JPH04107841A - 半導体ウェハー搬送装置および搬送方法 - Google Patents
半導体ウェハー搬送装置および搬送方法Info
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- JPH04107841A JPH04107841A JP22613190A JP22613190A JPH04107841A JP H04107841 A JPH04107841 A JP H04107841A JP 22613190 A JP22613190 A JP 22613190A JP 22613190 A JP22613190 A JP 22613190A JP H04107841 A JPH04107841 A JP H04107841A
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- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
5産東上の利用分野〕
本発明は半導体ウェハー搬送装置に関し、特に、ウェハ
ーキャリヤからウェハーをフォークアームにて搬送する
装置および方法に関する。
ーキャリヤからウェハーをフォークアームにて搬送する
装置および方法に関する。
従来、この種の半導体ウェハー搬送装置におけるウェハ
ー搬送方法は、第6図に示すフローチャートのようにな
っている。第5図は第6図に示す搬送方法の各手順を実
行する従来の半導体ウェハー搬送装置である。
ー搬送方法は、第6図に示すフローチャートのようにな
っている。第5図は第6図に示す搬送方法の各手順を実
行する従来の半導体ウェハー搬送装置である。
最初、ウェハー検出用の光透過型センサの発光素子56
3および受光素子504をエアシリンダ506によりウ
ェハー検出位置に押し上げる(手順601)。受光素子
504からの信号によりウェハーを検出していなければ
、ウェハ−キャリヤ501を昇降するエレベータ機構部
505を下げる。この動作をウェハーを検出するまで行
う(手順602,603)。ウェハーが検出されたら、
フォークアームを挿入するためその位置より一定量W(
第4図)だけエレベータを上げ、ウェハーがフォークア
ーム507に接触しないようにする(手順605)。一
定量Wは、通常、設計時のウェハーキャリヤのスロット
溝の間隔(第3図の306)と搬送ウェハーの実際の厚
み(第3図308)により決定される。この位置でフォ
ークアーム507をウニノー−キャリア501の中に挿
入L (手順606)、ウェハーをフォークアーム50
7に吸着するため、再びエレベータ505を下げる(手
順607)。これによりウエノ1−がフォークアーム5
07に載ったので、フォークアームを移動し、ウェハー
をキャリヤから取り出しく手順608)搬送を行い、装
置の用途に応じた様々な処理を行う(手順609)。
3および受光素子504をエアシリンダ506によりウ
ェハー検出位置に押し上げる(手順601)。受光素子
504からの信号によりウェハーを検出していなければ
、ウェハ−キャリヤ501を昇降するエレベータ機構部
505を下げる。この動作をウェハーを検出するまで行
う(手順602,603)。ウェハーが検出されたら、
フォークアームを挿入するためその位置より一定量W(
第4図)だけエレベータを上げ、ウェハーがフォークア
ーム507に接触しないようにする(手順605)。一
定量Wは、通常、設計時のウェハーキャリヤのスロット
溝の間隔(第3図の306)と搬送ウェハーの実際の厚
み(第3図308)により決定される。この位置でフォ
ークアーム507をウニノー−キャリア501の中に挿
入L (手順606)、ウェハーをフォークアーム50
7に吸着するため、再びエレベータ505を下げる(手
順607)。これによりウエノ1−がフォークアーム5
07に載ったので、フォークアームを移動し、ウェハー
をキャリヤから取り出しく手順608)搬送を行い、装
置の用途に応じた様々な処理を行う(手順609)。
各処理終了後、取り出し時と同じ位置にフォークアーム
507を挿入しく手順610)、ウェハーを7オークア
ーム507に吸着するために下げた移動量だけエレベー
タを上げ、ウェハーをフォークアーム507から離し、
スロット溝へ戻し収納する(手順612)。次のウェハ
ーの搬送準備のため、フォークアーム507を退避位置
に移動しく手順612)、現在搬送したウェハーを誤検
出せず次のウェハーを検出することができるように、一
定量エレベータを下げ(手順613)、1枚のウェハー
の搬送処理を終了する。この処理をキャリヤ内に納めら
れているウェハー枚数分に行、搬送処理を終了する(手
順614)。
507を挿入しく手順610)、ウェハーを7オークア
ーム507に吸着するために下げた移動量だけエレベー
タを上げ、ウェハーをフォークアーム507から離し、
スロット溝へ戻し収納する(手順612)。次のウェハ
ーの搬送準備のため、フォークアーム507を退避位置
に移動しく手順612)、現在搬送したウェハーを誤検
出せず次のウェハーを検出することができるように、一
定量エレベータを下げ(手順613)、1枚のウェハー
の搬送処理を終了する。この処理をキャリヤ内に納めら
れているウェハー枚数分に行、搬送処理を終了する(手
順614)。
上述したウェハー搬送装置において、ウェハーキャリヤ
501内のウェハーは、第3図に示すように台形型のス
ロット溝502が支えることで収納されている。これは
、ウェハー303〜305とスロット溝502との接触
面を少しでも少なくしようとするためである。またウェ
ハーは円形をしており、実際にウェハ−キャリヤ内に収
納されているウェハーは、第3図および第4図に示す通
り、前後左右に傾いている場合がある。また、ウェハー
キャリヤ自体の製造精度も悪く、ウェハーキャリヤ50
1のスロット溝とスロット溝との間隔も、必ずしも一定
ではない。
501内のウェハーは、第3図に示すように台形型のス
ロット溝502が支えることで収納されている。これは
、ウェハー303〜305とスロット溝502との接触
面を少しでも少なくしようとするためである。またウェ
ハーは円形をしており、実際にウェハ−キャリヤ内に収
納されているウェハーは、第3図および第4図に示す通
り、前後左右に傾いている場合がある。また、ウェハー
キャリヤ自体の製造精度も悪く、ウェハーキャリヤ50
1のスロット溝とスロット溝との間隔も、必ずしも一定
ではない。
このような要因により、従来の半導体ウェハーの搬送方
法では、第4図に示すように、ウェハーaを検出したと
きの光透過型センサの光路402より、一定量WたけI
Vベータ機構部505を下げた位置41Oにフォーアー
ムを挿入するので、ウェハーが傾いて収納されている場
合や、1つのキャリヤに厚みの異なるウエノ1−が存在
したもとを取扱う場合、ウェハー間隔のばらつきが大き
くなり搬送するウェハーの1段下に収納されているウェ
ハーに、フォークアームが接触し、ウエノ蔦−を傷つけ
るという欠点がある。
法では、第4図に示すように、ウェハーaを検出したと
きの光透過型センサの光路402より、一定量WたけI
Vベータ機構部505を下げた位置41Oにフォーアー
ムを挿入するので、ウェハーが傾いて収納されている場
合や、1つのキャリヤに厚みの異なるウエノ1−が存在
したもとを取扱う場合、ウェハー間隔のばらつきが大き
くなり搬送するウェハーの1段下に収納されているウェ
ハーに、フォークアームが接触し、ウエノ蔦−を傷つけ
るという欠点がある。
本発明による半導ウェハー搬送装置は、搬送装置として
、ウェハーを収納したキャリヤを上下動作することので
きるエレベータ機構部と、キャリヤに収納されたウェハ
ーの有無を検出する光透過型センサと、該センサを上下
するエアシリンダとキャリヤからウェハーを取り出すフ
ォーアーム機構部と、それらを制御する制御部とを含み
制御部の一部にエレベータの移動情報の記憶領域とを備
え、エレベータを移動させながら光透過型センサにより
、ウェハー間隔、及びウェハー厚みをエレベータの移動
情報として測定し、その移動情報を制御部の一部の記憶
領域に記憶し、記憶情報に基づき、ウェハー搬送のため
のフォーアーム挿入位置がウェハー間隔の丁度中間とな
るようにエレベータ機構部を制御し、ウェハーの搬送を
行うことを特徴とする。
、ウェハーを収納したキャリヤを上下動作することので
きるエレベータ機構部と、キャリヤに収納されたウェハ
ーの有無を検出する光透過型センサと、該センサを上下
するエアシリンダとキャリヤからウェハーを取り出すフ
ォーアーム機構部と、それらを制御する制御部とを含み
制御部の一部にエレベータの移動情報の記憶領域とを備
え、エレベータを移動させながら光透過型センサにより
、ウェハー間隔、及びウェハー厚みをエレベータの移動
情報として測定し、その移動情報を制御部の一部の記憶
領域に記憶し、記憶情報に基づき、ウェハー搬送のため
のフォーアーム挿入位置がウェハー間隔の丁度中間とな
るようにエレベータ機構部を制御し、ウェハーの搬送を
行うことを特徴とする。
さらに本発明によれば、半導体ウェハーを収容したキャ
リヤの中のウェハーを光透型センサにより検出し、前記
センサで検出されるウェハーの間隔と厚みを前記キャリ
ヤを移動させるエレベータの移動にともなって検出して
ウェハーの間隔と厚み情報として記憶し、その記憶情報
に基づいてウェハー搬送のためのアームがウェハー間隔
の丁度中間にくるよう前記ウレベータを移動する半導体
ウェハーの搬送方法が得られる。
リヤの中のウェハーを光透型センサにより検出し、前記
センサで検出されるウェハーの間隔と厚みを前記キャリ
ヤを移動させるエレベータの移動にともなって検出して
ウェハーの間隔と厚み情報として記憶し、その記憶情報
に基づいてウェハー搬送のためのアームがウェハー間隔
の丁度中間にくるよう前記ウレベータを移動する半導体
ウェハーの搬送方法が得られる。
次に本発明の実施例について図面を参照して説明する。
第1図は、本発明の一実施例を示す半導体ウェハー搬送
装置のブロック図、第2図は、第1図の装置の制御部に
よるウェハー搬送手順を示すフローチャートである。
装置のブロック図、第2図は、第1図の装置の制御部に
よるウェハー搬送手順を示すフローチャートである。
第1図と第2図において、ウェハー搬送時には最初、制
御部108はエレベータ機構部105をウェハー搬送開
始位置まで、移動させる(手順201)、さらにウェハ
ー検出用の光透過型センサの発光素子103および受光
素子104をエアシリンダ106により、ウェハー検出
位置に押し上げる(手順202)。制御部108のハー
ドウェア制御部109は、受光素子104からの信号に
より、ウェハー102を検出していなければ、エレベー
タ機構部105を下げる(手順204)。
御部108はエレベータ機構部105をウェハー搬送開
始位置まで、移動させる(手順201)、さらにウェハ
ー検出用の光透過型センサの発光素子103および受光
素子104をエアシリンダ106により、ウェハー検出
位置に押し上げる(手順202)。制御部108のハー
ドウェア制御部109は、受光素子104からの信号に
より、ウェハー102を検出していなければ、エレベー
タ機構部105を下げる(手順204)。
下げると共に、その移動情報を制御部108の一部であ
るウェハー間隔記憶部110に記憶する(手順205)
。このときウェハー102が検出シ されlまで、エレベータを下げる動作及び、その移動情
報をウェハー間隔記憶部110にカウントアツプしなが
ら記憶する処理をくり返す(手順203)すると、ウェ
ハーが検出されたときに、ウェハー間隔記憶部110に
記憶されている量が、エレベータの移動情報で表したウ
ェハー間隔pとなる。
るウェハー間隔記憶部110に記憶する(手順205)
。このときウェハー102が検出シ されlまで、エレベータを下げる動作及び、その移動情
報をウェハー間隔記憶部110にカウントアツプしなが
ら記憶する処理をくり返す(手順203)すると、ウェ
ハーが検出されたときに、ウェハー間隔記憶部110に
記憶されている量が、エレベータの移動情報で表したウ
ェハー間隔pとなる。
このウェハー間隔lが、フォークアーム107の厚みよ
り狭ければ搬送時に、ウェハーを傷つけるので、ハード
ウェア制御部109は記憶部110の内容を読出して比
較を行い、(ウェハー間隔A)<(フォークアーム10
7の厚み)であれば、アラームを出し、搬送処理を終了
する(手順206)。
り狭ければ搬送時に、ウェハーを傷つけるので、ハード
ウェア制御部109は記憶部110の内容を読出して比
較を行い、(ウェハー間隔A)<(フォークアーム10
7の厚み)であれば、アラームを出し、搬送処理を終了
する(手順206)。
現在、エレベータは、搬送ウェハーを検出した位置にい
るので、次に、搬送ウェハーを検圧しているならば、エ
レベータ機構部105を下げる(手順209)。下げる
と共に、その移動情報を制御部108の一部であるウェ
ハーの厚み記憶部111に記憶する(手順210)、ウ
ェハーが検出されなくなるまで、エレベータを下げる動
作及びその移動情報をウェハーの厚み記憶部111にカ
ウントアツプしながら記憶する処理をくり返す(手順2
08)。すると、ウェハー1が検出されなくなったとき
に、ウェハーの厚み記憶部111に記憶されている量が
、エレベータの移動情報として表したウェハーの厚みd
である。
るので、次に、搬送ウェハーを検圧しているならば、エ
レベータ機構部105を下げる(手順209)。下げる
と共に、その移動情報を制御部108の一部であるウェ
ハーの厚み記憶部111に記憶する(手順210)、ウ
ェハーが検出されなくなるまで、エレベータを下げる動
作及びその移動情報をウェハーの厚み記憶部111にカ
ウントアツプしながら記憶する処理をくり返す(手順2
08)。すると、ウェハー1が検出されなくなったとき
に、ウェハーの厚み記憶部111に記憶されている量が
、エレベータの移動情報として表したウェハーの厚みd
である。
この厚みdが第3図に示すように、実際のウェハー厚み
308より過大な値であるならば、ウェハーがキャリヤ
101内に正しく収納されていないことを示すので、バ
ードウエヤ制御部109はウェハー厚み記憶部111を
読出して比較を行い、ウェハー厚み308より過大な値
であるならば、アラームを出し、搬送処理を終了する(
手順211)。
308より過大な値であるならば、ウェハーがキャリヤ
101内に正しく収納されていないことを示すので、バ
ードウエヤ制御部109はウェハー厚み記憶部111を
読出して比較を行い、ウェハー厚み308より過大な値
であるならば、アラームを出し、搬送処理を終了する(
手順211)。
第4図において、搬送するウェハーをウェハーa(40
3)とすると、制御部108の一部に記憶されているウ
ェハー間隔は、ウェハーbの最上面からウェハーaの最
下位であるウェハー間隔l(408)であり、ウェハー
の厚みはウェハーaの最下面からウェハーaの最上面で
あるウェハー厚みd(407)である。
3)とすると、制御部108の一部に記憶されているウ
ェハー間隔は、ウェハーbの最上面からウェハーaの最
下位であるウェハー間隔l(408)であり、ウェハー
の厚みはウェハーaの最下面からウェハーaの最上面で
あるウェハー厚みd(407)である。
次に、フォークアーム107?7エハー403の下に挿
入するために、光透過型センサの発光素子103および
受光素子104をエアシリンダ106により、待避位置
に下げる(手順213)。
入するために、光透過型センサの発光素子103および
受光素子104をエアシリンダ106により、待避位置
に下げる(手順213)。
次に制御部108はエレベータ機構部105を、現在の
位置より(d十−)の量だけ上げ、その位置をフォーク
アーム挿入位置とする(手順214)。
位置より(d十−)の量だけ上げ、その位置をフォーク
アーム挿入位置とする(手順214)。
ここでdはウェハーの厚み、pはウェハー間隔であるか
ら、フォークアーム107が挿入する位置は、第4図に
示すようにフォークアーム挿入高さ409となり、丁度
ウェハー間隔1の中心の高さとなる。
ら、フォークアーム107が挿入する位置は、第4図に
示すようにフォークアーム挿入高さ409となり、丁度
ウェハー間隔1の中心の高さとなる。
フォークアーム挿入位置が決定したらフォークアーム1
07を挿入しく手順215)、ウェハー403がフォー
クに吸着するまで、エレベータを下げる(手順216,
217,218)、このときのエレベータ移動量もpも
制御部108の一部であるウェハー吸着までの移動量記
憶部112に記憶する。
07を挿入しく手順215)、ウェハー403がフォー
クに吸着するまで、エレベータを下げる(手順216,
217,218)、このときのエレベータ移動量もpも
制御部108の一部であるウェハー吸着までの移動量記
憶部112に記憶する。
ウェハー403がフォークアーム107に載ったので制
御部lO8はフォークアーム機構部を制御し、ウェハー
403をキャリヤから取り出しく手順220)、搬送を
行い、装置の用途に応じた様々な処理を行う(手順22
1)。各処理終了後、取り出し時と同じ位置に7オーク
アームを挿入しく手順222)、ウェハー吸着までの移
動量記憶部112に記憶されている量Pだけエレベータ
を上げ、処理したウェハー403をフォークアーム10
7から離し、ウェハーキャリア101のスロット溝へ戻
し収納する(手順223)。次のウェハーの搬送準備の
ため、フォークアームを待避位置に移動しく手順224
)、次のウェハー(ウェハー403の上のウェハー)の
間隔を測るため、d+土の量エレベータを下げ(第2図
225)、光透過型センサを検出位置に上げたときその
光路が丁度、搬送が終了したらウェハーの最上面となる
ようにして、1枚のウェハーの搬送処理を終了する。こ
の処理をキャリヤ内に納められているウェハー枚数分行
い、搬送処理を終了する(手順226)。
御部lO8はフォークアーム機構部を制御し、ウェハー
403をキャリヤから取り出しく手順220)、搬送を
行い、装置の用途に応じた様々な処理を行う(手順22
1)。各処理終了後、取り出し時と同じ位置に7オーク
アームを挿入しく手順222)、ウェハー吸着までの移
動量記憶部112に記憶されている量Pだけエレベータ
を上げ、処理したウェハー403をフォークアーム10
7から離し、ウェハーキャリア101のスロット溝へ戻
し収納する(手順223)。次のウェハーの搬送準備の
ため、フォークアームを待避位置に移動しく手順224
)、次のウェハー(ウェハー403の上のウェハー)の
間隔を測るため、d+土の量エレベータを下げ(第2図
225)、光透過型センサを検出位置に上げたときその
光路が丁度、搬送が終了したらウェハーの最上面となる
ようにして、1枚のウェハーの搬送処理を終了する。こ
の処理をキャリヤ内に納められているウェハー枚数分行
い、搬送処理を終了する(手順226)。
第7図は、本発明の実施例2に用いられる半導体ウェハ
ー搬送装置の斜視図である。図において、2対の光透過
型センサ704,706と705゜707がX軸方法に
、その間隔717が搬送用フォークアーム−710のフ
ォーク幅718より大きくなるように取り付けられてお
り、2つの受光素子706,707からの信号は制御部
711に入り、制御部の中で検出信号のORをとり、ど
ちらかのセンサがウェハーを検出したらウェハーを検出
したものとする。
ー搬送装置の斜視図である。図において、2対の光透過
型センサ704,706と705゜707がX軸方法に
、その間隔717が搬送用フォークアーム−710のフ
ォーク幅718より大きくなるように取り付けられてお
り、2つの受光素子706,707からの信号は制御部
711に入り、制御部の中で検出信号のORをとり、ど
ちらかのセンサがウェハーを検出したらウェハーを検出
したものとする。
第2図のフローチャートに従い、フォークアームの挿入
位置を決定すると、第1図のウェハー搬送装置では1対
の光透過型センサでは、第4図に示すようなY軸方法の
傾きしか考慮できなかったが、実施例2では2対の光透
過型センサで、2つの検出信号のORをとった結果を検
出信号とすることで、第3図に示すようなX軸方向への
傾きも考慮できるので、ウェハー間隔ρは最も狭い間隔
を、ウェハーの厚みdは最も厚い部分を測定したことに
なり、より精度の高い、フォークアーム挿入位置を決定
することができる。また、第3図ウェハーc、(305
)のように、ウェハーがキャリヤに斜めに収納されてい
る場合も、2対の高透過型センサを用いると、その厚み
は第3図に示すようにウェハー厚みd′ (309)の
ようになるので、第2図の手順211でウェハー厚みの
チエツクを行うことで、収納状態の悪いウェノ飄−を搬
送することがなくなる。
位置を決定すると、第1図のウェハー搬送装置では1対
の光透過型センサでは、第4図に示すようなY軸方法の
傾きしか考慮できなかったが、実施例2では2対の光透
過型センサで、2つの検出信号のORをとった結果を検
出信号とすることで、第3図に示すようなX軸方向への
傾きも考慮できるので、ウェハー間隔ρは最も狭い間隔
を、ウェハーの厚みdは最も厚い部分を測定したことに
なり、より精度の高い、フォークアーム挿入位置を決定
することができる。また、第3図ウェハーc、(305
)のように、ウェハーがキャリヤに斜めに収納されてい
る場合も、2対の高透過型センサを用いると、その厚み
は第3図に示すようにウェハー厚みd′ (309)の
ようになるので、第2図の手順211でウェハー厚みの
チエツクを行うことで、収納状態の悪いウェノ飄−を搬
送することがなくなる。
以上説明したように、本発明による半導体ウェハー搬送
装置は、エレベータを移動しながら光透過型センサによ
りウェハー間隔及びウェハー厚みをエレベータの移動情
報として測定し、その移動情報を制御部の一部の記憶領
域に記憶し、記憶情報に基づき、ウェハー搬送のためフ
ォークアーム挿入位置がウェハー間隔の丁度中間となる
ようにエレベータ機構部を制御し、ウェハーの搬送を行
うので、ウェハーがキャリヤ内に傾きを持って収納され
ている場合や、キャリヤ自体の製造精度によらず、また
、1つのキャリヤ内に厚みの異なるウェハーが収納され
ている場合にも、搬送のときフォークアームがウェハー
に接触しウェハーを傷つけることがないという効果を有
する。
装置は、エレベータを移動しながら光透過型センサによ
りウェハー間隔及びウェハー厚みをエレベータの移動情
報として測定し、その移動情報を制御部の一部の記憶領
域に記憶し、記憶情報に基づき、ウェハー搬送のためフ
ォークアーム挿入位置がウェハー間隔の丁度中間となる
ようにエレベータ機構部を制御し、ウェハーの搬送を行
うので、ウェハーがキャリヤ内に傾きを持って収納され
ている場合や、キャリヤ自体の製造精度によらず、また
、1つのキャリヤ内に厚みの異なるウェハーが収納され
ている場合にも、搬送のときフォークアームがウェハー
に接触しウェハーを傷つけることがないという効果を有
する。
第1図は、本発明の一実施例の半導体ウェハー搬送装置
のブロック図、第2図は本発明による半導体ウェハー搬
送方法のフローチャート、第3図はウェハーが収納され
たウェハーキャリヤを示す正面図、第4図はウェハーが
収納されたウェハーキャリヤを示す側面図、第5図は、
従来の半導体ウェハー搬送装置のブロック図、第6図は
従来の半導体ウェハー搬送方法のフローチャート、第7
図は本発明の実施例2の半導体ウェハー搬送装置の斜視
図である。101,501,701・・・・・・ウェハ
ーキ中リヤ、102,502,702・・・・・・半導
体ウェハー 103,503・・・・・・光透過型セン
サの発光素子、104,504・・・・・・光透過型セ
ンサの受光素子、105,505,708・・・・・・
エレベータ機構部、106,506,709・・・・・
・エアシリンダ、107,507,710・・・・・・
搬送用フォークアーム機構部、108,508,711
・・・・・・制御部、109,713・・・・・・ハー
ドウェアー制御部、110,714・・・・・・ウェハ
ー間隔記憶部、111.715・・・・・・ウェハー厚
み記憶部、112・・・・・・フォークアーム挿入時か
らウェハーがフォクアームに吸着するまでのエレベータ
移動量記憶部。 代理人 弁理士 内 原 晋 第1 第6図 第7図
のブロック図、第2図は本発明による半導体ウェハー搬
送方法のフローチャート、第3図はウェハーが収納され
たウェハーキャリヤを示す正面図、第4図はウェハーが
収納されたウェハーキャリヤを示す側面図、第5図は、
従来の半導体ウェハー搬送装置のブロック図、第6図は
従来の半導体ウェハー搬送方法のフローチャート、第7
図は本発明の実施例2の半導体ウェハー搬送装置の斜視
図である。101,501,701・・・・・・ウェハ
ーキ中リヤ、102,502,702・・・・・・半導
体ウェハー 103,503・・・・・・光透過型セン
サの発光素子、104,504・・・・・・光透過型セ
ンサの受光素子、105,505,708・・・・・・
エレベータ機構部、106,506,709・・・・・
・エアシリンダ、107,507,710・・・・・・
搬送用フォークアーム機構部、108,508,711
・・・・・・制御部、109,713・・・・・・ハー
ドウェアー制御部、110,714・・・・・・ウェハ
ー間隔記憶部、111.715・・・・・・ウェハー厚
み記憶部、112・・・・・・フォークアーム挿入時か
らウェハーがフォクアームに吸着するまでのエレベータ
移動量記憶部。 代理人 弁理士 内 原 晋 第1 第6図 第7図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、半導体ウェハーを収納したキャリヤを上下動作する
ことのできるエレベータ機構部と、前記キャリヤに収納
されたウェハーの有無を検出する光透過型センサを有す
るウェハー検出機構部と、前記キャリヤからウェハーを
取り出すアーム機構部と、前記エレベータ機構部を制御
しながら、前記光透過型センサにより検出される前記キ
ャリアに収納されたウェハーの間隔、及び該ウェハーの
厚みをエレベータの移動情報として、所定の記憶領域に
記憶し、その記憶情報に基づき、ウェハー搬送のための
前記アームの挿入位置をウェハー間隔の丁度中間となる
ように前記エレベータ機構部を制御する制御部とを含む
半導体ウェハー搬送装置。 2、半導体ウェハーを収納したキャリアの中のウェハー
を光透型センサにより検出し、前記センサで検出される
ウェハーの間隔と厚みを前記キャリアを移動させるエレ
ベータの移動にともなって検出してウェハーの間隔と厚
み情報として記憶し、その記憶情報に基づいてウェハー
搬送のためのアームがウェハー間隔の丁度中間にくるよ
う前記エレベータを移動する半導体ウェハーの搬送方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2226131A JP2606423B2 (ja) | 1990-08-28 | 1990-08-28 | 半導体ウェハー搬送装置および搬送方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2226131A JP2606423B2 (ja) | 1990-08-28 | 1990-08-28 | 半導体ウェハー搬送装置および搬送方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04107841A true JPH04107841A (ja) | 1992-04-09 |
| JP2606423B2 JP2606423B2 (ja) | 1997-05-07 |
Family
ID=16840334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2226131A Expired - Lifetime JP2606423B2 (ja) | 1990-08-28 | 1990-08-28 | 半導体ウェハー搬送装置および搬送方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2606423B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0676207U (ja) * | 1992-09-10 | 1994-10-28 | 日立テクノエンジニアリング株式会社 | 板状体の収納装置 |
| JP2009516376A (ja) * | 2005-11-17 | 2009-04-16 | オー・ツェー・エリコン・バルザース・アクチェンゲゼルシャフト | 円板状の工作物のための搬送装置 |
| CN104603038A (zh) * | 2012-09-04 | 2015-05-06 | 株式会社御牧工程 | 存放控制装置、印刷装置、程序以及记录介质 |
| CN115036244A (zh) * | 2021-03-03 | 2022-09-09 | 南亚科技股份有限公司 | 基底处理设备 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61229725A (ja) * | 1985-04-03 | 1986-10-14 | Canon Inc | ウエハ処理装置 |
| JPS61248839A (ja) * | 1985-04-26 | 1986-11-06 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 収納ウエハの取り出し装置 |
| JPS63131533A (ja) * | 1986-11-21 | 1988-06-03 | Canon Inc | 斜め基板検出装置および方法 |
-
1990
- 1990-08-28 JP JP2226131A patent/JP2606423B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN115036244A (zh) * | 2021-03-03 | 2022-09-09 | 南亚科技股份有限公司 | 基底处理设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2606423B2 (ja) | 1997-05-07 |
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