JPH04101767A - ヘッドピース集合体の研磨方法 - Google Patents

ヘッドピース集合体の研磨方法

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JPH04101767A
JPH04101767A JP2213140A JP21314090A JPH04101767A JP H04101767 A JPH04101767 A JP H04101767A JP 2213140 A JP2213140 A JP 2213140A JP 21314090 A JP21314090 A JP 21314090A JP H04101767 A JPH04101767 A JP H04101767A
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curve
head piece
magnetic head
polishing
jig
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Toshiaki Yamashita
山下 俊朗
Shinichi Aida
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/048Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces of sliders and magnetic heads of hard disc drives or the like

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、治具の上にヘッドピース集合体を取付け、取
付は面とは反対側のヘッドピース集合体の端面を研磨す
る研磨方法に関し、両側における磁気ヘッドピース及び
中間部に位置する磁気ヘッドピースの少なくとも3点に
おいて、端面から加工マークまでの距@La、Lb′E
LびLcを測定して、3点を含む第1の曲線及びスロー
トハイトが実質的に零となる342の曲線を想定し、整
列方向の両側に位置する磁気ヘッドピースについて、端
面から第2の曲線までの距1ILA、LBを求め、Δa
=La−LA、Δb=Lb−LB △c= ((La+Lb)/2)  Lcが類似してい
るヘッドピース集合体を、同一の治具に取付けて研磨す
ることにより、研磨量を客観的、合理的に設定し、ヘッ
ドピース集合体から得られる良品のヘッドピース数を増
大させて歩留を向上させると共に、同一治具上に取付け
るべき組合せ選別を容易化し、作業能率を向上させたベ
ットピース集合体の研磨方法を提供できるようにしたも
のである。
〈従来の技術〉 ヘットピース集合体の研磨技術としては、例えば、特開
平51−153264号公報、特開平1−153265
号公報等に記載されたものが知られている。基本的には
、治具の上にヘットピース集合体を取付け、取付は面と
は反対側のヘットピース集合体の端面を研磨し、所定の
スロートハイト(ギャップディブス)を得るものである
ヘッドピース集合体は、セラミック支持体の上に複数の
磁気ヘッドピースを一方向に間隔を隔てて整列しである
。磁気ヘッドピースの各々は、被研磨面となる端面側に
ポール部が位置していて、ポール部の所定位置を表示す
る加工マークを有している。
磁気ヘッドピースを支持するセラミック支持体は、μm
単位ではあるが、歪による撓みを生じる。この撓みのた
めに、磁気ヘッドピースの位置、特にポール部のスロー
トハイト位置が、個々の磁気ヘッドピースによって異な
った状態となる。そこで、加工マークを目印にし、所定
のスロートハイトとなるように研磨する。研磨に当フて
、従来は、作業員の経験と勘によって、加工マークから
見て、どの位置まで研磨すれば最も歩留よく製造できる
かを判断していた。
〈発明が解決しようとする課題〉 上述したように、従来は、作業員の経験と勘によって研
磨位置を判断していたために、作業員の個人差を生じ易
いこと、作業性が悪く、量産性に欠けること、歩留変動
が大きくなること等の問題があった。
そこで、本発明の課題は、上述する従来の問題点を解決
し、研磨量を客観的、合理的に設定し、1つのヘッドピ
ース集合体から得られる良品のヘッドピース数を増大さ
せて歩留を向上させると共に、同−治具上に取付けるべ
き組合せ確率を上げて、作業能率を向上させたヘッドピ
ース集合体の研磨方法を提供することである。
<a題を解決するための手段〉 上述した課題解決のため、本発明は、治具の上に複数の
ヘッドピース集合体を取付け、取付は面とは反対側の前
記ヘッドピース集合体の端面を研磨する研磨方法であっ
て、 前記ヘッドピース集合体は−、セラミック支持体の上に
複数の磁気ヘッドピースを一方向に間隔を隔てて整列し
てあり、 前記磁気ヘッドピースの各々は、前記端面側にポール部
が位置していて、前記ポール部に対して所定の位置関係
を保って設けられた加工マークを有しており、 前記磁気ヘッドピースの整列方向の両側における磁気ヘ
ッドピース及び中間部に位置する磁気ヘッドピースの少
なくとも3点において、前記端面から前記加工マークま
での距離La、Lb及びLcを測定して前記3点を含む
第1の曲線を想定し、 前記第1の曲線からスロートハイトが実質的に零となる
第2の曲線を想定し、整列方向の両側に位置する磁気ヘ
ッドピースについて、前記端面から前記第2の曲線まで
の距離LA、LBを求め、 前記距離La、Lb、Lc、LA、LBに関し、 Δa=La−LA Δb=Lb−LB △c =  ((L a + L b ) / 2 )
  −L Cが類似しているヘッドピース集合体を、同
一の治具に取付けて研磨すること を特徴とする。
〈作用〉 磁気ヘッドピースの整列方向の両側における磁気ヘッド
ピース及び中間部に位置する磁気ヘッドピースの少なく
とも3点において、端面から加工マークまでの距離を測
定して得られた第1の曲線は、加工マークの包絡線であ
るとみることができる。
次ニ、第1の曲線からスロートハイトが実質的に零とな
る第2の曲線を想定し、両側に配置されている磁気ヘッ
ドピースについて、端面から第2の曲線までの距1Ii
LA、LBを求め、Δa=La−LA Δb=Lb−LB △c= ((La+Lb)/2) −Lcの類似してい
るヘットピース集合体を同一の治具に取付けて研磨する
Δa、Δbは研磨量であり、△Cはヘッドピース集合体
の撓み成分である。従って、Δa、Δb及び△Cの類似
したヘッドピース集合体を同一の治具に取付けて研磨す
ることにより、歩留よく研磨することができる。
〈実施例〉 第1図〜第3図は本発明に係るヘッドピース集合体の研
磨方法を示す図である。第1図において、1は治具、2
はヘッドピース集合体である。
ヘッドピース集合体2は、治具1の上に接着等の手段に
よって取付けられている。取付面2Aとは反対側の端面
2Bが研磨面となる。
ヘッドピース集合体2は、スライダ部材となるセラミッ
ク構造体20を共用して、複数の磁気ヘッドピースQ1
〜Qnを一方向に整列して形成したものである。磁気ヘ
ッドピースQx−Qrlの各々は、端面2B側にポール
部が位置していて、ポール部に対して所定の位置関係で
設けられた加工マーク21を有している。磁気ヘッドピ
ースQ1〜Q、の数は任意数である。
磁気ヘッドピースQ、〜Qnのそれぞれは、1個または
2個のトランスデユーサを有している。
第8図はトランスデユーサ部分の平面拡大部分破断面図
、第9図は第8図A t  A +線上における断面図
である。第8図及び第9図は構造の概略を示すために用
いられているもので、各部寸法は誇弓長して描かれてお
り、必ずしも一致してし)なし)。
20はセラミック構造体でs A1203−TtC等か
ら構成された基体部分201及びその上に形成されたア
ルミナ等の絶縁膜202を有している。22は下部磁性
膜、23はアルミナ等でなるギャップ膜、24は眉間絶
縁膜、25はコイル膜、26は上部磁性膜、27はアル
ミナ等の保護膜、28.29はリード導体であり、これ
らは集積回路技術によって形成されている。下部磁性膜
22及び上部磁性膜26は、端面2Bの方向に延びるポ
ール部221.261をそれぞれ有すると共に、ポール
部221.261の後方にヨーク部222.262を有
し、ヨーク部222.262の後方領域を、磁気回路を
完成するように互いに結合した構造となフている。コイ
ル膜25は結合部の周りを渦巻状に回るように配置され
ている。
上部磁性膜26のポール部261はセラミック構造体2
0の面に対して実質的に平行となるように形成された先
端部領域263の後方に、セラミック構造体20の面か
ら立ち上がる変位領域264を有し、変位領域264を
経てヨーク部262に連なっている。ポール部261の
先端から変位開始点Yまでの深さT、がスロートハイト
であり、変位開始点Yがスロートハイト零である。所定
の電磁変換特性が得られるたには、スロートハイトTH
を所定の値に設定しなければならない。スロートハイト
T8は端面2Bの研磨によって定められるが、その研磨
時の基準として加工マーク21が利用される。加工マー
ク21は磁気ヘッドピースQ、〜Q、のポール部221
.261の側部に設けられている。
再び、第1図〜第3図を参照して説明する。磁気ヘッド
ピースQ1〜Q、の整列方向の両側における磁気ヘッド
ピースQ8、Qn及び中間部に位置する磁気ヘッドピー
スQ1の少なくとも3点a ”−cにおいて、端面2B
から加工マーク21までの距離 L a y L cを
測定する。測定点は、上述の3点a〜Cを含んで更に多
く設定することもできる。測定は例えば光学的加工マー
ク検出装置によって行なわれる。距llL a y L
 cの測定前に、研磨される面2Bは平面度の高い面と
なるように研削しておく。
上述のようにして得られた測定値L a % L cか
ら、3点aNcを含む第1の曲線f1を想定する。この
場合の第1の曲線f1は2次曲線となり、各磁気ヘッド
ピースQ1〜Qnに含まれる加工マーク21の包絡線で
あるとみることができる。
次に、第1の曲線f1からスロートハイトT)Iが実質
的に零となる第2の曲線f2を想定する。
加工マーク21はスロートハイトTHが実質的に零とな
る位置である変位開始点Y (%8図及び第9図参照)
に対して、一定の位置関係となるように設計されている
ので、設計値に基づいて第2の曲線を想定してもよい。
この場合、第2の曲線f2は第1の曲線f1を平行移動
した曲線となる。別の手段として、同一ウニバー内から
切出され一つのヘッドピース集合体を、他に先行して研
磨し、加工マーク21に対するスロートハイトT□が零
の点を実測する手段も考えられる。第1の曲線f1及び
第2の直線f2の設定は、コンピュータによるデータ処
理によって実現できる。
次に、両側に配置されている磁気ヘッドピースについて
、端面2Bから第2の曲線f2までの距1i1LA% 
LBを求める。そして、Δa=La−LA Δb=Lb−LB △c= ((La+Lb)/2) −Lcの類似してい
るヘッドピース集合体を同一の治具に取付けて研磨する
。同一の治具に取付けるヘットピース集合体の数は3〜
5個程度である。
研磨はΔa1Δbを基準にして、Δa、Δbが所定の値
となるように行なう。これにより、許容幅内に含まれる
スロートハイトTHを有する良品のm気ヘッドピースの
数を増大させ、歩留を向上させることができる。
第4図は上述のようにして選択されたヘッドピース集合
体を取付けた研磨治具の正面断面図、′!17S5図は
同じくその底面図である。実施例では、ヘッドピース集
合体2を有する例えば4個の治具1を、共通の研磨治具
3に取付けである。各治具1に取付けられたベツドピー
ス集合体2は第1図〜第3図で説明した組合せ条件を満
たしている。4.5は接着剤、6は基準片である。
第6図及び第7図は研磨の具体例を示している。図にお
いて、7は回転体である。回転体7は図示しないモータ
等により、矢印で示すa1方向に回転駆動される。この
回転体7は、例えば錫等の軟質金属材料Bいて円板状に
形成された研磨部材71の背面に、例えばステンレス等
の金属材料によって円板状に形成された支持部材72を
、接着剤73によって一体的に面接合させである。
支持部材72は、スズ等の軟質金属材料で構成されてい
て機械的強度の不充分な研磨部材71を支持するために
設けられたものである。
研磨に当っては、回転体7を矢印a、方向に面回転させ
、かつ、研磨部材71の表面(イ)にダイヤモンド粒子
等を含む研磨材を供給しながら、研磨部材71の表面(
イ)にヘッドピース集合体2の下面を接触させる。治具
3は矢印b1またはす、で示す回転半径方向に平行移動
させ、研磨部材71の表面(イ)の全面で研磨が行なわ
れるようにする。矢印a2は治具3及びヘッドピース集
合体2の自転の方向を示している。治具1.3の構造及
びヘッドピース集合体2の取付枝打に関しては、前掲の
特開平51−157264号公報、特開平1−1572
65号公報等に記載された技術が通用できる。
〈発明の効果〉 以上述べたように、本発明は、治具の上に複数のヘッド
ピース集合体を取付け、取付は面とは反対側のヘッドピ
ース集合体の端面を研磨する研磨方法であって、磁気ヘ
ッドピースの整列方向の両側における磁気ヘッドピース
及び中間部に位置する磁気ヘッドピースの少なくとも3
点において、端面から加工マークまでの距離を測定し、
測定値から3点を含む第1の曲線を想定し、第1の曲線
からスロートハイトが実質的に零となる第2の曲線を想
定し、整列方向の両側に位置する磁気へッドビースにつ
いて端面から第2の曲線までの距離LA、LBを求め、 ΔawLa−LA、Δb=Lb−LB △c= ((La+Lb)/2) −Lcが類似してい
るヘッドピース集合体を、同一の治具に取付けて研磨す
るようにしたから、研磨量を客観的、合理的に設定し、
1つのヘッドピース集合体から得られる良品のへットビ
ース数を増大させて歩留を向上させると共に、同一治具
上に取付けるべき組合せ選択を容易化し、作業能率を向
上させたヘッドピース集合体の研磨方法を提供すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第3図は本発明に係るヘッドピース集合体の研
磨方法を示す図、第4図は選択されたヘッドピース集合
体を取付けた研磨治具の正面断面図、第5図は同じくそ
の底面図、第6図及び第7図は研磨の具体例を示す図、
第8図はトランスデユーサ部分の平面拡大部分破断面図
、′TSc+図は′tS8図A IA r線上における
断面図である。 1.3・・・治具 2・・・ヘッドピース集合体 Q+〜Qn ・・・磁気へッドビース f1 ・・・341の曲線 f2・・・第2の曲線 第4 図 第 図 第 図 第 図 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)治具の上に複数のヘッドピース集合体を取付け、
    取付け面とは反対側の前記ヘッドピース集合体の端面を
    研磨する研磨方法であって、前記ヘッドピース集合体は
    、セラミック支持体の上に複数の磁気ヘッドピースを一
    方向に間隔を隔てて整列してあり、 前記磁気ヘッドピースの各々は、前記端面側にポール部
    が位置していて、前記ポール部に対して所定の位置関係
    を保って設けられた加工マークを有しており、 前記磁気ヘッドピースの整列方向の両側における磁気ヘ
    ッドピース及び中間部に位置する磁気ヘッドピースの少
    なくとも3点において、前記端面から前記加工マークま
    での距離La、Lb及びLcを測定して、前記3点を含
    む第1の曲線を想定し、 前記第1の曲線からスロートハイトが実質的に零となる
    第2の曲線を想定し、整列方向の両側に位置する磁気ヘ
    ッドピースについて前記端面から前記第2の曲線までの
    距離LA、LBを求め、前記距離La、Lb、Lc、L
    A、LBに関し、 Δa=La−LA Δb=Lb−LB Δc={(La+Lb)/2}−Lc が類似しているヘッドピース集合体を、同一の治具に取
    付けて研磨すること を特徴とするヘッドピース集合体の研磨方法。
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