基、又は炭素数6〜18のアリ
ル基を有する炭素数1〜5の低級アルキル基、R9は炭
素数1〜5の低級アルキル基である。
ルキル基、アリル基、又はアリル基を有する低級アルキ
ル基、R2は炭素数1〜40の飽和分岐又は非分岐のア
ルコキシル基であり、該アルコキシル基は酸素を含有す
る置換基を有していても良い、R3は水素又はメチル基
、R4は水素又は低級アルキル基、R5はアルキレン基
又は連鎖炭素原子が酸素もしくは窒素によって相互に結
合された2価の有機残基、R6は水素、ハロゲン、低級
アルキル基、アリル基、又はアリル基を有する低級アル
キル基、R7はアルコキシル基又はアシロキシル基であ
り、該アルコキシル基又はアシロキシル基は酸素もしく
は窒素を含有する置換基を有していても良い。R8は水
素、ハロゲン、低級アルキル基、アリル基、又はアリル
基を有する低級アルキル基、R9は低級アルキル基であ
る。]更に詳しく述べれば、R1は炭素数1〜5の低級
アルキル基、炭素数6〜18のアリル基、又は炭素数6
〜18のアリル基を有する炭素数1〜5の低級アルキル
基、R4は水素又は炭素数1〜5の低級アルキル基、R
5は炭素数1〜5のアルキレン基又は連頒炭素原子が酸
素もしくは窒素によって相互に結合された2価の有機残
基、R6は水素、ハロゲン、炭素数1〜5の低級アルキ
ル基、炭素数6〜18のアリル基、又は炭素数6〜18
のアリル基を有する炭素数1〜5の低級アルキル基、R
8は水素、ハロゲン、炭素数1〜5の低級アルキル基、
炭素数6〜18のアリル基、又は炭素数6〜18のアリ
ル基を有する炭素数1〜5の低級アルキル基、R9は炭
素数1〜5の低級アルキル基である。
(1)で表されるビニルシラン系化合物としては、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン
、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルメチルジェトキシシラン、ビニルジメチ
ルエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリル
メチルジメトキシシラン、アリルジメチルメトキシシラ
ン、アリルトリエトキシシラン、アリルメチルジェトキ
シシラン、アリルジメチルエトキシシラン、ビニルトリ
ス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルイソブチル
ジメトキシシラン、ビニルエチルジメトキシシラン、ビ
ニルトリブトキシシラン、ビニルメトキシジブトキシシ
ラン、ビニルジメトキシブトキシシラン、ビニルトリヘ
キシロキシシラン、ビニルジトキシジへキシロキシラン
、ビニルジメトキシへキシロキシシラン、ビニルトリオ
クチロキシシラン、ビニルメトキシジブトキシシラン、
ビニルジメトキシオクチロキシシラン、ビニルメトキシ
ジブトキシシラン、ビニルジメトキシオクチロキシシラ
ン、ビニルメトキシジオ・レイロキシシラン、ビニルジ
メトキシオクチロキシシラン等が挙げられるが、経済的
にみてビニルトリメトキシシランが好ましい。
ルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン
、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルメチルジェトキシシラン、ビニルジメチ
ルエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリル
メチルジメトキシシラン、アリルジメチルメトキシシラ
ン、アリルトリエトキシシラン、アリルメチルジェトキ
シシラン、アリルジメチルエトキシシラン、ビニルトリ
ス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルイソブチル
ジメトキシシラン、ビニルエチルジメトキシシラン、ビ
ニルトリブトキシシラン、ビニルメトキシジブトキシシ
ラン、ビニルジメトキシブトキシシラン、ビニルトリヘ
キシロキシシラン、ビニルジトキシジへキシロキシラン
、ビニルジメトキシへキシロキシシラン、ビニルトリオ
クチロキシシラン、ビニルメトキシジブトキシシラン、
ビニルジメトキシオクチロキシシラン、ビニルメトキシ
ジブトキシシラン、ビニルジメトキシオクチロキシシラ
ン、ビニルメトキシジオ・レイロキシシラン、ビニルジ
メトキシオクチロキシシラン等が挙げられるが、経済的
にみてビニルトリメトキシシランが好ましい。
(ffl>で表されるビニルシラン系化合物としては、
3−(メタ)アクリルアミドプロピルトリメトキシシラ
ン、3−(メタ)アクリルアミドプロピルトリエトキシ
シラン、3−(メタ)アクリルアミドプロピルトリス(
β−メトキシエトキシ)シラン、3−(メタ)アクリル
アミドプロピルトリス(N−メチルアミノエトキシ)シ
ラン、2−(メタ)アクリルアミドエチルトリメトキシ
シラン、(メタ)アクリルアミドメチルトリメトキシシ
ラン、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロと
ルトリメトキシシラン、2−〈メタ)アクリルアミドプ
ロピルトリメトキシシラン、N−(2−(メタ)アクリ
ルアミドエチル)−アミノプロピルトリメトキシシラン
、(3−(メタ)アクリルアミドプロピル〉−オキシプ
ロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリルアミ
ドプロピルトリアセトキシシラン、2−(メタ)アクリ
ルアミドエチルトリアセトキシシラン、4−(メタ)ア
クリルアミドブチルトリアセトキシシラン、3−(メタ
)アクリルアミドプロピルトリプロピオニロキシシラン
、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロとルト
リアセトキシシラン、N−(2−(メタ)アクリルアミ
ドエチル)アミノプロピルトリアセトキシシラン、3−
(メタ)アクリルア、ミドプロピルイソブチルジメトキ
シシラン、2−(メタ)アクリルアミドエチルジメチル
メトキシシラン、3−(メタ)アクリルアミドプロピル
オクチルジアセトキシシラン、(メタ)アクリルアミド
メチルフエニルジアセトキシシラン、3−(メタ)アク
リルアミドプロピルベンジルジェトキシシラン、3−(
N−メチル−(メタ)アクリルアミド)−プロピルトリ
メトキシシラン、2−(N−エチル−(メタ)アクリル
アミド)−エチルトリアセトキシシラン、2−(メタ)
アクリルアミド−2−メチルプロピルモノクロルジメト
キシシラン、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチル
プロピルモノハイドロジエンジメトキシシラン等が挙げ
られるが、経済的にみて3−(メタ)アクリルアミドプ
ロピルトリメトキシシラン及び3−(メタ)アクリルア
ミドプロピルトリアセトキシシランが好ましく、又酸又
は塩基に対する安定性の点で2−(メタ)アクリルアミ
ド−2−メチルプロとルトリメトキシシラン及び2−く
メタ)アクリルアミド−2−メチルプロピルトリアセト
キシシランが好ましい。
3−(メタ)アクリルアミドプロピルトリメトキシシラ
ン、3−(メタ)アクリルアミドプロピルトリエトキシ
シラン、3−(メタ)アクリルアミドプロピルトリス(
β−メトキシエトキシ)シラン、3−(メタ)アクリル
アミドプロピルトリス(N−メチルアミノエトキシ)シ
ラン、2−(メタ)アクリルアミドエチルトリメトキシ
シラン、(メタ)アクリルアミドメチルトリメトキシシ
ラン、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロと
ルトリメトキシシラン、2−〈メタ)アクリルアミドプ
ロピルトリメトキシシラン、N−(2−(メタ)アクリ
ルアミドエチル)−アミノプロピルトリメトキシシラン
、(3−(メタ)アクリルアミドプロピル〉−オキシプ
ロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリルアミ
ドプロピルトリアセトキシシラン、2−(メタ)アクリ
ルアミドエチルトリアセトキシシラン、4−(メタ)ア
クリルアミドブチルトリアセトキシシラン、3−(メタ
)アクリルアミドプロピルトリプロピオニロキシシラン
、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロとルト
リアセトキシシラン、N−(2−(メタ)アクリルアミ
ドエチル)アミノプロピルトリアセトキシシラン、3−
(メタ)アクリルア、ミドプロピルイソブチルジメトキ
シシラン、2−(メタ)アクリルアミドエチルジメチル
メトキシシラン、3−(メタ)アクリルアミドプロピル
オクチルジアセトキシシラン、(メタ)アクリルアミド
メチルフエニルジアセトキシシラン、3−(メタ)アク
リルアミドプロピルベンジルジェトキシシラン、3−(
N−メチル−(メタ)アクリルアミド)−プロピルトリ
メトキシシラン、2−(N−エチル−(メタ)アクリル
アミド)−エチルトリアセトキシシラン、2−(メタ)
アクリルアミド−2−メチルプロピルモノクロルジメト
キシシラン、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチル
プロピルモノハイドロジエンジメトキシシラン等が挙げ
られるが、経済的にみて3−(メタ)アクリルアミドプ
ロピルトリメトキシシラン及び3−(メタ)アクリルア
ミドプロピルトリアセトキシシランが好ましく、又酸又
は塩基に対する安定性の点で2−(メタ)アクリルアミ
ド−2−メチルプロとルトリメトキシシラン及び2−く
メタ)アクリルアミド−2−メチルプロピルトリアセト
キシシランが好ましい。
(I[)で表されるビニルシラン系化合物としては、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ビニルトリプロピオニロキ
シシラン、イソプロペニルトリアセトキシシラン、ビニ
ルイソプロピルジアセトキシシラン、ビニルメチルジア
セトキシシラン、ビニルジメチルアセトキシシラン、ビ
ニルフエニルジアセトキシシラン、ビニルモノクロルジ
アセトキシシラン、ビニルモノハイドロジエンジアセト
キシシラン等が挙げられるが、経済的にみてビニルトリ
アセトキシシランが好ましい。
ニルトリアセトキシシラン、ビニルトリプロピオニロキ
シシラン、イソプロペニルトリアセトキシシラン、ビニ
ルイソプロピルジアセトキシシラン、ビニルメチルジア
セトキシシラン、ビニルジメチルアセトキシシラン、ビ
ニルフエニルジアセトキシシラン、ビニルモノクロルジ
アセトキシシラン、ビニルモノハイドロジエンジアセト
キシシラン等が挙げられるが、経済的にみてビニルトリ
アセトキシシランが好ましい。
上述したビニルシラン系化合物を共重合して得られな5
i−EVOH中のシラン含有は0.0005〜0.2モ
ル%、好ましくは、O,OOO’7〜0.03モル%で
ある。シラン含有量が0.0005モル%未満では、金
属酸化物(とりわけ酸化圭素)の密着性が十分ではなく
、一方0.2モル%を超えると架橋の程度が増大し過ぎ
て熱不溶性が発現し好ましくない。エチレン含有量は2
5〜60モル%、好ましくは25〜50モル%である。
i−EVOH中のシラン含有は0.0005〜0.2モ
ル%、好ましくは、O,OOO’7〜0.03モル%で
ある。シラン含有量が0.0005モル%未満では、金
属酸化物(とりわけ酸化圭素)の密着性が十分ではなく
、一方0.2モル%を超えると架橋の程度が増大し過ぎ
て熱不溶性が発現し好ましくない。エチレン含有量は2
5〜60モル%、好ましくは25〜50モル%である。
エチレン含有量が25モル%未溝では、実使用時の環境
湿度条件下における吸湿量が増大し、金属酸化物の密着
性を阻害し、エチレン含有率が60モル%を超えるとE
VOHの特性であるガスバリヤ−性、保香性、耐油性等
が低下する。酢酸ビニル成分のけん化度は95%以上、
好ましくは96%以上である。酢酸ビニル成分のけん化
度が95%未満では、ガスバリヤ−性、保香性、耐油性
等が低下するばかりでなく、溶融成形時の熱安定性も低
下する。更に、成形物に酢酸基に由来する酢酸臭がつき
、それが包装内容物に移行してしまうという欠点がある
。
湿度条件下における吸湿量が増大し、金属酸化物の密着
性を阻害し、エチレン含有率が60モル%を超えるとE
VOHの特性であるガスバリヤ−性、保香性、耐油性等
が低下する。酢酸ビニル成分のけん化度は95%以上、
好ましくは96%以上である。酢酸ビニル成分のけん化
度が95%未満では、ガスバリヤ−性、保香性、耐油性
等が低下するばかりでなく、溶融成形時の熱安定性も低
下する。更に、成形物に酢酸基に由来する酢酸臭がつき
、それが包装内容物に移行してしまうという欠点がある
。
ビニルシラン系化合物と、エチレン及び酢酸ビニルとの
共重合、及び生成した共重合体の鹸化は、公知の方法、
例えば特開昭60−144304に示されている様な方
法で実施可能である。該共重合体は、鹸化反応において
ビニルアルコキシシラン単位も部分的あるいは高度に鹸
化されてビニルシラノール単位、そのアルカリ塩あるい
はその相互縮合物に転換される。しかし前出の一般式(
II>で示されるビニルシラン系化合物含有の該共重合
体は、アルカリ性触媒による鹸化反応においてビニルシ
ラン系化合物単位のアミド結合が分解するという事なく
安定に保たれる。しかし、鹸化反応時一般式(I[)で
表されるビニルシラン系化合物のシランに結合したアル
コキシル基、カルボキシル基、水素及びハロゲンも同時
に部分的あるいは高度に鹸化され水酸基又はそのアルカ
リ塩に転換される。更にこの水酸基の一部は、鹸化反応
後得られた5i−EVOHを乾燥する際、乾燥条件によ
ってこれ等の官能基同士を結合させシロキサン結合を形
成させても良い。シロキサン結合を多く形成せしめた該
5i−EVOHは熱溶融性が悪化する場合が見られるの
で、この様な場合にはビニルシラン系化合物の含有量を
調整するか、ビニルシラン系化合物単位としてアルカリ
に対して著しく安定性の高い(メタ〉アクリルアミド−
分岐アルキルシラン単位を有するS 1−EVOHとす
る事が好ましい。又該共重合体は、金属酸化物の密着性
を阻害しない範囲で他の第3成分を共重合しても良い。
共重合、及び生成した共重合体の鹸化は、公知の方法、
例えば特開昭60−144304に示されている様な方
法で実施可能である。該共重合体は、鹸化反応において
ビニルアルコキシシラン単位も部分的あるいは高度に鹸
化されてビニルシラノール単位、そのアルカリ塩あるい
はその相互縮合物に転換される。しかし前出の一般式(
II>で示されるビニルシラン系化合物含有の該共重合
体は、アルカリ性触媒による鹸化反応においてビニルシ
ラン系化合物単位のアミド結合が分解するという事なく
安定に保たれる。しかし、鹸化反応時一般式(I[)で
表されるビニルシラン系化合物のシランに結合したアル
コキシル基、カルボキシル基、水素及びハロゲンも同時
に部分的あるいは高度に鹸化され水酸基又はそのアルカ
リ塩に転換される。更にこの水酸基の一部は、鹸化反応
後得られた5i−EVOHを乾燥する際、乾燥条件によ
ってこれ等の官能基同士を結合させシロキサン結合を形
成させても良い。シロキサン結合を多く形成せしめた該
5i−EVOHは熱溶融性が悪化する場合が見られるの
で、この様な場合にはビニルシラン系化合物の含有量を
調整するか、ビニルシラン系化合物単位としてアルカリ
に対して著しく安定性の高い(メタ〉アクリルアミド−
分岐アルキルシラン単位を有するS 1−EVOHとす
る事が好ましい。又該共重合体は、金属酸化物の密着性
を阻害しない範囲で他の第3成分を共重合しても良い。
該第3成分としては、炭素数3以上のα−オレフィン、
アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの酸のエステル等
が挙げられる。又熱溶融成形性を改善する為に、金属酸
化物の密着性を阻害しない範囲で酸、塩基及びそれ等の
塩を5i−EVOHに添加しても良い。酸、塩基やそれ
等の塩としては、酢酸、硼酸、燐酸、水酸化ナトリウム
、水酸化カルシウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム
、酢酸カルシウム、硼酸ナトリウム、燐酸カリウム、燐
酸カルシウム、燐酸水素カルシウム、燐酸−水素二カリ
ウム、燐酸二水素−カリウム等が挙げられる。更に成形
物の滑り住改善の為に、酸化珪素や酸化アルミニウム等
をS i −EVOHに添加しても良い。更に金属酸化
物の密着性を阻害しない範囲でナイロン、EVOH及び
ポリオレフィン等地のポリマーを添加しても良い。
アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの酸のエステル等
が挙げられる。又熱溶融成形性を改善する為に、金属酸
化物の密着性を阻害しない範囲で酸、塩基及びそれ等の
塩を5i−EVOHに添加しても良い。酸、塩基やそれ
等の塩としては、酢酸、硼酸、燐酸、水酸化ナトリウム
、水酸化カルシウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウム
、酢酸カルシウム、硼酸ナトリウム、燐酸カリウム、燐
酸カルシウム、燐酸水素カルシウム、燐酸−水素二カリ
ウム、燐酸二水素−カリウム等が挙げられる。更に成形
物の滑り住改善の為に、酸化珪素や酸化アルミニウム等
をS i −EVOHに添加しても良い。更に金属酸化
物の密着性を阻害しない範囲でナイロン、EVOH及び
ポリオレフィン等地のポリマーを添加しても良い。
5i−EVOH樹脂表面に積層される金属酸化物薄膜の
厚みは単分子層から5000オングストロ一ム程度が好
適であり、500〜2000オングストロ一ム程度、と
くに1000オンゲストロム近辺が最適である。
厚みは単分子層から5000オングストロ一ム程度が好
適であり、500〜2000オングストロ一ム程度、と
くに1000オンゲストロム近辺が最適である。
金属酸化物薄膜を5i−EVOH樹脂膜表面に積層する
方法としては、蒸着法が最適であり、蒸着法としては、
処理時の膜の安定性の点から、真空を利用した物理蒸着
法、化合物の分解または化合物の化学反応を利用した化
学的蒸着法が好適である。 このようにして得られたガ
ス遮断性材料は、食品包装材料(液状食品用包装材料、
レトルト用包装材料など)、医薬品および医療器材包装
材料として有用である。
方法としては、蒸着法が最適であり、蒸着法としては、
処理時の膜の安定性の点から、真空を利用した物理蒸着
法、化合物の分解または化合物の化学反応を利用した化
学的蒸着法が好適である。 このようにして得られたガ
ス遮断性材料は、食品包装材料(液状食品用包装材料、
レトルト用包装材料など)、医薬品および医療器材包装
材料として有用である。
以下本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
E、実施例
実施例1および比較例1
エチレン、酢酸ビニル及びビニルトリメトキシシランの
共重合体をけん化して得た、シラン含有量0.01モル
%、エチレン含有量32モル%、酢酸ビニル成分のけん
化度99.5モル%の5i−EVOHの厚み15μmの
フィルム上に、電子ビーム蒸着装置を使用し、真空度1
.0X10”−’Torrで、2000オングストロー
ムの酸化上素膜を蒸着した9このEVOH栃脂膜全脂膜
50μmの無延伸ポリプロピレンフィルムとポリウレタ
ン系接着剤を介して貼合わせたのち酸素透過速度を測定
した結果を第1表に示した。なお、金属酸化物を蒸着し
た効果を明確にする゛ため金属酸化物の蒸着処理を行わ
ない5i−EVOH樹脂膜(比較例1)についても同様
の貼合わせを行った試料を対照として準備した。酸素透
過速度測定装置はModern Contorols社
製のOy:toran 10150A型を使用し、測
定条件は20℃−65%R)(および20℃−100%
RHとしな。金属酸化物を蒸着しないEVOH樹脂膜に
比較して特に高湿度下での酸素透過速度が充分低い水準
に保持され、EVOH樹脂膜の酸素透過速度の相対湿度
依存性の抑制効果が認められる。
共重合体をけん化して得た、シラン含有量0.01モル
%、エチレン含有量32モル%、酢酸ビニル成分のけん
化度99.5モル%の5i−EVOHの厚み15μmの
フィルム上に、電子ビーム蒸着装置を使用し、真空度1
.0X10”−’Torrで、2000オングストロー
ムの酸化上素膜を蒸着した9このEVOH栃脂膜全脂膜
50μmの無延伸ポリプロピレンフィルムとポリウレタ
ン系接着剤を介して貼合わせたのち酸素透過速度を測定
した結果を第1表に示した。なお、金属酸化物を蒸着し
た効果を明確にする゛ため金属酸化物の蒸着処理を行わ
ない5i−EVOH樹脂膜(比較例1)についても同様
の貼合わせを行った試料を対照として準備した。酸素透
過速度測定装置はModern Contorols社
製のOy:toran 10150A型を使用し、測
定条件は20℃−65%R)(および20℃−100%
RHとしな。金属酸化物を蒸着しないEVOH樹脂膜に
比較して特に高湿度下での酸素透過速度が充分低い水準
に保持され、EVOH樹脂膜の酸素透過速度の相対湿度
依存性の抑制効果が認められる。
実施例2〜6および比較例2
シラン含有量を0.0005〜0.2モル%の間で変更
した、膜厚み12μmである4種類の5i−EVOH樹
脂膜を使用し、いずれの試料に対しても実施例1記載の
方法で2000オングストロームの酸化上素膜を蒸着し
た。それらについて酸素透過速度を測定するに際し、厚
み50μmの無延伸ポリプロピレンフィルムとポリウレ
タン系接着剤を介して貼合わせたのち、屈曲処理を加え
ない試料と加えた試料を準備し、酸素透過速度を測定し
た結果を第2表に示した。屈曲処理はGe1bo Fl
ex−testerにより500回行ツタ。酸素透過速
度は実施例1記載の方法で、20°C−100%RHで
測定しな。シラン成分を分子鎖中に含まないEVO)I
の場合には、蒸着処理後のEVOH樹脂膜の酸素透過速
度が屈曲処理なしでは充分に蒸着処理効果が認められる
のに対して屈曲処理後には蒸着処理効果がほとんど消失
している。−方、5i−EVOH樹脂膜の場合には、シ
ラン含有量が増加するにつれて屈曲処理後でも蒸着処理
効果が残存していることが明らかである。
した、膜厚み12μmである4種類の5i−EVOH樹
脂膜を使用し、いずれの試料に対しても実施例1記載の
方法で2000オングストロームの酸化上素膜を蒸着し
た。それらについて酸素透過速度を測定するに際し、厚
み50μmの無延伸ポリプロピレンフィルムとポリウレ
タン系接着剤を介して貼合わせたのち、屈曲処理を加え
ない試料と加えた試料を準備し、酸素透過速度を測定し
た結果を第2表に示した。屈曲処理はGe1bo Fl
ex−testerにより500回行ツタ。酸素透過速
度は実施例1記載の方法で、20°C−100%RHで
測定しな。シラン成分を分子鎖中に含まないEVO)I
の場合には、蒸着処理後のEVOH樹脂膜の酸素透過速
度が屈曲処理なしでは充分に蒸着処理効果が認められる
のに対して屈曲処理後には蒸着処理効果がほとんど消失
している。−方、5i−EVOH樹脂膜の場合には、シ
ラン含有量が増加するにつれて屈曲処理後でも蒸着処理
効果が残存していることが明らかである。
以下余白
第2表
実施例7
エチレン、酢酸ビニル及びビニルトリメトキシシランの
共重合体をけん化して得た、シラン含有量0.02モル
%、エチレン含有量32モル%。
共重合体をけん化して得た、シラン含有量0.02モル
%、エチレン含有量32モル%。
酢酸ビニル成分のけん化度99.5モル%の5i−EV
OHの厚みが15μmのフィルム上に、(SiH4+N
20)混合ガスに40MW/、、JのA r Fエキシ
マレーザ光(193nm)を照射し直接光分解し、約1
000オングストロームの酸化圭素膜を生成させた。こ
のEVOH膜の酸素透過速度を、厚み50μmの無延伸
ポリプロピレンフィルムと貼合わせたのち、実施例1記
載の方法で、蒸着なしの5i−EVOH樹脂膜(比較例
3)と比較測定した結果を第3表に示した。実施例1に
示したと同様、高湿度下での酸素遮断性が顕著に改善さ
れた。
OHの厚みが15μmのフィルム上に、(SiH4+N
20)混合ガスに40MW/、、JのA r Fエキシ
マレーザ光(193nm)を照射し直接光分解し、約1
000オングストロームの酸化圭素膜を生成させた。こ
のEVOH膜の酸素透過速度を、厚み50μmの無延伸
ポリプロピレンフィルムと貼合わせたのち、実施例1記
載の方法で、蒸着なしの5i−EVOH樹脂膜(比較例
3)と比較測定した結果を第3表に示した。実施例1に
示したと同様、高湿度下での酸素遮断性が顕著に改善さ
れた。
第3表 * : cc#−day・atm
実施例8 エチレン、酢酸ビニル及びビニルトリメトキシシランの
共重合体をけん化して得た、シラン含有量0.02モル
%、エチレン含有量32モル%、酢酸ビニル成分のけん
化度99,5モル%の5i−EVOHの厚みが12μm
のフィルム上に、混合ガスとして(トリメチルアルミニ
ューム十N20)を使用した他は実施例7と同様の操作
により、約1200オングストロームの酸化アルミニュ
ーム膜を生成させた。この5i−EVOH樹脂膜の酸素
透過速度を、厚み50μmの無延伸ポリプロピレンフィ
ルムと貼合わせた後、実施例1記載の方法で、蒸着なし
の5i−EVOH樹脂膜(比較例4)と比較測定した結
果を第4表に示した。実施例1に示したと同様、高湿度
下での酸素遮断性が顕著に改善された。
実施例8 エチレン、酢酸ビニル及びビニルトリメトキシシランの
共重合体をけん化して得た、シラン含有量0.02モル
%、エチレン含有量32モル%、酢酸ビニル成分のけん
化度99,5モル%の5i−EVOHの厚みが12μm
のフィルム上に、混合ガスとして(トリメチルアルミニ
ューム十N20)を使用した他は実施例7と同様の操作
により、約1200オングストロームの酸化アルミニュ
ーム膜を生成させた。この5i−EVOH樹脂膜の酸素
透過速度を、厚み50μmの無延伸ポリプロピレンフィ
ルムと貼合わせた後、実施例1記載の方法で、蒸着なし
の5i−EVOH樹脂膜(比較例4)と比較測定した結
果を第4表に示した。実施例1に示したと同様、高湿度
下での酸素遮断性が顕著に改善された。
F0発明の効果
本発明のガス遮断性材料は、高湿度下においてもガス遮
断性の低下がなく低湿度下におけるとほぼ同水準のガス
遮断性を有し、かつ屈曲、摩擦等の機械的な外力を受け
てもガス遮断性の低下がない。
断性の低下がなく低湿度下におけるとほぼ同水準のガス
遮断性を有し、かつ屈曲、摩擦等の機械的な外力を受け
てもガス遮断性の低下がない。
Claims (3)
- (1)エチレン、酢酸ビニル及びビニルシラン系化合物
の共重合体をけん化して得た、シラン含有量0.000
5〜0.2モル%、酢酸ビニル成分のけん化度95モル
%以上、エチレン含有率25〜60モル%である、エチ
レン−ビニルアルコール共重合樹脂膜表面に金属酸化物
の薄膜を有するガス遮断性材料。 - (2)ビニルシラン系化合物がビニルトリメトキシシラ
ンである、請求項1記載のガス遮断性材料。 - (3)金属酸化物の薄膜が蒸着法で得た薄膜である請求
項1〜2のいずれかの一つの項に記載のガス遮断性材料
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23847189A JPH0399842A (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | ガス遮断性材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23847189A JPH0399842A (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | ガス遮断性材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0399842A true JPH0399842A (ja) | 1991-04-25 |
Family
ID=17030731
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23847189A Pending JPH0399842A (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | ガス遮断性材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0399842A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1609593A2 (fr) | 1994-06-30 | 2005-12-28 | Arkema | Matériaux d'emballage comprenant une couche d'oxyde de silicium et une couche de polyoléfine |
-
1989
- 1989-09-13 JP JP23847189A patent/JPH0399842A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1609593A2 (fr) | 1994-06-30 | 2005-12-28 | Arkema | Matériaux d'emballage comprenant une couche d'oxyde de silicium et une couche de polyoléfine |
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