JPH04106194A - コークス炉ガスの精製方法 - Google Patents
コークス炉ガスの精製方法Info
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- JPH04106194A JPH04106194A JP2224859A JP22485990A JPH04106194A JP H04106194 A JPH04106194 A JP H04106194A JP 2224859 A JP2224859 A JP 2224859A JP 22485990 A JP22485990 A JP 22485990A JP H04106194 A JPH04106194 A JP H04106194A
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- Japan
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- gas
- coke oven
- oven gas
- zeolite
- organic sulfur
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Industrial Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、コークス炉ガス（以下、Ｃガスという）中の
有機いおう（ＣＯ３，ｃｓａ ）、ＮＯ８の除去を行う
Ｃガスの精製方法に関する。
有機いおう（ＣＯ３，ｃｓａ ）、ＮＯ８の除去を行う
Ｃガスの精製方法に関する。
〈従来の技術〉
コークス炉から発生するＣガス中には有機いおうやＮｏ
、が含まれており、このことはＣガスを都市ガス等に利
用するにあたっての大きな問題である。 すなわち、有
機いおうは、燃焼後ＳＯｘとなり、給湯器等において低
温腐食の原因となる。 また、ＮＯ８はガス中のブタジ
エン等のジエン類と反応しガム状物質を生成し、各種の
弁への付着、バーナノズル詰り等の問題を生じる。
、が含まれており、このことはＣガスを都市ガス等に利
用するにあたっての大きな問題である。 すなわち、有
機いおうは、燃焼後ＳＯｘとなり、給湯器等において低
温腐食の原因となる。 また、ＮＯ８はガス中のブタジ
エン等のジエン類と反応しガム状物質を生成し、各種の
弁への付着、バーナノズル詰り等の問題を生じる。
従って、これらの物質を除去することはＣガスの利用に
あたっての重大な課題である。
あたっての重大な課題である。
なお、本発明において有機いおりの除去とは、Ｈ，Ｓへ
の転換（水添反応における反応式を下に示す）をいい、
Ｈ，Ｓは既往の水酸化鉄あるいはＺｎＯ等により容易に
除去されることを前提とする。
の転換（水添反応における反応式を下に示す）をいい、
Ｈ，Ｓは既往の水酸化鉄あるいはＺｎＯ等により容易に
除去されることを前提とする。
ＣＯ３＋Ｈ２→ＣＯ＋ ＨＩ ５
Ｃ３ｚ ＋２ｌ−１ｔ→ＣＨ４＋２Ｈ２Ｓ従来、有機い
おうまたはＮＯ８の単独除去については、各種の技術が
発表されている。
おうまたはＮＯ８の単独除去については、各種の技術が
発表されている。
例えば有機いおうの除去については、特開昭５９−２３
００９０号によって代表されるように、ガス中のＯＭ
、オレフィンの除去の後、さらに水添脱硫する方法がよ
く知られている。
００９０号によって代表されるように、ガス中のＯＭ
、オレフィンの除去の後、さらに水添脱硫する方法がよ
く知られている。
その他、特表昭６２−５００９９９号のように加水分解
反応により有機いおうの分解を行う方法やＣＯのシフト
反応を利用した方法（例えば、特開昭６０−１６１３０
１号参照）もある。
反応により有機いおうの分解を行う方法やＣＯのシフト
反応を利用した方法（例えば、特開昭６０−１６１３０
１号参照）もある。
また、ＮＯ，の除去方法としては、活性炭による吸着や
加圧滞留法（都市ガス工業、製造精製線Ｐ、６５８〜６
６７、日本瓦斯協会）、さらには特開昭５１−１４１７
８４号のような吸着法や特開昭５１．−４１６６９号の
ような接触分解法も知られている。
加圧滞留法（都市ガス工業、製造精製線Ｐ、６５８〜６
６７、日本瓦斯協会）、さらには特開昭５１−１４１７
８４号のような吸着法や特開昭５１．−４１６６９号の
ような接触分解法も知られている。
〈発明が解決しようとする課題〉
従来の有機いおう除去プロセスにおいて、■完全な脱硫
のためには、２段以上の水添プロセスを必要とし、しか
も触媒としてＮ ｉ −Ｍ ＯやＣｏ−Ｍｏのような高
価な金属触媒を用いる必要があった。
のためには、２段以上の水添プロセスを必要とし、しか
も触媒としてＮ ｉ −Ｍ ＯやＣｏ−Ｍｏのような高
価な金属触媒を用いる必要があった。
またそれらを、触媒の劣化が著しい高温で使用すること
、あるいはメタン化反応等の副反応の発生についてもそ
の制御を考える必要があった。 さらに、使用に当って
は、触媒を硫化処理を行わなければ使用できないという
欠点がある。 ■加水分解やＣＯシフト反応では、水蒸
気を必要とし経済的でない。
、あるいはメタン化反応等の副反応の発生についてもそ
の制御を考える必要があった。 さらに、使用に当って
は、触媒を硫化処理を行わなければ使用できないという
欠点がある。 ■加水分解やＣＯシフト反応では、水蒸
気を必要とし経済的でない。
従来のＮＯ，除去プロセスでは、■当然のことながら有
機いおうの除去が行われない。 ■Ｎｏ工除去の目的で
あるガムの発生防止のためにはガス中のＮｏ、濃度を０
．Ｏ５ｐｐｍ以下にすべきであるが、従来の技術ではそ
のようなレベルまでＮｏ、を除去することが困難であっ
た。
機いおうの除去が行われない。 ■Ｎｏ工除去の目的で
あるガムの発生防止のためにはガス中のＮｏ、濃度を０
．Ｏ５ｐｐｍ以下にすべきであるが、従来の技術ではそ
のようなレベルまでＮｏ、を除去することが困難であっ
た。
本発明は、これらの従来の有機いおうおよびＮＯ８除去
の問題を一挙に解決し、有機いおうおよびＮＯｘが完全
に除去できるＣガスの精製方法を提供することを目的と
している。
の問題を一挙に解決し、有機いおうおよびＮＯｘが完全
に除去できるＣガスの精製方法を提供することを目的と
している。
く課題を解決するための手段〉
上記目的を達成するために本発明の第１の態様によれば
、コークス炉ガス中の有機いおうおよびＮｏ、を除去す
るに際し、 前記コークス炉ガスを２５０〜３５０℃に予熱したのち
、ゼオライトの充てん層を通過させることを特徴とする
コークス炉ガスの精製方法が提供される。
、コークス炉ガス中の有機いおうおよびＮｏ、を除去す
るに際し、 前記コークス炉ガスを２５０〜３５０℃に予熱したのち
、ゼオライトの充てん層を通過させることを特徴とする
コークス炉ガスの精製方法が提供される。
また、本発明の第２の態様によれば、コークス炉ガス中
の有機いおうおよびＮｏっを除去するに際し、 前記コークス炉ガスを１５０〜２５０℃に予熱したのち
、Ｐｄを担持した粒状アルミナの触媒充てん層を通過さ
せ、 続いて前記触媒充てん層で処理されたコークス炉ガスを
２５０〜３５０℃に予熱したのち、ゼオライトの充てん
層を通過させることを特徴とするコークス炉ガスの精製
方法が提供される。
の有機いおうおよびＮｏっを除去するに際し、 前記コークス炉ガスを１５０〜２５０℃に予熱したのち
、Ｐｄを担持した粒状アルミナの触媒充てん層を通過さ
せ、 続いて前記触媒充てん層で処理されたコークス炉ガスを
２５０〜３５０℃に予熱したのち、ゼオライトの充てん
層を通過させることを特徴とするコークス炉ガスの精製
方法が提供される。
ここで、前記ゼオライトは、天然産モルデナイトが好ま
しい。
しい。
以下に本発明をさらに詳細に説明する。
第１図は、本発明の第１の態様の基本構成を示す図であ
る。 処理すべきＣガスｌは、ゼオライト充てん層２で
有機いおうの殆ど全部がＨ２Ｓに転換され、ＮＯ，はＮ
２と８２０となって除去される。
る。 処理すべきＣガスｌは、ゼオライト充てん層２で
有機いおうの殆ど全部がＨ２Ｓに転換され、ＮＯ，はＮ
２と８２０となって除去される。
前記ゼオライト充てん層２に用いられるゼオライトとし
ては天然産モルデナイトを挙げることができる。 なぜ
なら、第５図に示すように、天然モルデナイトは、他の
ゼオライトに比して著しく寿命が長いことが確認された
ためである。
ては天然産モルデナイトを挙げることができる。 なぜ
なら、第５図に示すように、天然モルデナイトは、他の
ゼオライトに比して著しく寿命が長いことが確認された
ためである。
なお、第５図は人口ガス中のＳとしてＣ０８６０ｍｇ／
Ｎｍ３、Ｃ３ｚ ７０ｍｇ／Ｎｍ”、実験温度３００
℃、空間速度１０００ｈ−’の条件で有機いおうの除去
率をしらべたものである。
Ｎｍ３、Ｃ３ｚ ７０ｍｇ／Ｎｍ”、実験温度３００
℃、空間速度１０００ｈ−’の条件で有機いおうの除去
率をしらべたものである。
第３図は、本発明の第１の態様の１実施例を示す反応系
統図である。
統図である。
処理すべきＣガス１は、まず熱交換器４を通り、ガス加
熱器５で２５０〜３５０℃、好ましくは３００〜３５０
°Ｃに予熱される。
熱器５で２５０〜３５０℃、好ましくは３００〜３５０
°Ｃに予熱される。
前記予熱温度は、２５０℃未満では触媒の活性が低く、
また、３５０℃超では触媒でのコーキング現象が顕著と
なり失活しやすいためである。
また、３５０℃超では触媒でのコーキング現象が顕著と
なり失活しやすいためである。
つぎに、このガスをゼオライト充てん層２へ導き、ここ
でガス中の有機いおうの殆ど全部がＨ２Ｓに転換されて
除去され、ガス中のＮＯ工はＮ２およびＨ２０となって
除去され、熱交換器４およびガス冷却器６を経て精製ガ
スとして排出される。
でガス中の有機いおうの殆ど全部がＨ２Ｓに転換されて
除去され、ガス中のＮＯ工はＮ２およびＨ２０となって
除去され、熱交換器４およびガス冷却器６を経て精製ガ
スとして排出される。
第２図は、本発明の第２の態様の基本構成を示す図であ
る。 処理すべきＣガス１は、Ｐｄ担持触媒充てん層３
で炭素析出（コーキング）の原因となる物質（Ｃ２、ア
セチレン、ブタジェン、シクロペンタジェン）が水添除
去される。 また、ＣＯＳおよびＣＳ２ の８分はＨ２
ＳとＣ２１１，ＳＨに転換される。 続いて、ゼオライ
ト充てん層２でＣ：２ＨｆｉＳＨとＮｏ、が除去される
。
る。 処理すべきＣガス１は、Ｐｄ担持触媒充てん層３
で炭素析出（コーキング）の原因となる物質（Ｃ２、ア
セチレン、ブタジェン、シクロペンタジェン）が水添除
去される。 また、ＣＯＳおよびＣＳ２ の８分はＨ２
ＳとＣ２１１，ＳＨに転換される。 続いて、ゼオライ
ト充てん層２でＣ：２ＨｆｉＳＨとＮｏ、が除去される
。
すなわち第２の態様においては、ゼオライト充てん層２
においてＣガスを高温で処理する際に問題となる炭素析
出（コーキング）の原因であるＣガス中の０２やアセチ
レン、ジエン類の除去を前もって行うため、ゼオライト
充てん層２の寿命を大幅に延長できる。
においてＣガスを高温で処理する際に問題となる炭素析
出（コーキング）の原因であるＣガス中の０２やアセチ
レン、ジエン類の除去を前もって行うため、ゼオライト
充てん層２の寿命を大幅に延長できる。
第４図は、本発明の第２の態様の１実施例を示す反応系
統図である。
統図である。
処理すべきＣガス１は、まず熱交換器４で１５０〜２５
０℃、好ましくは１８０〜２５０℃に予熱される。
０℃、好ましくは１８０〜２５０℃に予熱される。
前記予熱温度は、１５０℃未満では活性がより（、また
、２５０℃超では触媒でのコーキング現象による劣化が
大きくなるためである。
、２５０℃超では触媒でのコーキング現象による劣化が
大きくなるためである。
つぎにこのガスをＰｄを担持した粒状アルミナの触媒光
てん層３へ導入して処理したのち、ガス加熱器５で前記
第１の態様の場合と同様に２５０〜３５０℃、好ましく
は３００〜３５０℃に予熱される。
てん層３へ導入して処理したのち、ガス加熱器５で前記
第１の態様の場合と同様に２５０〜３５０℃、好ましく
は３００〜３５０℃に予熱される。
続いて、このガスをゼオライト充てん層２へ導きＣ，Ｈ
８５ＨとＮＯｏを除去し、熱交換器４およびガス冷却器
６を経て精製ガスとして排出される。
８５ＨとＮＯｏを除去し、熱交換器４およびガス冷却器
６を経て精製ガスとして排出される。
〈実施例〉
以下に本発明を実施例に基づき具体的に説明する。
（実施例１）
表１に示す組成のＣガスを第３図に従って３５０℃でゼ
オライト（モルデナイト）充てん層に通したときの、人
、出側のガス中の有機いおう（ＣＳ、、Ｃ０５）および
ＮＯ８を表２に示す。 ここで、ガスの通過条件は、圧
力５００ ｍｍＡｑ、空間速度（ＳＶ）６６６ｈ−’と
した。
オライト（モルデナイト）充てん層に通したときの、人
、出側のガス中の有機いおう（ＣＳ、、Ｃ０５）および
ＮＯ８を表２に示す。 ここで、ガスの通過条件は、圧
力５００ ｍｍＡｑ、空間速度（ＳＶ）６６６ｈ−’と
した。
表２からＣＯ５，ＣＳ、、Ｎｏ、とも問題ないレベルま
で除去されていることがわかる。
で除去されていることがわかる。
（実施例２）
実施例１と同様のＣガスを第４図に従って２５０℃でＰ
ｄを０．５ｗｔ％担持した粒状アルミナ触媒光てん層に
通したのち、３５０℃でゼオライト（モルデナイト）充
てん層に通したときの両層入、出口におけるガス組成を
それぞれ表３．４に示す。 前記Ｐｄ担持触媒充てん層
における空間速度は、２０００ｈ−’とした。
ｄを０．５ｗｔ％担持した粒状アルミナ触媒光てん層に
通したのち、３５０℃でゼオライト（モルデナイト）充
てん層に通したときの両層入、出口におけるガス組成を
それぞれ表３．４に示す。 前記Ｐｄ担持触媒充てん層
における空間速度は、２０００ｈ−’とした。
除去は不充全であり、またＣ２）１５３Ｈのような有機
いおうの生成がみられる。 しかし、そのガスをゼオラ
イト充てん層を通過させることにより、表４に示すよう
にＮ Ｏ、、Ｃ２Ｈ６５Ｈも除去されていることがわか
る。
いおうの生成がみられる。 しかし、そのガスをゼオラ
イト充てん層を通過させることにより、表４に示すよう
にＮ Ｏ、、Ｃ２Ｈ６５Ｈも除去されていることがわか
る。
またＰｄ担持触媒充てん層では、炭素析出（コーキング
）の原因物質である０２、アセチレン、ブタジェン、シ
クロペンタジェンも完全に除去されている。 従って、
あとに続（ゼオライト充てん層で高温にて処理しても炭
素の析出はな（、その寿命の延長ができた。
）の原因物質である０２、アセチレン、ブタジェン、シ
クロペンタジェンも完全に除去されている。 従って、
あとに続（ゼオライト充てん層で高温にて処理しても炭
素の析出はな（、その寿命の延長ができた。
表 ４
〈発明の効果〉
本発明は以上説明したように構成されているから、本発
明によりＣガス中の有機いおうおよびＮＯ８が完全に除
去でき、Ｃガスを都市ガスとして使う際に問題となるガ
ス中のいおう分に基づく腐食またはＮＯ８ガムに起因す
る各種のトラブルがな（なるという効果を奏する。
明によりＣガス中の有機いおうおよびＮＯ８が完全に除
去でき、Ｃガスを都市ガスとして使う際に問題となるガ
ス中のいおう分に基づく腐食またはＮＯ８ガムに起因す
る各種のトラブルがな（なるという効果を奏する。
また、Ｃガスをゼオライト充てん層で処理する前にＰｄ
担持触媒充てん層で処理することによりゼオライト充て
ん層の寿命を大幅に延長できるという効果を奏する。
担持触媒充てん層で処理することによりゼオライト充て
ん層の寿命を大幅に延長できるという効果を奏する。
第１図および第２図は、それぞれ本発明の第１および第
２の態様の基本構成を示す図である。 第３図および第４図は、それぞれ本発明の第１および第
２の態様の１実施例を示す反応系統図である。 第５図は、各種ゼオライトと有機いおう除去率の推移と
の関係を示すグラフである。 符号の説明 １・・・コークス炉ガス（Ｃガス）、 ２・・・ゼオライト充てん層、 ３・・・Ｐｄ担持触媒充てん層、 ４・・・熱交換器、 ５・・・ガス加熱器、 ６・・・ガス冷却器 Ｆ Ｉ Ｇ、 ２ Ｆ Ｉ Ｇ、 ４ ＦＩＧ、３
２の態様の基本構成を示す図である。 第３図および第４図は、それぞれ本発明の第１および第
２の態様の１実施例を示す反応系統図である。 第５図は、各種ゼオライトと有機いおう除去率の推移と
の関係を示すグラフである。 符号の説明 １・・・コークス炉ガス（Ｃガス）、 ２・・・ゼオライト充てん層、 ３・・・Ｐｄ担持触媒充てん層、 ４・・・熱交換器、 ５・・・ガス加熱器、 ６・・・ガス冷却器 Ｆ Ｉ Ｇ、 ２ Ｆ Ｉ Ｇ、 ４ ＦＩＧ、３
Claims (3)
- （１）コークス炉ガス中の有機いおうおよびＮＯ＿ｘを
除去するに際し、 前記コークス炉ガスを２５０〜３５０℃に予熱したのち
、ゼオライトの充てん層を通過させることを特徴とする
コークス炉ガスの精製方法。 - （２）コークス炉ガス中の有機いおうおよびＮＯ＿ｘを
除去するに際し、 前記コークス炉ガスを１５０〜２５０℃に予熱したのち
、Ｐｄを担持した粒状アルミナの触媒充てん層を通過さ
せ、 続いて前記触媒充てん層で処理されたコークス炉ガスを
２５０〜３５０℃に予熱したのち、ゼオライトの充てん
層を通過させることを特徴とするコークス炉ガスの精製
方法。 - （３）前記ゼオライトは、天然産モルデナイトである請
求項１または２記載のコークス炉ガスの精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2224859A JPH04106194A (ja) | 1990-08-27 | 1990-08-27 | コークス炉ガスの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2224859A JPH04106194A (ja) | 1990-08-27 | 1990-08-27 | コークス炉ガスの精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04106194A true JPH04106194A (ja) | 1992-04-08 |
Family
ID=16820289
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2224859A Pending JPH04106194A (ja) | 1990-08-27 | 1990-08-27 | コークス炉ガスの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04106194A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006291036A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Sekiyu Combinat Kodo Togo Unei Gijutsu Kenkyu Kumiai | 炭化水素油の吸着脱硫方法 |
| JP2006527297A (ja) * | 2003-06-11 | 2006-11-30 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | ＮＯｘの触媒反応によるＨ２／ＣＯ混合物の精製 |
| JP2008239443A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Mitsubishi Chemicals Corp | 合成ガス製造方法及びシステム |
| WO2018041728A1 (de) * | 2016-09-01 | 2018-03-08 | Thyssenkrupp Industrial Solutions Ag | Verfahren und vorrichtung zum entfernen von organischen schwefelverbindungen aus wasserstoffreichen gasen |
-
1990
- 1990-08-27 JP JP2224859A patent/JPH04106194A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006527297A (ja) * | 2003-06-11 | 2006-11-30 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・ア・ディレクトワール・エ・コンセイユ・ドゥ・スールベイランス・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | ＮＯｘの触媒反応によるＨ２／ＣＯ混合物の精製 |
| JP2006291036A (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-26 | Sekiyu Combinat Kodo Togo Unei Gijutsu Kenkyu Kumiai | 炭化水素油の吸着脱硫方法 |
| JP2008239443A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Mitsubishi Chemicals Corp | 合成ガス製造方法及びシステム |
| WO2018041728A1 (de) * | 2016-09-01 | 2018-03-08 | Thyssenkrupp Industrial Solutions Ag | Verfahren und vorrichtung zum entfernen von organischen schwefelverbindungen aus wasserstoffreichen gasen |
| CN109641176A (zh) * | 2016-09-01 | 2019-04-16 | 蒂森克虏伯工业解决方案股份公司 | 用于从富氢气体中除去有机硫化合物的方法和装置 |
| KR20190041520A (ko) * | 2016-09-01 | 2019-04-22 | 티센크루프 인더스트리얼 솔루션스 아게 | 수소-풍부 가스로부터 유기 황 화합물을 제거하기 위한 방법 및 장치 |
| JP2019529306A (ja) * | 2016-09-01 | 2019-10-17 | ティッセンクルップ インダストリアル ソリューションズ アクツィエンゲゼルシャフトＴｈｙｓｓｅｎＫｒｕｐｐ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ ＡＧ | 水素富化ガスから有機硫黄化合物を除去するための方法および装置 |
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