JPH04109859U - タンブリングブラスト装置 - Google Patents

タンブリングブラスト装置

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Publication number
JPH04109859U
JPH04109859U JP2077691U JP2077691U JPH04109859U JP H04109859 U JPH04109859 U JP H04109859U JP 2077691 U JP2077691 U JP 2077691U JP 2077691 U JP2077691 U JP 2077691U JP H04109859 U JPH04109859 U JP H04109859U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tumbling
workpiece
shot
endless apron
rotating drum
Prior art date
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Pending
Application number
JP2077691U
Other languages
English (en)
Inventor
仁 竹田
等 六反田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sintokogio Ltd
Original Assignee
Sintokogio Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 タンブリングされる被処理品の撹拌流動速度
を所定範囲内にコントロールすると共にショットの投射
ゾーンを広くして被処理品に直射ショットの当る確率を
高くしたタンブリングブラスト装置を得る。 【構成】 無端エプロンベルトの移動速度あるいは回転
ドラムの回転速度を変速制御可能に設けると共にショッ
ト投射の幅分布を拡散分布又は広角均一分布にする遠心
投射機を配設したタンブリングブラスト装置。

Description

【考案の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本考案は無端エプロンベルトの移動又は回転ドラムの回転により被処理品をタ ンブリング（撹拌流動）させながらショットを投射してブラストするタンブリン グブラスト装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来タンブリングブラスト装置としては図４に示すような装置が一般に知られ ている。すなわち、キャビネット本体１内部に２枚の円板２、２と３個のプーリ ー３、３、３を配設し、該プーリー３、３、３に無端エプロンベルト４を掛け廻 してある。一方キャビネット本体１の天井部には遠心投射機５が設置されていて 、無端エプロンベルト４により撹拌流動される被処理品Ｗに向けて投射材である ショット６を投射するようになっている。
【０００３】 しかしこのようなタンブリングブラスト装置では被処理品の形状、大きさ等に より被処理品の撹拌流動速度が大きく異なり、特に転がりやすい形状と転がりに くい形状では大きく異なることになる。しかしショットの投射ゾーンを通過する 被処理品の流動速度は速くても遅くても不都合であり、撹拌流動速度が速すぎる と、ショット投射ゾーンでの被処理品の処理全表面が均一に直射ショットを受け る確率が低くなる問題があり、逆に撹拌流動速度が遅い場合は、ショット投射ゾ ーンでの被処理品の転動のチャンスが少なく直射ショットの当らない面が生じる 問題がある。これらの問題を解決するために従来は処理時間を長くしているが時 間の無駄が多くなると共に処理時間を長くすることにより被処理品の中には撹拌 の不確実性も伴って必要以上に同一面が研掃されて研掃面が垂れる等の問題も生 じていた。
【０００４】 本考案は上記の問題に鑑みて成されたものでタンブリングされる被処理品の撹 拌流動速度を所定範囲にコントロールすると共にショットの投射ゾーンを広くし て被処理品に直射ショットの当る確率を高め得るタンブリングブラスト装置を提 供することを目的とするものである。
【０００５】
【問題解決のための手段】
上記の目的を達成するために本考案におけるタンブリングブラスと装置は、無 端エプロンベルトの移動速度又は回転ドラムの回転速度を変速制御可能に設ける と共に該無端エプロンベルトの上方又は回転ドラムの一端部に、前記無端エプロ ンベルトの移動方向又は、回転ドラムの回転方向に対し、投射の幅分布を拡散分 布又は広角均一分布にする遠心投射機を配設したことを特徴とするものである。
【０００６】
【作用】
本考案は、上記のような解決手段を採用することにより、被処理品の形状、大 きさ、等に応じて無端エプロンベルトの移動速度あるいは回転ドラムの回転速度 を制御して被処理品の撹拌流動速度を所定範囲内に納めると共にショットの投射 ゾーンを拡大させて投射するようになり、被処理品の全表面に対し短時間のうち に均一に直射ショットを当てることができる。
【０００７】
【実施例】
以下本考案の実施例を図１ないし図３に基づいて詳細に説明する。図において 、キャビネット本体１１の内部には２枚の円板１２、１２が適当な間隔をおいて 回転可能にして配設されていると共に該円板１２、１２を取り囲む背面部から下 方部に亘る３点位置にプーリー１３、１３、１３が設けられていて、１個のプー リー１３は図示されない変速機付正逆回転モータに伝導連結されている。また前 記プーリー１３、１３、１３及び円板１２、１２の背面にわたって無端エプロン ベルト１４が掛け廻されていて全体として断面Ｌ字状のタンブリング槽を構成し ている。前記キャビネット本体１１における天井部のタンブリング槽に対応する 位置には図１においては投射ショットを被処理品Ｗに向けて拡散分布投射１６Ａ させる遠心投射機１５Ａがまた図３においては、投射ショットを被処理品Ｗに向 けて広角均一分布投射１６Ｂさせる遠心投射機１５Ｂが設けられている。尚図中 １７はバケットエレベーター、１８はショットセパレーター、１９はキャビネッ ト本体１１の開閉蓋である。
【０００８】 このように構成されたものは、円板１２、１２及び無端エプロンベルト１４で 構成するタンブリング槽に被処理品Ｗを投入し、該被処理品Ｗに適した撹拌流動 速度になるように図示されない変速機付モーターを駆動してプーリー１３を介し て無端エプロンベルト１４を適宜の速度にして図１矢印方向へ移動させる。これ により槽内の被処理品Ｗは適当な速さで反時計方向にすくい上げられて適宜の高 さ位置に達して反転落下がくりかえされる。この間に遠心投射機１５Ａ、１５Ｂ からショットが拡散分布投射１６Ａあるいは広角均一分布投射１６Ｂされ被処理 品Ｗは数回の反転落下移動の間に数回の直射ショットによるブラスト作用を受け るようになる。投射されたショットはエプロンベルト４のショット抜き穴から落 下してキャビネット１１底部に集められ、バケットエレベーター１７により上方 へ運ばれ、ショットセパレーター１８に導入されて粉塵等の混入物を除去され、 遠心投射機１５Ａ、１５Ｂに送られて再び投射され、ブラスト作業をくりかえし 行う。以下、ブラスト処理を終えた被処理品Ｗの搬出及び未処理の被処理品Ｗの 投入等は従来と同様にして行なわれる。
【０００９】 上記実施例では無端エプロンベルト１４により被処理品Ｗをタンブリングする タイプのタンブリングブラスト装置について説明したが回転ドラムの回転により 被処理品Ｗをタンブリングするタイプのタンブリングブラスト装置であっても回 転ドラムの回転速度を制御できるようにし、かつ拡散分布投射あるいは広角均一 投射が可能な遠心投射機を設けることにより同様の作用が得られるものである。
【００１０】
【考案の効果】
本考案は上記の説明から明らかなように無端エプロンベルトの移動速度あるい は回転ドラムの回転速度を変速制御可能にすると共にショットの投射幅分布を拡 散分布又は広角均一分布にする遠心投射機を配設した構成にしたから被処理品の 撹拌流動速度を所定範囲内に納めると共にショットの投射ゾーンを広くして被処 理品に直射ショットの当る確率を高くすることができ、短時間のうちに被処理品 の全体にわたって均一にブラストを行なうことができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本考案の実施例を示す模式図である。
【図２】図１の要部側面図である。
【図３】本考案の別の実施例を示す模式図である。
【図４】従来のタンブリングブラスト装置を示す模式図
である。
【符号の説明】
12 円板 13 変速制御可能なプーリー 14 無端エプロンベルト 15A 遠心投射機 15B 遠心投射機 16A 拡散分布投射 16B 広角均一分布投射 Ｗ 被処理品

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項１】 無端エプロンベルトの移動又は回転ドラ
    ムの回転により被処理品をタンブリングしながらブラス
    ト処理するタンブリングブラスト装置において、無端エ
    プロンベルトの移動速度又は回転ドラムの回転速度を変
    速制御可能に設けると共に該無端エプロンベルトの上方
    又は回転ドラムの一端部に前記無端エプロンベルトの移
    動方向又は回転ドラムの回転方向に対し、ショット投射
    の幅分布を拡散分布又は広角均一分布にする遠心投射機
    を配設したことを特徴とするタンブリングブラスト装
    置。
JP2077691U 1991-03-08 1991-03-08 タンブリングブラスト装置 Pending JPH04109859U (ja)

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JP2077691U JPH04109859U (ja) 1991-03-08 1991-03-08 タンブリングブラスト装置

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JP2077691U JPH04109859U (ja) 1991-03-08 1991-03-08 タンブリングブラスト装置

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JPH04109859U true JPH04109859U (ja) 1992-09-24

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ID=31906774

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JP2077691U Pending JPH04109859U (ja) 1991-03-08 1991-03-08 タンブリングブラスト装置

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50146991A (ja) * 1974-05-17 1975-11-25
JPS5187889A (ja) * 1975-01-31 1976-07-31 Riichi Maeda Kensosochiniokerukensozainotoshayohaneguruma
JPS52122989A (en) * 1976-04-08 1977-10-15 Ito Kikou Kk Barrel type grinding and cleaning device
JPS5373685A (en) * 1976-12-14 1978-06-30 Ito Kikou Kk Barrel type grinding and cleaning device

Patent Citations (4)

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