JPH04101893A

JPH04101893A - エッチング処理装置

Info

Publication number: JPH04101893A
Application number: JP21986090A
Authority: JP
Inventors: Chikashi Oishi; 近司大石
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1990-08-21
Filing date: 1990-08-21
Publication date: 1992-04-03

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】発明の目的。

（産業上の利用分野）この発明は、電子写真感光材料（以下マスクとする）表
面に親水化処理を行なうエツチング処理装置に関する。

（従来の技術）従来のエツチング処理装置の処理工程は、エツチングの
み、またはエツチングの後に※２煙するもので、色イン
キや印刷汚れが出易いインキでの印刷時には、印刷汚れ
性能を上げるために装置にマスクを複数回４通させてい
た。

また、エツチング処理槽内に、表面材質かスポンジや布
などからなる擦りロールを設けたものもある。第２図は
、そのような従来の装置の構成を示す図である。同図に
おいて、マスタ取入口１及びマスタ排土口２を有するハ
ウジング３の内部には、エツチング処理液が収容された
処理液槽４カ）内蔵されている。処理液槽４の左右には
対向する一対のロール５，６が支持され、これらのロー
ル５．６並びに処理？＆　ａ！　４の底部に位買した侵
潰ロール７の間には、マスクの幅よりも広い幅を持った
無端状の搬送ベルト８が掛渡されている。

ロール５の周面には、圧接ロール９がマスタを搬送ベル
ト８に圧接するように取りつけられている。マスク取入
口１からその一部が露呈したガイド板１３の表面には、
反射鏡１１を近接して有する赤外線ランプ１２か臨んで
いる。ガイド板１３の直下には、そのフィーラをガイド
板１３の上部に位置された一対のリミット・スイッチ１
４．１５が位置される。駆動モータ１６の電流回路に組
み入れられるリミット・スイッチ１４．１５の接点は、
一方のリミット・スイッチ１４がマスクを感知したとき
赤外線ランプ】２を点灯し、他方のリミット・スイッチ
１５がマスクの後端を感知したとき赤外線ランプ１２が
消灯するように回路構成されるが、回路側は周知である
ので説明は省略する。ロール６の周面には、絞りロール
１０が圧接される。一方、摩擦部材１７は、固定された
中心軸１８及びこの中心軸１８の周面を覆う海綿状摩擦
材１９から成る６ｆｌ綿状摩擦材１９の材質は、マスク
表面を傷付けずに摩擦できる材料であればよく、例えば
スポンジフェルト、海絽、綿等で構成することができる
。

ガイド板１３に沿ってハウジング３に入ってきたマスク
は、赤外線ランプ１２により乾燥される０次に、マスタ
は、圧接ロール９により搬送ベルト８に圧接される。搬
送ベルト８は、駆動モータ１６により駆動されており、
ロール５．６及び浸漬ロール７の周りを回動する。マス
クは搬送ベルト８に乗り回動じてエツチング処理液に侵
される。さらに、エツチング処理液中で海綿状摩擦部１
７を通過することによりマスク表面が擦られ、マスク表
面に付着したほこりや気泡が除去される。最後に、エツ
チング処理液から比たマスタは絞りロールｌＯによって
絞られ、ロール６に臨まれたシュート２０に沿ってマス
ク排出口２から取出される。

（発明が解決しようとする課題）ところが上述したように、従来におけるエツチング装置
の処理工程の一つは、エツチングのみまたはエツチング
の後に乾燥を行なうようになっており、色インキや印刷
汚れが出易いインキでの印刷時には処理装置を複数回通
過させることで親木化処理効果をあげて印刷汚れが出に
＜＜シていた。ところが、この場合、特にマスクを多数
枚便用するときには労力と時間を必要とした。一方、エ
ツチング処理イ夜檀内に表面材質がスポンジや布等から
なる擦りロールを設けたものは、マスク表面を液中で擦
るようにしているため、処理効果はそれほど大きくなか
った。また、装置の洗浄時にはロールが邪魔であり、ま
た取り外すのも困難であるという煩雑さが問題点であっ
た。

この発明は上述のような事情から成されたものであり、
この発明の目的は、装置にマスクを１回通すだけで充分
な処理効果が期待でき、装置のメンテナンス性も良いエ
ツチング処理装置を提供することにある。

発明の構成（課題を解決するための手段）この発明は、現像、定着後のマスクに対して親水化処理
を行なうエツチング処理装置に関するものであり、この
発明の上記目的は、エツチング処理の前段において前記
マスクの表面をバフ研磨する手段を備えることによって
達成される。

（作用）この発明にあっては、エツチング処理の前段でバフ研磨
することによりマスクの感光層表面に点在する微粉状ト
ナーを除去し、また、マスクの感光層に含まれる光電性
微粒子の突起を取り除いて感光層表面の空隙部を埋める
ことができるため、感光層が平滑化、かつ、緻密化され
てエツチング処理液との反応性が著しく向上する。また
、バフ研磨する手段をエツチング処理液槽外に設けるこ
とにより、処理液槽の洗浄やバフ研磨する手段の取り外
し及び交換などが容易となりメンテナンス性が向上する
。

（実施例）以下、図面に基づいてこの発明の実施例について詳細に
説明する。

５ｉ％１図（＾）は、この発明のエツチング処理装置に
おいてバフ研磨する手段として回転ロールを用いた場合
の一実施例を示す図である。また、同図（Ｂ）　は、バ
フ研磨する手段として摺動板を用いた場合の一実施例を
示す図である。

第１図（＾）において、マスクはまず挿入ロール２３．
２４により装置内に搬送される０次に、マスク表面は、
マスクの搬送とは異なる速度で回転する回転ロール２１
によりバフ研磨される。さらに、マスクは、搬送ロール
２５．２６　によりエツチング処理槽４に送られる。エ
ツチング処理槽４を出たマスクは絞りロール１０．２７
により絞られ、シュート２０を通して取り出される。尚
、回転ロール２１の回転速度は、マスクの搬送速度より
も苦干速い速度とするのが最適である。

纂】図ＦＢ）は、第１図（Ａ）における回転ロール２１
を摺動板２２と取り替えたものであり、他の部分は同一
であるので、この例については摺動板２２についてのみ
説明する。摺動板２２はマスタの搬送方向と垂直な方向
に摺動運動することにより、摺動板２２の下を通過する
マスク表面を効率的にバフ研磨する。

尚、回転ロール２１及び摺動板２２のマスタ表面に直接
接する部分の材買は、マスク表面を傷付けずにバフ研磨
できる材料であればよく、布、スポンジの他、合成皮革
のクラリーノ、エクセーヌ、　ＧＳフェルト、合成樹脂
のナイロン、テフロン、テトロン、サラン、ポリプロピ
レン、あるいは獣毛等が考えられる。

発明の効果：以上のようにこの発明のエツチング処理装置によれば、
エツチング処理の前段においてバフ研磨する手段を設け
ることにより、装置に１回通すだけで従来より効果的に
マスクの感光層表面に、壱存する微粉状トナーを除去し
、また、マスクの感光層に含まれる光電性微粒子の突起
を取り除くことができるので、感光層が平滑化、かつ、
緻密化されてエツチング処理液との反応性が著しく向上
する。その結果、より十分にマスク表面が親水化され、
印刷の際に油性の印刷インキが非画線部に付着すること
による印刷汚れを少なくできるようになる。また、バフ
研磨する手段を処理液槽外に設けることにより、処理液
槽の洗浄やバフ研磨する手段の取り外し及び交換などが
容易となりメンテナンス性も向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図（八）はこの発明のエツチング処理装賀において
バフ研磨する手段として回転ロールを用いた一実施例を
示す図、第１図（Ｂ）は、ハフ研磨する手段として摺動
板を用いた一実施例を示す図、第２区はエツチング処理
液槽内に擦りロールを設けた従来の装置を示す図である
。１・・・マスク取入口、２・・・マスク排出口、３・・
・ハウジング、４・・・処理？＆槽、５．６・・・ロー
ル、７・・・？受漬ロール、９・・・圧接ロール、１０
．２７・・・絞りロール、１１・・・反射鏡、１２・・
・赤外線ランプ、１３・・・ガイド板、１４．１５・・
・リミット・スイッチ、１６・・・駆動モータ、１７・
・・摩擦部材、１８・・・中心軸、１９・・・海綿状摩
擦材、２０・・・シュート、２１・・・回転ロール、２
２・・・摺動板、２３．２４・・・挿入ロール、２５．
２６・・・搬送ロール。（Ａ）８１　図

Claims

【特許請求の範囲】１、現像、定着後の電子写真感光材料に対して親水化処
理を行なうエッチング処理装置において、エッチング処
理の前段において前記電子写真感光材料の表面をバフ研
磨する手段を備えるようにしたことを特徴とするエッチ
ング処理装置。２、前記バフ研磨する手段は、表面材質が布やスポンジ
等から成る回転ロールである請求項１に記載のエッチン
グ処理装置。３、前記バフ研磨する手段は、表面材質が布やスポンジ
等から成る摺動板である請求項１に記載のエッチング処
理装置。