JPH04101472A - 冷却装置 - Google Patents
冷却装置Info
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- JPH04101472A JPH04101472A JP2219294A JP21929490A JPH04101472A JP H04101472 A JPH04101472 A JP H04101472A JP 2219294 A JP2219294 A JP 2219294A JP 21929490 A JP21929490 A JP 21929490A JP H04101472 A JPH04101472 A JP H04101472A
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- Japan
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- thermoelectric
- heat
- type semiconductor
- thermoelectric circuit
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はペルチェ効果を利用し電気的に低温を得る冷却
装置、特に極低温を得る冷却装置に関する。
装置、特に極低温を得る冷却装置に関する。
従来の技術
従来 ペルチェ効果を利用して極低温を得る冷却装置(
よ 第3図に示す従来例のように 金属板1および金属
板2によって、N型半導体3およびP型半導体4を挟み
込んだ熱電回路を複数個積層した構成を有している。各
熱電回路+i N型半導体3とP型半導体4を直列に
配列しており、電流を流すと、各熱電回路の上面が冷却
側1 下面が放熱側となり、上部に位置する熱電回路の
放熱を下部に位置する熱電回路が冷却する。したがって
、最下部に位置する金属板2を室温程度に保ち、端子5
と端子6間に電位を与えると、最上部の金属板1で極低
温が得られる。一般的に(よ 冷却側の熱量よりも放熱
側の熱量が大きいことから、処理する熱量は下方に位置
する熱電回路の方が大きくなるたム 下方の素子数を多
くしている。
よ 第3図に示す従来例のように 金属板1および金属
板2によって、N型半導体3およびP型半導体4を挟み
込んだ熱電回路を複数個積層した構成を有している。各
熱電回路+i N型半導体3とP型半導体4を直列に
配列しており、電流を流すと、各熱電回路の上面が冷却
側1 下面が放熱側となり、上部に位置する熱電回路の
放熱を下部に位置する熱電回路が冷却する。したがって
、最下部に位置する金属板2を室温程度に保ち、端子5
と端子6間に電位を与えると、最上部の金属板1で極低
温が得られる。一般的に(よ 冷却側の熱量よりも放熱
側の熱量が大きいことから、処理する熱量は下方に位置
する熱電回路の方が大きくなるたム 下方の素子数を多
くしている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、このような従来の冷却装置でζ戴半導体
材料および金属板をバルクで使用する構成となっている
ため、 1、 Te、Bi等の希少材料を大量に必要とL 熱
電素子の重量および容積が大きくなり、材料コストがあ
がる。
材料および金属板をバルクで使用する構成となっている
ため、 1、 Te、Bi等の希少材料を大量に必要とL 熱
電素子の重量および容積が大きくなり、材料コストがあ
がる。
2、半導体と金属板との接合に(よ 接触部の電気抵抗
および熱抵抗の低減を図るためろう付は等が必要である
。
および熱抵抗の低減を図るためろう付は等が必要である
。
3、半導体の断面積が太きいた嵌 加熱部がら冷却部へ
の熱流が大きく、効率が低下する。
の熱流が大きく、効率が低下する。
等の課題があった
本発明は 上記課題を解決するものてミ 熱電素子の材
料コスト、重量および容積を大幅に低減するとともに
接触抵抗および半導体内の熱流を抑えることにより、冷
却性能を向上させる構造の冷却装置を提供することを目
的とするものである。
料コスト、重量および容積を大幅に低減するとともに
接触抵抗および半導体内の熱流を抑えることにより、冷
却性能を向上させる構造の冷却装置を提供することを目
的とするものである。
課題を解決するための手段
本発明は上記目的を達成するために 凹凸を繰り返すコ
ルゲート状の絶縁性フィルム基板上へ第1の傾斜部に形
成されたN型半導体と、凸部にそのN型半導体に電気的
に接続して形成された第1の導電体と、第2の傾斜部に
その第1の導電体に電気的に接続して形成されたP型半
導体と、凹部にそのP型半導体に電気的に接続して形成
された第2の導電体とからなる熱電素子を順次1組以上
並べた熱電回路を 熱伝導体を介して複数個積層し 最
上層の前記熱電回路の第1の導電体に接して吸熱用熱伝
導体を、最下層の前記熱電回路の第2の導電体に接して
放熱用熱伝導体をそれぞれ設けた構成よりなる。
ルゲート状の絶縁性フィルム基板上へ第1の傾斜部に形
成されたN型半導体と、凸部にそのN型半導体に電気的
に接続して形成された第1の導電体と、第2の傾斜部に
その第1の導電体に電気的に接続して形成されたP型半
導体と、凹部にそのP型半導体に電気的に接続して形成
された第2の導電体とからなる熱電素子を順次1組以上
並べた熱電回路を 熱伝導体を介して複数個積層し 最
上層の前記熱電回路の第1の導電体に接して吸熱用熱伝
導体を、最下層の前記熱電回路の第2の導電体に接して
放熱用熱伝導体をそれぞれ設けた構成よりなる。
作用
本発明は上記構成により、膜状になった熱電素子は 薄
く構成することが可能で、コンパクトで軽くなり、材料
の使用量は バルクで使用する場合に比べ非常に少なく
なり、半導体の断面積が小さいことから、加熱部から冷
却部への熱伝導が減少し また半導体と導電体が真空装
置内においてほぼ同時に成膜されることから、半導体と
導電体との接触電気抵抗がほとんどなくなることにより
、熱電素子と熱伝導体との温度差が小さくなる。
く構成することが可能で、コンパクトで軽くなり、材料
の使用量は バルクで使用する場合に比べ非常に少なく
なり、半導体の断面積が小さいことから、加熱部から冷
却部への熱伝導が減少し また半導体と導電体が真空装
置内においてほぼ同時に成膜されることから、半導体と
導電体との接触電気抵抗がほとんどなくなることにより
、熱電素子と熱伝導体との温度差が小さくなる。
実施例
以下に本発明による一実施例を図面により説明する。第
1図に示すように 三つのコルゲート状熱電回路11
、12、13の間および両端部に熱伝導体14、15、
16、17を設置している。
1図に示すように 三つのコルゲート状熱電回路11
、12、13の間および両端部に熱伝導体14、15、
16、17を設置している。
熱電回路11の詳細を第2図に示す。コルゲート状絶縁
性フィルム基板18の片面α 第1の傾斜部18Aには
N型半導体19、凸部に第1の導電体2(1,次の第2
の傾斜部18BにはP型半導体21、続く凹部に第2の
導電体20Bからなる熱電素子が順次並んで形成されて
いる。N型半導体19、導電体20A、20B、P型半
導体21(よ 各々の端部が接触する構造になっており
、接触部の電気抵抗および熱抵抗が大きくならない構造
となっている。導電体2OA、20Bの材料として(瓜
電気抵抗の小さい銅またはアルミニウムが用いられる
。
性フィルム基板18の片面α 第1の傾斜部18Aには
N型半導体19、凸部に第1の導電体2(1,次の第2
の傾斜部18BにはP型半導体21、続く凹部に第2の
導電体20Bからなる熱電素子が順次並んで形成されて
いる。N型半導体19、導電体20A、20B、P型半
導体21(よ 各々の端部が接触する構造になっており
、接触部の電気抵抗および熱抵抗が大きくならない構造
となっている。導電体2OA、20Bの材料として(瓜
電気抵抗の小さい銅またはアルミニウムが用いられる
。
絶縁性フィルム基板18(よ 凹凸を繰り返すコルゲー
ト状に加工されており、導電体2OAを形成したすべて
の凸部ζ戴 第1図に示すよう圏 一方の熱伝導体14
と熱的に接触し 導電体20Bを形成したすべての凹部
c! 他方の熱伝導体・15と接触している。絶縁性
フィルム基板18にそって半導体19、21および導電
体20A、20Bに電流を流す。これにより、半導体1
9、21と導電体20A、20Bのそれぞれの界面でペ
ルチェ効果により発熱もしくは吸熱を生じる。このとき
、N型半導体19とP型半導体21は交互に並んでいる
ことから、導電体21 20Bは交互に発熱部または吸
熱部となる。すなわち導電体2OAは吸熱部となり、そ
れに接している一方の熱伝導体14は吸熱となる。また
導電体20Bに接している他方の熱伝導体15は発熱
となる。したがって、熱伝導体14の温度(友 熱伝導
体15よりも低い温度となる。熱伝導体15の下面には
熱電回路12の吸熱部が位置することがら熱電回路1
1の発熱が熱伝導体15を介して熱電回路12の吸熱部
に吸収される。同様に 熱電回路12の発熱を熱伝導体
16を介して熱電回路13の吸熱部が吸収する。
ト状に加工されており、導電体2OAを形成したすべて
の凸部ζ戴 第1図に示すよう圏 一方の熱伝導体14
と熱的に接触し 導電体20Bを形成したすべての凹部
c! 他方の熱伝導体・15と接触している。絶縁性
フィルム基板18にそって半導体19、21および導電
体20A、20Bに電流を流す。これにより、半導体1
9、21と導電体20A、20Bのそれぞれの界面でペ
ルチェ効果により発熱もしくは吸熱を生じる。このとき
、N型半導体19とP型半導体21は交互に並んでいる
ことから、導電体21 20Bは交互に発熱部または吸
熱部となる。すなわち導電体2OAは吸熱部となり、そ
れに接している一方の熱伝導体14は吸熱となる。また
導電体20Bに接している他方の熱伝導体15は発熱
となる。したがって、熱伝導体14の温度(友 熱伝導
体15よりも低い温度となる。熱伝導体15の下面には
熱電回路12の吸熱部が位置することがら熱電回路1
1の発熱が熱伝導体15を介して熱電回路12の吸熱部
に吸収される。同様に 熱電回路12の発熱を熱伝導体
16を介して熱電回路13の吸熱部が吸収する。
このような構造により、各熱電回路で得られる温度差の
約3倍の温度差を、熱伝導体14と熱伝導体17の間で
得られることになる。したがって放熱用熱伝導体17を
室温に保つと、吸熱用熱伝導体14は極低温となる。
約3倍の温度差を、熱伝導体14と熱伝導体17の間で
得られることになる。したがって放熱用熱伝導体17を
室温に保つと、吸熱用熱伝導体14は極低温となる。
熱電回路11から熱電回路13が処理する熱量(友 順
に大きくなることから、回路内の半導体および導電体の
数を順に大きくしている。また本発明の冷却装置で(よ
絶縁性フィルム基板18の凹凸のピッチを自由に設定
できる構造であることから、必要な素子数が多くなる下
段のピッチを小さ(し 下段の熱伝導体17が大きくな
らないように設計することも容易である。
に大きくなることから、回路内の半導体および導電体の
数を順に大きくしている。また本発明の冷却装置で(よ
絶縁性フィルム基板18の凹凸のピッチを自由に設定
できる構造であることから、必要な素子数が多くなる下
段のピッチを小さ(し 下段の熱伝導体17が大きくな
らないように設計することも容易である。
以上のように本発明において(よ 半導体および導電体
を薄く構成することが可能であり軽い装置とすることが
できる。また 半導体と導電体との温度差も小さくなり
安価で、高性能な冷却装置が提供される。
を薄く構成することが可能であり軽い装置とすることが
できる。また 半導体と導電体との温度差も小さくなり
安価で、高性能な冷却装置が提供される。
発明の効果
以上の実施例から明らなように本発明によれば凹凸を繰
り返すコルゲート状の絶縁性フィルム基板上の、第1の
傾斜部に形成されたN型半導体と、凸部にそのN型半導
体に電気的に接続して形成された第1の導電体と、第2
の傾斜部にその第1の導電体に電気的に接続して形成さ
れただP型半導体と、凹部にそのP型半導体に電気的に
接続して形成された第2の導電体とからなる熱電素子を
順次1組以上並べた熱電回路を 熱伝導体を介して複数
個積層し 最上層の前記熱電回路の第1の導電体に接し
て吸熱用熱伝導体を、最下層の前記熱電回路の第2の導
電体に接して放熱用熱伝導体を設けた構成よりなるので
、 非常に軽量、コンパクトで経済性に富へ しかも
性能の高い冷却装置を実現できる。
り返すコルゲート状の絶縁性フィルム基板上の、第1の
傾斜部に形成されたN型半導体と、凸部にそのN型半導
体に電気的に接続して形成された第1の導電体と、第2
の傾斜部にその第1の導電体に電気的に接続して形成さ
れただP型半導体と、凹部にそのP型半導体に電気的に
接続して形成された第2の導電体とからなる熱電素子を
順次1組以上並べた熱電回路を 熱伝導体を介して複数
個積層し 最上層の前記熱電回路の第1の導電体に接し
て吸熱用熱伝導体を、最下層の前記熱電回路の第2の導
電体に接して放熱用熱伝導体を設けた構成よりなるので
、 非常に軽量、コンパクトで経済性に富へ しかも
性能の高い冷却装置を実現できる。
第1図は本発明の一実施例の冷却装置の概略断面巨 第
2図は同冷却装置を構成する熱電回路の詳細巨 第3図
は従来の冷却装置の断面図である。 11、12.13・−熱電回IK 14,15,16
.17・・・熱伝導体18・・・絶縁性フィルム基板、
18A・・・第1の傾斜部18B・・・第2の傾斜に1
9・・・N型半導i 2OA・・・第1の導電体 2
0B・・・第2の導電体 21・・・P型半導俟
2図は同冷却装置を構成する熱電回路の詳細巨 第3図
は従来の冷却装置の断面図である。 11、12.13・−熱電回IK 14,15,16
.17・・・熱伝導体18・・・絶縁性フィルム基板、
18A・・・第1の傾斜部18B・・・第2の傾斜に1
9・・・N型半導i 2OA・・・第1の導電体 2
0B・・・第2の導電体 21・・・P型半導俟
Claims (3)
- (1)凹凸を繰り返すコルゲート状の絶縁性フィルム基
板上の、第1の傾斜部に形成されたN型半導体と、凸部
に前記N型半導体に電気的に接続して形成された第1の
導電体と、第2の傾斜部に前記第1の導電体に電気的に
接続して形成されたP型半導体と、凹部に前記P型半導
体に電気的に接続して形成された第2の導電体とからな
る熱電素子を順次1組以上並べた熱電回路を熱伝導体を
介して複数個積層し、最上層の前記熱電回路の第1の導
電体に接して吸熱用熱伝導体を、最下層の前記熱電回路
の第2の導電体に接して放熱用熱伝導体をそれぞれ設け
た冷却装置。 - (2)各層の熱電回路を構成する熱電素子の数を熱電回
路の積層方向に順次減少または増加させた請求項1記載
の冷却装置。 - (3)各層の熱電回路における絶縁性フィルム基板の凹
凸のピッチを熱電回路の積層方向に順次減少または増加
させた請求項1記載の冷却装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2219294A JPH04101472A (ja) | 1990-08-20 | 1990-08-20 | 冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2219294A JPH04101472A (ja) | 1990-08-20 | 1990-08-20 | 冷却装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04101472A true JPH04101472A (ja) | 1992-04-02 |
Family
ID=16733245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2219294A Pending JPH04101472A (ja) | 1990-08-20 | 1990-08-20 | 冷却装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04101472A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR970021589A (ko) * | 1995-10-31 | 1997-05-28 | 유상부 | 종 2열형 승강기 구조의 기계식 주차설비 및 방법 |
| JPH10190071A (ja) * | 1996-12-20 | 1998-07-21 | Aisin Seiki Co Ltd | 多段電子冷却装置 |
| JPH1158591A (ja) * | 1997-08-22 | 1999-03-02 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 熱伝導シート |
| EP2592668A1 (fr) * | 2011-11-10 | 2013-05-15 | Acome Société Cooperative et Participative Société Anonyme Cooperative de Production à Capital Variable | Ame thermoélectrique, structure thermoélectrique comprenant ladite ame, son procédé de réalisation et ses utilisations |
| WO2016046713A1 (en) * | 2014-09-22 | 2016-03-31 | Consorzio Delta Ti Research | Silicon integrated, out-of-plane heat flux thermoelectric generator |
| WO2016051313A1 (en) * | 2014-10-01 | 2016-04-07 | Consorzio Delta Ti Research | Silicon integrated bivalve thermoelectric generator of out-of-plane heat flux configuration |
| WO2016055892A1 (en) * | 2014-10-09 | 2016-04-14 | Consorzio Delta Ti Research | 3d integrated thermoelectric generator operating in an out-of-plane heat flux configuration with internal voids and heat conduction paths conditioning vias |
| DE112014006636B4 (de) * | 2014-05-01 | 2019-07-18 | Mitsubishi Electric Corporation | Thermoelektrischer Wandler und Verfahren zum Herstellen eines thermoelektrischen Wandlers |
| JP2021090001A (ja) * | 2019-12-05 | 2021-06-10 | 国立大学法人大阪大学 | 熱電変換デバイス、熱電変換デバイスの製造方法及び電動装置 |
-
1990
- 1990-08-20 JP JP2219294A patent/JPH04101472A/ja active Pending
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US10497850B2 (en) | 2014-05-01 | 2019-12-03 | Mitsubishi Electric Corporation | Thermoelectric converter and manufacturing method for manufacturing thermoelectric converter |
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| JP2017530563A (ja) * | 2014-09-22 | 2017-10-12 | コンソルツィオ デルタ ティ リサーチ | シリコン集積面外熱流束熱電発電機 |
| US10050190B2 (en) | 2014-09-22 | 2018-08-14 | Consorzio Delta Ti Research | Silicon integrated, out-of-plane heat flux thermoelectric generator |
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| US10003002B2 (en) | 2014-10-01 | 2018-06-19 | Consorzio Delta Ti Research | Silicon integrated bivalve thermoelectric generator of out-of-plane heat flux configuration |
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| JP2017531922A (ja) * | 2014-10-09 | 2017-10-26 | コンソルツィオ デルタ ティ リサーチ | 内部ボイド及び熱伝導経路調整ビアを備える面外熱流束構成で動作する3d集積化熱電発電機 |
| JP2021090001A (ja) * | 2019-12-05 | 2021-06-10 | 国立大学法人大阪大学 | 熱電変換デバイス、熱電変換デバイスの製造方法及び電動装置 |
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