JPH04110690A - エネルギー分散型x線検出器の温度制御装置 - Google Patents
エネルギー分散型x線検出器の温度制御装置Info
- Publication number
- JPH04110690A JPH04110690A JP2228604A JP22860490A JPH04110690A JP H04110690 A JPH04110690 A JP H04110690A JP 2228604 A JP2228604 A JP 2228604A JP 22860490 A JP22860490 A JP 22860490A JP H04110690 A JPH04110690 A JP H04110690A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- detector
- heating
- cooling
- refrigerant tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、エネルギー分散型X線検出器の温度制御装置
に関する。
に関する。
[従来の技術]
第4図に電子顕微鏡等に付設されたエネルギー分散型X
線検出器の構成を示す。
線検出器の構成を示す。
第4図において、1は電子顕微鏡筐筒、2は半導体X線
検出器、3は熱伝導棒、4は保護筒、5は冷媒槽(真空
断熱容器)、6は液体窒素、7は冷却装置、Sは試料で
ある。
検出器、3は熱伝導棒、4は保護筒、5は冷媒槽(真空
断熱容器)、6は液体窒素、7は冷却装置、Sは試料で
ある。
さて、上述したような構成の装置においては、冷媒槽5
に蓄えられた液体窒素の潜熱により熱伝導棒3を介して
該熱伝導棒の先端に取り付けられた半導体X線検出器2
が液体窒素温度に冷却されている。この液体窒素6のみ
によって検出器2を冷却する場合、液体窒素の温度は沸
点温度(常圧で約77K)で安定するか、該液体窒素の
蒸発による消費はまぬがれられない。そこで、冷媒槽5
内に冷却装置7を挿入して、該冷却装置によって液体窒
素を過冷却(沸点以下の温度に)することにより、液体
窒素の蒸発を抑え消費量を少なくするようにしている。
に蓄えられた液体窒素の潜熱により熱伝導棒3を介して
該熱伝導棒の先端に取り付けられた半導体X線検出器2
が液体窒素温度に冷却されている。この液体窒素6のみ
によって検出器2を冷却する場合、液体窒素の温度は沸
点温度(常圧で約77K)で安定するか、該液体窒素の
蒸発による消費はまぬがれられない。そこで、冷媒槽5
内に冷却装置7を挿入して、該冷却装置によって液体窒
素を過冷却(沸点以下の温度に)することにより、液体
窒素の蒸発を抑え消費量を少なくするようにしている。
しかし、X線検出器使用中や電子顕微鏡像観察中は該冷
却装置によって発生される振動がX線検出器、電子顕微
鏡双方の分解能を悪くするため、分析中及び検鏡中は冷
却装置は停止される。
却装置によって発生される振動がX線検出器、電子顕微
鏡双方の分解能を悪くするため、分析中及び検鏡中は冷
却装置は停止される。
[発明が解決しようとする課題]
さて、上述したように過冷却せずに液体窒素のみによっ
て検出器を冷却する場合、液体窒素の蒸発による消費量
はまぬがれられないが、このとき液体窒素の温度は沸点
温度で安定するため、検出器部の温度も略一定温度に保
たれることになる。
て検出器を冷却する場合、液体窒素の蒸発による消費量
はまぬがれられないが、このとき液体窒素の温度は沸点
温度で安定するため、検出器部の温度も略一定温度に保
たれることになる。
ところか、冷媒槽内の液体窒素を液体ヘリウムなどを利
用した冷却装置7によって過冷却した場合には、冷媒槽
部や保護筒部分からの熱の流入によって液体窒素の温度
か変動する。特に、前述した分析中及び検鏡中に冷却装
置か停止されている期間は液体窒素の温度が上昇するた
め、熱伝導棒3の先端部に取り付けられた検出器部分の
温度も変動することになる。この温度の変動は半導体検
出素子2aやその初段の増幅器(FET)の雑音を変動
させたりスペクトルのドリフトを発生する原因となるた
めX線分析に支障を来たすことが問題とされている。
用した冷却装置7によって過冷却した場合には、冷媒槽
部や保護筒部分からの熱の流入によって液体窒素の温度
か変動する。特に、前述した分析中及び検鏡中に冷却装
置か停止されている期間は液体窒素の温度が上昇するた
め、熱伝導棒3の先端部に取り付けられた検出器部分の
温度も変動することになる。この温度の変動は半導体検
出素子2aやその初段の増幅器(FET)の雑音を変動
させたりスペクトルのドリフトを発生する原因となるた
めX線分析に支障を来たすことが問題とされている。
本発明は、上述した問題点を考慮し、検出器の温度をの
一定温度に保つことのできるエネルギー分散型X線検出
器の温度制御装置を提供することを目的としている。
一定温度に保つことのできるエネルギー分散型X線検出
器の温度制御装置を提供することを目的としている。
[課題を解決するための手段]
第1の本発明は、冷媒槽と、該冷媒槽に熱伝導棒を介し
て接続された半導体X線検出器と、該冷媒槽内に挿入さ
れた冷却手段と、前記冷媒を過冷却領域内の温度に維持
するように前記冷却手段を断続運転するための冷却制御
手段を備えると共に、前記検出器近傍の温度を測定する
手段と、検出器近傍を加熱するための加熱手段と、該測
定手段の測温結果に基づいて前記加熱手段を制御するた
めの加熱制御手段とを設け、前記加熱手段または冷却手
段によって前記検出器近傍の温度を一定温度に保つよう
に制御するようにしたことを特徴としている。
て接続された半導体X線検出器と、該冷媒槽内に挿入さ
れた冷却手段と、前記冷媒を過冷却領域内の温度に維持
するように前記冷却手段を断続運転するための冷却制御
手段を備えると共に、前記検出器近傍の温度を測定する
手段と、検出器近傍を加熱するための加熱手段と、該測
定手段の測温結果に基づいて前記加熱手段を制御するた
めの加熱制御手段とを設け、前記加熱手段または冷却手
段によって前記検出器近傍の温度を一定温度に保つよう
に制御するようにしたことを特徴としている。
第2の本発明は、冷媒槽と、該冷媒槽に熱伝導棒を介し
て接続された半導体X線検出器と、該冷媒槽内に挿入さ
れた冷却手段と、前記冷媒を過冷却領域内の温度に維持
するように前記冷却手段を断続運転するためのため冷却
制御手段を備えると共に、前記検出器近傍の温度を測定
する手段と、前記検出器に付設された増幅器を加熱する
ための加熱手段と、該測定手段の測温結果に基づいて前
記加熱手段を制御するための加熱制御手段とを設け、前
記加熱手段によって前記増幅器を過冷却領域内の一定温
度に保つように制御するようにしたことを特徴としてい
る。
て接続された半導体X線検出器と、該冷媒槽内に挿入さ
れた冷却手段と、前記冷媒を過冷却領域内の温度に維持
するように前記冷却手段を断続運転するためのため冷却
制御手段を備えると共に、前記検出器近傍の温度を測定
する手段と、前記検出器に付設された増幅器を加熱する
ための加熱手段と、該測定手段の測温結果に基づいて前
記加熱手段を制御するための加熱制御手段とを設け、前
記加熱手段によって前記増幅器を過冷却領域内の一定温
度に保つように制御するようにしたことを特徴としてい
る。
[実施例コ
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第1
図は第1の本発明の一実施例を説明するための装置構成
図、第2図は動作を説明するための図、第3図は第2の
本発明の一実施例を説明するための装置構成図である。
図は第1の本発明の一実施例を説明するための装置構成
図、第2図は動作を説明するための図、第3図は第2の
本発明の一実施例を説明するための装置構成図である。
第1図において、第4図と同一の構成要素には同一番号
を付すと共に、説明を省略する。第1図に示す第1の本
発明による実施例が従来例と異なるのは、冷媒6を過冷
却領域内の温度に維持するように冷却装置7を断続運転
するための冷却制御装置8と、検出器近傍の温度を測定
するための熱電対9及び温度検出器10と、熱伝導棒3
を加熱するためのヒータ11とを設けると共に、該熱電
対の出力に基づいて前記ヒーター電流または電圧を制御
するため加熱制御手段12を設けた点である。
を付すと共に、説明を省略する。第1図に示す第1の本
発明による実施例が従来例と異なるのは、冷媒6を過冷
却領域内の温度に維持するように冷却装置7を断続運転
するための冷却制御装置8と、検出器近傍の温度を測定
するための熱電対9及び温度検出器10と、熱伝導棒3
を加熱するためのヒータ11とを設けると共に、該熱電
対の出力に基づいて前記ヒーター電流または電圧を制御
するため加熱制御手段12を設けた点である。
前記冷却制御装置8は熱電対13及び温度検出器14に
よって検出された冷媒の温度に基づいて前記冷却装置7
を自動的に断続運転し、液体窒素の温度が70に〜75
にの間の任意の温度に維持されるようにしている。
よって検出された冷媒の温度に基づいて前記冷却装置7
を自動的に断続運転し、液体窒素の温度が70に〜75
にの間の任意の温度に維持されるようにしている。
液体窒素が冷媒槽内に注入されると同時に冷却装置が動
作されると該冷媒槽内の液体窒素は第2図(a)に実線
Aで示すように過冷却される。この冷却により液体窒素
を沸点77に以下の温度に保つことにより蒸発を防止す
ることができるため、本実施例においては前記冷却制御
装置8の制御温度を70Kから75にの間に設定して冷
却装置7を自動的に断続運転している。そのため、液体
窒素の温度が70Kに達すると冷却制御装置8より第2
図(b)に示すような制御信号が冷却装置7のポンプに
供給されて、冷却装置7が自動的に停止される。該冷却
装置7の停止と共に、液体窒素の温度は徐々に上昇し始
めるので、検出器2近傍に設けられた熱電対9によって
温度を計測しながら、該検出部の温度が一定になるよう
に熱伝導棒3に旋回されたヒータ11に電流または電圧
を供給するようにしている。このとき、ヒータに供給さ
れる電流または電圧は概ね第2図(C)に示すように変
化される。
作されると該冷媒槽内の液体窒素は第2図(a)に実線
Aで示すように過冷却される。この冷却により液体窒素
を沸点77に以下の温度に保つことにより蒸発を防止す
ることができるため、本実施例においては前記冷却制御
装置8の制御温度を70Kから75にの間に設定して冷
却装置7を自動的に断続運転している。そのため、液体
窒素の温度が70Kに達すると冷却制御装置8より第2
図(b)に示すような制御信号が冷却装置7のポンプに
供給されて、冷却装置7が自動的に停止される。該冷却
装置7の停止と共に、液体窒素の温度は徐々に上昇し始
めるので、検出器2近傍に設けられた熱電対9によって
温度を計測しながら、該検出部の温度が一定になるよう
に熱伝導棒3に旋回されたヒータ11に電流または電圧
を供給するようにしている。このとき、ヒータに供給さ
れる電流または電圧は概ね第2図(C)に示すように変
化される。
これにより、液体窒素の温度か75Kまで上昇する間、
前記検出器2部分の温度は例えば80に程度の温度に保
たれる。そして、液体窒素の温度が75Kに達すると冷
却装置の運転が自動的に再開されて液体窒素は再び冷却
されるので、ヒータ電流または電圧は検出部の温度を一
定にするように増加される。
前記検出器2部分の温度は例えば80に程度の温度に保
たれる。そして、液体窒素の温度が75Kに達すると冷
却装置の運転が自動的に再開されて液体窒素は再び冷却
されるので、ヒータ電流または電圧は検出部の温度を一
定にするように増加される。
このように、冷却装置の停止中に検出部の温度が一定に
保たれることにより、半導体検出素子2aやその初段の
増幅器(FET)の雑音の変動やスペクトルのドリフト
を抑えることができるので、X線分析の精度を向上させ
ることができる。
保たれることにより、半導体検出素子2aやその初段の
増幅器(FET)の雑音の変動やスペクトルのドリフト
を抑えることができるので、X線分析の精度を向上させ
ることができる。
さて、電子顕微鏡等に使用されるX線検出器は冷媒槽を
含む全体を鏡筒内に組み込むことは構造上難しいため、
X線検出器部分だけを鏡筒内の試料近傍に配置されるよ
うに冷媒槽5と検出器2との間に熱伝導棒3が設けられ
、該熱伝導棒3を介して冷却が行なわれている。そのた
め、該熱伝導棒部分での熱損失(熱の流入)は避け1う
れず、冷媒槽5と検出器2との温度を比較すると検出器
部側の温度か若干高くなる傾向にある。上述したように
冷却装置7の停止期間中に熱伝導棒3に旋回されたヒー
タ11に電流または電圧を供給して検出器部分の温度を
一定に保つように制御を行なった場合、ヒータ11が熱
伝導棒3の中間部付近に配置されていると熱伝導棒3を
介して冷媒槽5に流入する熱によって冷媒の温度上昇が
速められることになる。そのため、冷却装置7の運転回
数が増えて分析時間または電子顕微鏡像観察時間が制約
される問題が発生することになる。
含む全体を鏡筒内に組み込むことは構造上難しいため、
X線検出器部分だけを鏡筒内の試料近傍に配置されるよ
うに冷媒槽5と検出器2との間に熱伝導棒3が設けられ
、該熱伝導棒3を介して冷却が行なわれている。そのた
め、該熱伝導棒部分での熱損失(熱の流入)は避け1う
れず、冷媒槽5と検出器2との温度を比較すると検出器
部側の温度か若干高くなる傾向にある。上述したように
冷却装置7の停止期間中に熱伝導棒3に旋回されたヒー
タ11に電流または電圧を供給して検出器部分の温度を
一定に保つように制御を行なった場合、ヒータ11が熱
伝導棒3の中間部付近に配置されていると熱伝導棒3を
介して冷媒槽5に流入する熱によって冷媒の温度上昇が
速められることになる。そのため、冷却装置7の運転回
数が増えて分析時間または電子顕微鏡像観察時間が制約
される問題が発生することになる。
また、ヒータ11を検出器部側に近付けて配置した場合
には半導体検出素子2aに付設された増幅器(FET)
の温度は一定に保たれるものの、本来低温であることが
望ましい半導体検出素子2aの温度が該ヒータ11の熱
及び保護筒外からの熱の流入によって比較的高い温度に
保たれることになる。
には半導体検出素子2aに付設された増幅器(FET)
の温度は一定に保たれるものの、本来低温であることが
望ましい半導体検出素子2aの温度が該ヒータ11の熱
及び保護筒外からの熱の流入によって比較的高い温度に
保たれることになる。
そこで、第2の本発明では第3図に示すように、半導体
検出素子2aに付設された増幅器(FET)15近傍の
温度を測定するための熱電対9aと、前記増幅器(FE
T)1.5を加熱するための加熱ヒータllaを増幅器
15に隣接して設けている。
検出素子2aに付設された増幅器(FET)15近傍の
温度を測定するための熱電対9aと、前記増幅器(FE
T)1.5を加熱するための加熱ヒータllaを増幅器
15に隣接して設けている。
このように、増幅器15のみを加熱する場合にはヒータ
11aの消費電力を極めて小さくできるので、該加熱に
よって生じた熱か熱伝導棒を介して冷媒槽5に流入する
ことを抑えることができる。
11aの消費電力を極めて小さくできるので、該加熱に
よって生じた熱か熱伝導棒を介して冷媒槽5に流入する
ことを抑えることができる。
これより、冷却装置7の停止時間、即ち分析時間または
電子顕微鏡像観察時間長くすることができる。また、小
電力で増幅器15のみを加熱しているため半導体検出素
子の温度上昇を防ぐことができる。
電子顕微鏡像観察時間長くすることができる。また、小
電力で増幅器15のみを加熱しているため半導体検出素
子の温度上昇を防ぐことができる。
なお、上述した実施例は本発明の一実施例に過ぎず、本
発明は種々変形して実施することができる。例えば、上
述した実施例においては、冷媒を液体窒素とした場合に
過冷却温度を70に〜75にの間に保つように冷却装置
を制御するようにしたが、該温度の設定範囲は冷媒の種
類によって任意に設定されるものである。
発明は種々変形して実施することができる。例えば、上
述した実施例においては、冷媒を液体窒素とした場合に
過冷却温度を70に〜75にの間に保つように冷却装置
を制御するようにしたが、該温度の設定範囲は冷媒の種
類によって任意に設定されるものである。
[発明の効果]
以上の説明から明らかなように、第1の本発明によれば
、冷媒槽と、該冷媒槽に熱伝導棒を介して接続された半
導体X線検出器と、該冷媒槽内に挿入された冷却手段と
、前記冷媒を過冷却領域内の温度に維持するように前記
冷却手段を断続運転するための冷却制御手段を備えると
共に、前記検出器近傍の温度を測定する手段と、検出器
近傍を加熱するための加熱手段と、該測定手段の測温結
果に基づいて前記加熱手段を制御するための加熱制御手
段とを設け、前記加熱手段または冷却手段によって前記
検8器近傍の温度を一定温度に保つように制御するよう
にしたことにより、半導体検出素子やその初段の増幅器
(FET)熱雑音の変動やスペクトルのドリフトを抑え
ることができるので、X線分析の精度を向上させること
ができる。
、冷媒槽と、該冷媒槽に熱伝導棒を介して接続された半
導体X線検出器と、該冷媒槽内に挿入された冷却手段と
、前記冷媒を過冷却領域内の温度に維持するように前記
冷却手段を断続運転するための冷却制御手段を備えると
共に、前記検出器近傍の温度を測定する手段と、検出器
近傍を加熱するための加熱手段と、該測定手段の測温結
果に基づいて前記加熱手段を制御するための加熱制御手
段とを設け、前記加熱手段または冷却手段によって前記
検8器近傍の温度を一定温度に保つように制御するよう
にしたことにより、半導体検出素子やその初段の増幅器
(FET)熱雑音の変動やスペクトルのドリフトを抑え
ることができるので、X線分析の精度を向上させること
ができる。
また、第2の本発明によれば、冷媒槽と、該冷媒槽に熱
伝導棒を介して接続された半導体X線検出器と、該冷媒
槽内に挿入された冷却手段と、前記冷媒を過冷却領域内
の温度に維持するように前記冷却手段を断続運転するた
めの冷却制御手段を備えると共に、前記検出器近傍の温
度を測定する手段と、前記検出器に付設された増幅器を
加熱するための加熱手段と、該測定手段の測温結果に基
づいて前記加熱手段を制御するための加熱制御手段とを
設け、前記加熱手段によって前記増幅器を一定温度に保
つように制御するようにしたことにより、温度制御のた
めの電力を小さくすることかできるので、加熱によって
生じた熱が熱伝導棒を介して冷媒槽部分に流入すること
を抑えることかできる。これより、X線分析の精度を向
上させると共に分析時間や電子顕微鏡像観察時間を長く
することができる。
伝導棒を介して接続された半導体X線検出器と、該冷媒
槽内に挿入された冷却手段と、前記冷媒を過冷却領域内
の温度に維持するように前記冷却手段を断続運転するた
めの冷却制御手段を備えると共に、前記検出器近傍の温
度を測定する手段と、前記検出器に付設された増幅器を
加熱するための加熱手段と、該測定手段の測温結果に基
づいて前記加熱手段を制御するための加熱制御手段とを
設け、前記加熱手段によって前記増幅器を一定温度に保
つように制御するようにしたことにより、温度制御のた
めの電力を小さくすることかできるので、加熱によって
生じた熱が熱伝導棒を介して冷媒槽部分に流入すること
を抑えることかできる。これより、X線分析の精度を向
上させると共に分析時間や電子顕微鏡像観察時間を長く
することができる。
第1図は第1の本発明の一実施例を説明するための装置
構成図、第2図は動作を説明するための図、第3図は第
2の本発明の一実施例を説明するための装置構成図、第
4図は従来例を説明するための図である。 電子顕微鏡筐筒 熱伝導棒 冷媒槽 冷却装置 熱電対 ヒータ 熱電対 増幅器 試料 4 : 6 : 8 : 10 : 14 : 半導体X線検出器 保護筒 液体窒素 冷却制御装置 温度検出器 加熱制御手段 温度検出器
構成図、第2図は動作を説明するための図、第3図は第
2の本発明の一実施例を説明するための装置構成図、第
4図は従来例を説明するための図である。 電子顕微鏡筐筒 熱伝導棒 冷媒槽 冷却装置 熱電対 ヒータ 熱電対 増幅器 試料 4 : 6 : 8 : 10 : 14 : 半導体X線検出器 保護筒 液体窒素 冷却制御装置 温度検出器 加熱制御手段 温度検出器
Claims (2)
- (1)冷媒槽と、該冷媒槽に熱伝導棒を介して接続され
た半導体X線検出器と、該冷媒槽内に挿入された冷却手
段と、前記冷媒を過冷却領域内の温度に維持するように
前記冷却手段を断続運転するための冷却制御手段を備え
ると共に、前記検出器近傍の温度を測定する手段と、検
出器近傍を加熱するための加熱手段と、該測定手段の測
温結果に基づいて前記加熱手段を制御するための加熱制
御手段とを設け、前記加熱手段または冷却手段によって
前記検出器近傍の温度を一定温度に保つように制御する
ようにしたことを特徴とするエネルギー分散型X線検出
器の温度制御装置。 - (2)冷媒槽と、該冷媒槽に熱伝導棒を介して接続され
た半導体X線検出器と、該冷媒槽内に挿入された冷却手
段と、前記冷媒を過冷却領域内の温度に維持するように
前記冷却手段を断続運転するための冷却制御手段を備え
ると共に、前記検出器近傍の温度を測定する手段と、前
記検出器に付設された増幅器を加熱するための加熱手段
と、該測定手段の測温結果に基づいて前記加熱手段を制
御するための加熱制御手段とを設け、前記加熱手段によ
って前記増幅器を一定温度に保つように制御するように
したことを特徴とするエネルギー分散型X線検出器の温
度制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2228604A JPH04110690A (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | エネルギー分散型x線検出器の温度制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2228604A JPH04110690A (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | エネルギー分散型x線検出器の温度制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04110690A true JPH04110690A (ja) | 1992-04-13 |
Family
ID=16878957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2228604A Pending JPH04110690A (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | エネルギー分散型x線検出器の温度制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04110690A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5302831A (en) * | 1992-04-30 | 1994-04-12 | North American Philips Corporation | Dewar construction for cooling radiation detector cold finger |
| WO1999022252A1 (de) * | 1996-04-17 | 1999-05-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung und verfahren zur bilderzeugung bei der digitalen dentalen radiographie |
| WO2001071383A1 (fr) * | 2000-03-21 | 2001-09-27 | Commissariat A L'energie Atomique | DETECTEUR DE RAYONNEMENT A JONCTION SEMI-CONDUCTRICE POUR LA MESURE DE FORTS DEBITS DE DOSE DE RAYONNEMENT X OU $g(g) |
| JP2007003397A (ja) * | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 試料分析装置 |
| JP2009289670A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Hitachi High-Technologies Corp | イオンビーム装置 |
-
1990
- 1990-08-30 JP JP2228604A patent/JPH04110690A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5302831A (en) * | 1992-04-30 | 1994-04-12 | North American Philips Corporation | Dewar construction for cooling radiation detector cold finger |
| WO1999022252A1 (de) * | 1996-04-17 | 1999-05-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung und verfahren zur bilderzeugung bei der digitalen dentalen radiographie |
| WO2001071383A1 (fr) * | 2000-03-21 | 2001-09-27 | Commissariat A L'energie Atomique | DETECTEUR DE RAYONNEMENT A JONCTION SEMI-CONDUCTRICE POUR LA MESURE DE FORTS DEBITS DE DOSE DE RAYONNEMENT X OU $g(g) |
| FR2806807A1 (fr) * | 2000-03-21 | 2001-09-28 | Commissariat Energie Atomique | Detecteur de rayonnement a jonction semi-conductrice pour la mesure de forts debits de dose de rayonnement x ou gamma |
| JP2007003397A (ja) * | 2005-06-24 | 2007-01-11 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 試料分析装置 |
| JP2009289670A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Hitachi High-Technologies Corp | イオンビーム装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2932288B1 (en) | Low-loss persistent current switch with heat transfer arrangement | |
| JP5228177B2 (ja) | 高温超伝導体装置のための極低温冷却方法および装置 | |
| US20090051361A1 (en) | Dnp apparatus | |
| US6578367B1 (en) | Liquid nitrogen cooling system | |
| KR101099899B1 (ko) | 극저온 케이블의 순환 냉각 시스템 | |
| US6653835B2 (en) | Magnetic resonance tomograph with a temperature controller for thermally highly sensitive components | |
| US9638774B2 (en) | Discharge controlled superconducting magnet | |
| US5013159A (en) | Thermal analysis apparatus | |
| JP4896620B2 (ja) | 超電導マグネット | |
| US5495489A (en) | Second harmonic generating method and apparatus | |
| US7309987B2 (en) | Anticipative temperature regulation of cryogenic NMR probes | |
| CN105093142A (zh) | 磁场匀化系统及方法 | |
| US5551243A (en) | Superconductive magnet for magnetic resonance systems | |
| EP3617728B1 (en) | Nmr probe system and method of using the nmr probe system | |
| US10278273B2 (en) | X-ray generator and X-ray analyzer | |
| El Matarawy et al. | New adiabatic calorimeter for realization the triple point of water in metallic-sealed cell at NIS-Egypt | |
| Steur et al. | Evidence for argon content in pure oxygen from thermal data | |
| JP5146373B2 (ja) | レーザ発振装置とレーザ加工機 | |
| US20240085504A1 (en) | Passive reduction of temperature-induced shim drift in nmr magnet systems | |
| Wang et al. | Operational parameters for the superconducting cavity maser | |
| RU2199777C2 (ru) | Устройство для термостабилизации нескольких объектов на разных температурных уровнях | |
| JPH1196953A (ja) | 冷却試料観察装置 | |
| JPS5914182B2 (ja) | 熱試験装置 | |
| JP2007212381A (ja) | 温度調節装置 | |
| SU362232A1 (ru) | Криостат для рентгенографии материалов |