JPH04111979A - シーム溶接機 - Google Patents

シーム溶接機

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JPH04111979A
JPH04111979A JP22802290A JP22802290A JPH04111979A JP H04111979 A JPH04111979 A JP H04111979A JP 22802290 A JP22802290 A JP 22802290A JP 22802290 A JP22802290 A JP 22802290A JP H04111979 A JPH04111979 A JP H04111979A
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JP
Japan
Prior art keywords
electrode
lower circular
circular electrode
detection means
welding machine
Prior art date
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Pending
Application number
JP22802290A
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English (en)
Inventor
Keishi Sodeno
袖野 恵嗣
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、下部円板電極と上部円板電極との間に挟ま
れたストリップの継目を溶接するとともに、下部円板電
極、上部円板電極の表面を整形手段により整形するシー
ム溶接機に関するものである。
[従来の技術] 第5区は例えば実公昭49−82576号公報に示され
た従来のシーム溶接機の下部円板電極部であり、図にお
いて、(1b)は下部円板電極、(2)は下部円板電極
(1b)の軸受、(3)は軸受(2)を支える電極ハウ
ジング、(4)は電極ハウジング(3)を支持し上、下
に高さを調整する機構を備えた下部円板電極機構、(5
a) 、 (5b)は下部円板電極(1b)の表面を研
削し整形する整形手段としてのカッタで、第6図に示す
とおり、カッタ(5a) 、 (5b)の表面はロレッ
ト加工されている。(8)はカッタ(5a) 、 (5
b)を駆動するモータで歯車列を通してカッタ(5a)
 、 (5b)を駆動する。(7)はカッタ(5a) 
、 (5b)の押付はシリンダで、リンク(6)を使っ
て下部円板電極(1b)の表面にはカッタ(5a) 、
 (51))が押付けられる。
次に、動作について説明する。下部円板電極(1b)は
、円周の表面て被溶接材に接触して溶接を行う。従って
、溶接を繰り返すにつれて下部円板電極(1b)の表面
は消耗し、荒れることになる。この表面を整形するため
に丸形のカッタ(5a) 、 (5b)を回転させなが
ら下部円板電極(1b)の表面に適切な圧力で押しつけ
る。カッタ(5a) 、 (5b)の駆動系の歯車列の
キヤ比を変えることによってカッタ(5a)とカッタ(
5b)の周速度に差を付ける。これによって下部円板型
1(lb)とカッタ(5a)、下部円板電極けb)とカ
ッタ(5b)の周速度に差ができ下部円板電極(1b)
の表面てカッタ(5a) 、 (5b)が滑ることにな
る。カッタ(5a) 、 (5b)の表面は第6図に示
すように鋭利な歯となっているなめに、滑るとき下部円
板電極(1b)の表面を削ることになる。
なお、上記説明は下部円板電極(1b)について述べた
が、上部円板電極も同様の機構で、その表面が研削され
る。
[発明か解決しようとする課題] 従来のシーム溶接機は以上のように適正な一定圧力てカ
ッタ(5a) 、 (5b)を円板電極の表面に押付け
て研削するのて、溶接時に固いスパッタが円板電極の表
面に付着したり、延研削量が増えてくると円板電極は真
円でなくなる。円板電極がいびつになると溶接電流密度
や円板電極による溶接部への単位面積当たりの圧力が変
るために溶接不良を引きおこす問題点があった。また、
円板電極の消耗量を監視しながら必要に応じて手動で円
板電極の高さを調整したり、真円に研削された新しい円
板電極に取り替える必要かあり、オペレータによる監視
、判断、調整を誤まって溶接不良を発生させる問題点が
あった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、円板電極の消耗量を検知し、溶接不良の発
生を未然に防止てきるシーム溶接機を提供することを目
的とする。
[課題を解決するための手段] この発明に係る第1の発明のシーム溶接機は、下部円板
電極、上部円板電極の円周表面に対向して設けられ下部
円板電極、上部円板電極の消耗量を検知する消耗量検知
手段を備えたものである。
また、第2の発明のシーム溶接機は、下部円板電極の表
面に対向して設けられ下部円板電極の消耗量を検知する
消耗量検知手段と、前記下部円板電極に連設され下部円
板電極の高さ位置を調整する下部円板電極機構と、この
下部電極機構に設けられ下部電極機構の位置を検知する
電極機構検知手段とを備えたものである。
[作 用] この第1の発明においては、消耗量検知手段により、下
部円板電極、上部円板電極の消耗量が検知され、その値
により適正な処置をとることができる。
この第2の発明においては、消耗量検知手段、電極機構
検知手段からの値により、下部円板電極機構が動作し、
下部円板電極のレベルは一定に維持される。
[実施例] 第1図はこの発明の第1の発明の一実施例を示す要部構
成図であり、第5図、第6図と同一または相当部分は同
一符号を付し、その説明は省略する。
図において、(5b)はカッタで、第5図および第6図
に示したカッタ(5a) 、 (5b)と同様の目的で
配設されるが、下部円板電極(11))の駆動装置とし
てモータ(9)、歯車列(10) 、 (11) 、 
(12)が付設されている。(13)はネジブツシュ、
(14)はネジ棒、(15)はネジ棒(14)の駆動用
モータ、(16)はモータ(15)からネジ棒(14)
への力の伝達機構、(17)は下部電極機構(4)の案
内ブツシュ、(18)は案内ブツシュ(4)のハウジン
グ、(19)は下部電極機構取付板、(20b)は下部
円板電極(1b)の表面までの距離を測定するなめに下
部円板電極(1b)と対向して配設された消耗量検知手
段としての第2のレーザ変位計である。(21,b)は
第2のレーザ変位計(20b)の第2のサポータでハウ
ジング(18)に取付けられている。
第2図はシーム溶接機の全体構成図てあり、(1a)は
」二部円板電極、(20a)は消耗量検知手段としての
第1のレーザ変位計、(21a)は第1のサポータ、(
22)は上部円板電極加圧iR構、(23)は導体、(
24)は溶接トランス、(25)は移動可能なキャリッ
ジ、(26)はシャー用シリンダ、(27a) 、 (
27b) 、 <27c)はキャリッジ(25,)の案
内部、(28)は案内部(27a)(27b) 、 (
27c)のサポートをするコモンベース、(29)はシ
ャー、(30)は被溶接材としてのストリップで先行ス
1〜リップと後行ストリップとがあってその両尾端を切
断して位置決めされている。
第3図は第2図を入方向から視た側面図であり、溶接中
の先行ストリップ(30b)、後行ストリップ(30a
)、クランパ(31)、 (32) 、 (33) 、
 (34)および円板電極(1,a)(lb)のそれぞ
れの関係を示している。
次に、第1図に示した構成の動作について説明する。下
部円板電極(11))はモータ(9)によって歯車列(
10)、(11)、(1,2)を通じて駆動され回転す
る。
カッタ(5b)はモータ(9)によって駆動され回転す
る。また、カッタ(5b)はシリンダ(7)によって下
部円板型fi(lb)に押し付けられ下部円板電極(l
b)の表面を研削する。下部円板電極(1b)の表面よ
り一定量離れた位置に第2のレーザ変位計(2011)
を設置し下部円板電極(1b)の表面までの距離を測定
する。下部円板電極(ill)を回転させ連続的に距離
を測定しその値の最大値をり、AX、M小値をLMIN
とすると△R= L MAX  L MINとすると△
Rの値が下部円板電極(1b)の半径の変動となる。△
Rが許容値を越えたとき下部円板電極(1b)を取り替
えれは下部円板電極(1b)の形状変動による溶接不良
を防ぐことができる。
次に、第2図、第3図に示した構成の動作について説明
する。クランパ(31)〜(34)で先行ストリップ(
301〕)、後行ストリップ(30a)をクランプして
おき、シャー(29)をシリンダ(26)で動がして、
先行ストリップ(30b) 、後行スI〜リップ(30
a)の両端を切断して位置決めする。位置決めした後、
クランパ(31)〜(34)の一方を一定量動かして第
3図のように先行、後行ストリップ(30a) 、 (
30b)の両端を重ね合せる。キャリッジ(25)に上
部、下部円板電極(ia) 、 (1,b)、導体(2
3)、溶接トランス(24)、シャー(29)等が搭載
され、キャリッジ(25)は案内部(27a) 、 (
27b) 、 (27c)の上を走行する。このとき、
」二部円板型i (la)は上部円板電極加圧機構(2
2)で適正な圧力で加圧される。また、溶接1−ランス
(24)から導体(23)を通じて上部、下部円板電極
(la) 、 (lb)に適正な溶接電流を流す。そし
て、先行、後行ストリップ(30a) 、 (30b)
の重ね部に電流と圧力を与えながら溶接を行う。溶接完
了後、上部円板電極(1a)は開放され、キャリッジ(
25)は原点へ復帰する。この位置て、上部、下部円板
電極(la) 、 (lb)の表面ばカッタ(5a) 
、 (5b)によって研削され、第1.第2のレーザ変
位計(20a) 、 (20b)で上部、下部円板電極
(la) 、 (lb)の半径の変動と消耗量が測定さ
れる。
第4図はこの発明の第2の発明の一実施例を示す構成図
てあり、第1の発明の一実施例を示す第1図のものと異
なる点は、ハウジンク(18)と下部電極機構(4)と
の間にポテンショメータ(29)か設けられ、電極機構
検知手段であるボテンショメク(29)により下部電極
R構(4)の上昇値が測定されるようになっている。
上記のシーム溶接機では、新しい消耗していない下部円
板電極(1b)の表面から第2のレーザ変位計(201
))までの距離をり。、消耗した下部円板電極(1b)
の表面から第2のレーザ変位計(20b)まての「1離
を■−8とすると、△R,=L、−Lo、△R8は下部
円板電極(1b)の消耗量となる。下部円板電極(1b
)の消耗量△R8分だけ、下部円板電極機構(4)の高
さ位置を調整するモータ(15)を駆動してネジ棒(1
4)を回転させ上昇量をポテンショメータ(29)て検
出しなから下部円板電極機構り4)の高さ位置を調整す
れは自動的に下部円板電極(1b)の消耗量を補正する
ことができる。
なお、第1の発明および第2の発明のそれぞれの実施例
では整形手段としてカッタ(5a) 、 (5b)を用
いたか、勿論このものに限定されず、例えば完成バイト
、剣バイトを用いてもよい。
また、消耗量検知手段として例えは磁気式センサを用い
てもよく、電極機構検知手段として例えばひずみゲージ
を用いてもよい。
[発明の効果] 以上説明したように、この発明の第1の発明のシーム溶
接機によれば、消耗量検知手段により、下部円板電極、
上部円板電極の消耗量が検知されるようになっているの
で、円板電極の形状不良による溶接欠陥の発生を未然に
防止することができるという効果がある。
また、第2の発明のシーム溶接機によれば、下部円板電
極のレベルは一定に保持され、下部円板電極の溶接部に
対する面圧不良による溶接欠陥の発生を防止することが
できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の第1の発明の一実施例を示すシール
溶接機の要部構成図、第2図はシーム溶接機の全体構成
図、第3図は第2図をA方向から視たときの構成図、第
4図は第2の発明の一実施例を示す要部構成図、第5図
は従来のシーム溶接機の一例を示す要部構成図、第6図
は第5図のカッタを示す図である。 図において、(1a)は上部円板電極、(1b)は下部
円板電極、(4)は下部円板電極機構、(5a) 、 
(5b)はカッタ、(20a)は第1のレーザ変位計、
(20b)は第2のレーザ変位計、(29)はポテンシ
ョメータ、(30)はストリップである。 なお、各図中、同一符号は同一または相当部分を示す。 代  理  人     曾  我  道  照29:
ボテンショメーヌ(1井4オ吸七が杉ツ0子tカ手 続 補 正 書 平成 4解4 特3!f庁長官殿 事件の表示 平成2年特許願第228022号 住 所   東京都千代田区丸の向上丁目2番3号名 
称(601)三菱電機株式会社 代表者 志岐守哉 代 理 人 住 所 東京都千代田区丸の内3丁目1番1号 国際ビルディング8階 補正の対象 (1)図面 補正の内容 (1)第1図を別紙のとおり補正する。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下部円板電極と上部円板電極との間に挟まれたス
    トリップの継目を溶接するとともに、下部円板電極、上
    部円板電極の表面を整形手段により整形するシーム溶接
    機において、前記下部円板電極、上部円板電極の円周表
    面に対向して設けられ、下部円板電極、上部円板電極の
    消耗量を検知する消耗量検知手段を備えたことを特徴と
    するシーム溶接機。
  2. (2)下部円板電極と上部円板電極との間に挟まれたス
    トリップの継目に溶接するとともに、下部円板電極、上
    部円板電極の円周表面を整形手段により整形するシーム
    溶接機において、前記下部円板電極の表面に対向して設
    けられ下部円板電極の消耗量を検知する消耗量検知手段
    と、前記下部円板電極に連設され下部円板電極の高さ位
    置を調整する下部円板電極機構と、この下部電極機構に
    設けられ下部電極機構の位置を検知する電極機構検知手
    段とを備えたことを特徴とするシーム溶接機。
JP22802290A 1990-08-31 1990-08-31 シーム溶接機 Pending JPH04111979A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08206842A (ja) * 1994-11-28 1996-08-13 Elpatronic Ag ローラシーム溶接法及び抵抗シーム溶接機のローラヘッド保持具
EP2808315A1 (en) 2013-05-30 2014-12-03 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Gel composition and a use thereof
JP2015013295A (ja) * 2013-07-03 2015-01-22 本田技研工業株式会社 シーム溶接装置及びシーム溶接方法

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