JPH04112841A - 2,6―ジメチルナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタレン異性体混合物の製造方法 - Google Patents
2,6―ジメチルナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタレン異性体混合物の製造方法Info
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- JPH04112841A JPH04112841A JP23270190A JP23270190A JPH04112841A JP H04112841 A JPH04112841 A JP H04112841A JP 23270190 A JP23270190 A JP 23270190A JP 23270190 A JP23270190 A JP 23270190A JP H04112841 A JPH04112841 A JP H04112841A
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- C07C5/22—Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing the same number of carbon atoms by isomerisation
- C07C5/27—Rearrangement of carbon atoms in the hydrocarbon skeleton
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- C07C5/2737—Catalytic processes with crystalline alumino-silicates, e.g. molecular sieves
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- C07C2529/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites, pillared clays
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はジメチルナフタレン異性体混合物の製造方法S
こ関するものであり、より詳巳く:よ、26−ジメチル
ナフタレンの濃度を畳めたジメチルナフタレン異性体混
合物の製造方法;こ関するものである。
こ関するものであり、より詳巳く:よ、26−ジメチル
ナフタレンの濃度を畳めたジメチルナフタレン異性体混
合物の製造方法;こ関するものである。
(従来の技術)
ジメチルナフタレン、例えば、2,6−ジメチルナフタ
レンは耐熱性およびガスバリアー性の高いポリエチレン
ナフタレート(PEN)等の原料として使用され、ジメ
チルナフタレン異性体混合物を主要成分として含有する
原料油から分離されている。
レンは耐熱性およびガスバリアー性の高いポリエチレン
ナフタレート(PEN)等の原料として使用され、ジメ
チルナフタレン異性体混合物を主要成分として含有する
原料油から分離されている。
ジメチルナフタレンは2つのメチル基がナフタレン骨格
に結合した化合物であり、種々の異性体が存在する。従
って、個々の異性体の濃度は低く、必要とする異性体の
分離後の異性体混合物の有効利用が必要であった。例え
ば、2.6−ジメチルナフタレンの全ジメチル体中に占
める熱力学的平衡濃度は14%程度であり、これを分離
じた後のラフィ名−トを有効利用するため、2.6−ジ
メチル体濃度を高めるための異性化あるいはトランスア
ルキル化等の変換反応が必要であった。
に結合した化合物であり、種々の異性体が存在する。従
って、個々の異性体の濃度は低く、必要とする異性体の
分離後の異性体混合物の有効利用が必要であった。例え
ば、2.6−ジメチルナフタレンの全ジメチル体中に占
める熱力学的平衡濃度は14%程度であり、これを分離
じた後のラフィ名−トを有効利用するため、2.6−ジ
メチル体濃度を高めるための異性化あるいはトランスア
ルキル化等の変換反応が必要であった。
かかる異性化あるいはトランスアルキル化反応は、一つ
の分子内の置換アルキル基の移動や二種の分子間の置換
アルキル基の移動に関するものであり、通常、アルミノ
シリケート、ゼオライト等の種々の固体酸触媒(例えば
、Kozo Tanabe etal、、 @New
5olid Ac1ds and Ba5es 、 K
odanshaElseνier、1989等参照)あ
るいは塩化アルミニウム等の金属ハロゲン化物からなる
ルイス酸触媒を用いて水素雰囲気上気相または液相で実
施される。特に、2,6−ジメチルナフタレンを得る方
法としては、例えば特開昭61−187416、特開昭
63−135341、特開昭63−146834、特開
昭63−150233、特開昭63−275528等が
挙げられる。
の分子内の置換アルキル基の移動や二種の分子間の置換
アルキル基の移動に関するものであり、通常、アルミノ
シリケート、ゼオライト等の種々の固体酸触媒(例えば
、Kozo Tanabe etal、、 @New
5olid Ac1ds and Ba5es 、 K
odanshaElseνier、1989等参照)あ
るいは塩化アルミニウム等の金属ハロゲン化物からなる
ルイス酸触媒を用いて水素雰囲気上気相または液相で実
施される。特に、2,6−ジメチルナフタレンを得る方
法としては、例えば特開昭61−187416、特開昭
63−135341、特開昭63−146834、特開
昭63−150233、特開昭63−275528等が
挙げられる。
また、ジメチルナフタレン異性体混合物を製造する方法
は、上述した方法以外にモノメチルナフタレン、トリメ
チルナフタレン等があの不均化反応、ナフタレンおよび
/またはモノメチルナフタレンのメタノール、メチルク
ロライド、ギ酸メチル、ホルムアルデヒドあるいはメチ
ラール等のアルキル化剤によるアルキル化反応、更には
ナフタレンおよび/またはモノメチルナフタレンとトル
エン、″キシレン等のメチルヘンゼン類とのトランスア
ルキル化反応等による方法が挙げられる。そして、これ
らの方法として、■構造的に一次元方向に細孔が存在す
るモルデナイトを触媒とする方法(例えば、特公昭47
37415、特公昭47−37416等)、■ホージ
ャサイト型ゼオライトを触媒とする方法(例えば、特開
昭63−14737、特開昭63−14738、特開昭
63−14739、特開昭63−8344等)、■酸素
士員環を有するペンタシル型ゼオライトを触媒として使
用する方法(例えば、特開昭59−88433、特開昭
60−69042、特開昭6045536等)等が知ら
れている。
は、上述した方法以外にモノメチルナフタレン、トリメ
チルナフタレン等があの不均化反応、ナフタレンおよび
/またはモノメチルナフタレンのメタノール、メチルク
ロライド、ギ酸メチル、ホルムアルデヒドあるいはメチ
ラール等のアルキル化剤によるアルキル化反応、更には
ナフタレンおよび/またはモノメチルナフタレンとトル
エン、″キシレン等のメチルヘンゼン類とのトランスア
ルキル化反応等による方法が挙げられる。そして、これ
らの方法として、■構造的に一次元方向に細孔が存在す
るモルデナイトを触媒とする方法(例えば、特公昭47
37415、特公昭47−37416等)、■ホージ
ャサイト型ゼオライトを触媒とする方法(例えば、特開
昭63−14737、特開昭63−14738、特開昭
63−14739、特開昭63−8344等)、■酸素
士員環を有するペンタシル型ゼオライトを触媒として使
用する方法(例えば、特開昭59−88433、特開昭
60−69042、特開昭6045536等)等が知ら
れている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、■の方法は使用する触媒の強い酸強度の
ためにコーク析出が激しく、しかも構造に由来する細孔
閉塞が生じ易く反応活性が急激に低下するという難点が
あった。また■の方法では使用するホージャサイト型ゼ
オライトも細孔内部でのコーク析出に伴う閉塞が生し、
その結果、反応活性が急激に低下するという難点があっ
た。更に■の方法ではその特異な酸強度により優れた反
応活性を呈するが、ジメチルナフタレン間の異性化反応
の場合、キシレン生成反応に比してコーク生成が多く経
時的な活性低下を回避することが困難であった。また、
これらの方法につき、反応活性の低下を回避し活性維持
のために再生処理を頻繁に行うことも可能であるが、運
転サイクルが短期間となり工業的な効率が低下するとい
う難点があった。
ためにコーク析出が激しく、しかも構造に由来する細孔
閉塞が生じ易く反応活性が急激に低下するという難点が
あった。また■の方法では使用するホージャサイト型ゼ
オライトも細孔内部でのコーク析出に伴う閉塞が生し、
その結果、反応活性が急激に低下するという難点があっ
た。更に■の方法ではその特異な酸強度により優れた反
応活性を呈するが、ジメチルナフタレン間の異性化反応
の場合、キシレン生成反応に比してコーク生成が多く経
時的な活性低下を回避することが困難であった。また、
これらの方法につき、反応活性の低下を回避し活性維持
のために再生処理を頻繁に行うことも可能であるが、運
転サイクルが短期間となり工業的な効率が低下するとい
う難点があった。
(課題を解決するための手段)
そこで、本発明者等は、上記の課題を解消するべく鋭意
検討した結果、2.6−ジメチルナフタレンの濃度が熱
力学的平衡濃度よりも小さいジエチルナフタレン異性体
混合物を特定触媒の存在下反応させることにより、2.
6−ジメチルナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタ
レン異性体混合物が長期間に亘り、安定的に取得でき、
かつ反応系から生ずる副生ガス中の低級オレフィン量か
極めて少ないということを見出し、本発明に到達した。
検討した結果、2.6−ジメチルナフタレンの濃度が熱
力学的平衡濃度よりも小さいジエチルナフタレン異性体
混合物を特定触媒の存在下反応させることにより、2.
6−ジメチルナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタ
レン異性体混合物が長期間に亘り、安定的に取得でき、
かつ反応系から生ずる副生ガス中の低級オレフィン量か
極めて少ないということを見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明の目的は、2.6−ジメチルナフタレ
ンの濃度が熱力学的子?#1濃度よりも小さいジメチル
ナフタレン異性体混合物を固体酸触媒の存在下反応させ
ることにより、2,6−ジメチルナフタレンの濃度を高
めたジメチルナフタレン異性体混合物を製造する方法に
おいて、固体酸触媒として、酸化物モル比で下記の一般
式%式%: (式中、Mは原子価mを有する少なくとも1種のアルカ
リ金属またはアルカリ土類金属を表し、mは1〜2、X
は0−Lyは0.01〜10.2は2〜100であり、
nは1〜20を表す。)で表される結晶性二、ケル含有
メタロシ1.1ケートを用いることを特徴とする2、6
−ジメチルナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタレ
ン異性体混合物の製造方法により容易に達成される。
ンの濃度が熱力学的子?#1濃度よりも小さいジメチル
ナフタレン異性体混合物を固体酸触媒の存在下反応させ
ることにより、2,6−ジメチルナフタレンの濃度を高
めたジメチルナフタレン異性体混合物を製造する方法に
おいて、固体酸触媒として、酸化物モル比で下記の一般
式%式%: (式中、Mは原子価mを有する少なくとも1種のアルカ
リ金属またはアルカリ土類金属を表し、mは1〜2、X
は0−Lyは0.01〜10.2は2〜100であり、
nは1〜20を表す。)で表される結晶性二、ケル含有
メタロシ1.1ケートを用いることを特徴とする2、6
−ジメチルナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタレ
ン異性体混合物の製造方法により容易に達成される。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明における2、6−ジメチルナフタレンの濃度が熱
力学的平衡濃度よりも小さいツメチルナフタレン異性体
混合物とは2.6−ジメチルナフタレンとその位置異性
体、即ち、2,7−ジメチルナフタレン、2.3−ジメ
チルナフタレン、13−ジメチルナフタレン、1,8−
ジメチルナフタレン、17−ジメチルナフタレン、1.
6ジメチルナフタレン、1.5−ジメチルナフタレン
1.4−ジメチルナフタレン、および1.2−ジメチル
ナフタレンの9種のうち少なくとも1種を含む異性体混
合物であり、全異性体中の26−ジメチルナフタレンの
濃度が異性体の熱力学的平衡濃度よりも小さいものであ
る。
力学的平衡濃度よりも小さいツメチルナフタレン異性体
混合物とは2.6−ジメチルナフタレンとその位置異性
体、即ち、2,7−ジメチルナフタレン、2.3−ジメ
チルナフタレン、13−ジメチルナフタレン、1,8−
ジメチルナフタレン、17−ジメチルナフタレン、1.
6ジメチルナフタレン、1.5−ジメチルナフタレン
1.4−ジメチルナフタレン、および1.2−ジメチル
ナフタレンの9種のうち少なくとも1種を含む異性体混
合物であり、全異性体中の26−ジメチルナフタレンの
濃度が異性体の熱力学的平衡濃度よりも小さいものであ
る。
そして、かかる異性体混合物は、ジメチルナフタレン異
性体混合物を含む芳香族炭化水素原料油より、公知の方
法、例えば、特定の吸着剤と脱離剤を用いるカラムクロ
マトグラフィーや、更にこれと分離と晶析分離とを組み
合わせた2、6〜ンメチルナフタレンの分離方法(特開
平116862日)等によって容易に得られる。より具
体的には、ジメチルナフタレン全異性体中の2,6ジメ
チルナフタレンの濃度が0.1〜10%、好ましくは0
.2〜5%程度であるようなものがよい。
性体混合物を含む芳香族炭化水素原料油より、公知の方
法、例えば、特定の吸着剤と脱離剤を用いるカラムクロ
マトグラフィーや、更にこれと分離と晶析分離とを組み
合わせた2、6〜ンメチルナフタレンの分離方法(特開
平116862日)等によって容易に得られる。より具
体的には、ジメチルナフタレン全異性体中の2,6ジメ
チルナフタレンの濃度が0.1〜10%、好ましくは0
.2〜5%程度であるようなものがよい。
更に、この異性体混合物には、ナフタレン、メチルナフ
タレン、エチルナフタレン、メチルエチルナフタレン、
トリメチルナフタレン、テトラメチルナフタレン、ビフ
ェニル、メチルビフェニル等の他の芳香族炭化水素を含
んでもよいが、これらは通常、全体の50%以下、好ま
しくは10%以下である。
タレン、エチルナフタレン、メチルエチルナフタレン、
トリメチルナフタレン、テトラメチルナフタレン、ビフ
ェニル、メチルビフェニル等の他の芳香族炭化水素を含
んでもよいが、これらは通常、全体の50%以下、好ま
しくは10%以下である。
本発明では、かかる異性体混合物から出発して2.6−
ジメチルナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタレン
異性体混合物を取得するものである。ここで2,6−ジ
メチルナフタレンの濃度を高めたとは、出発原料である
異性体混合物中の26−ジメチルナフタレンの濃度より
大きくなることをいい、例えば、熱力学的平衡濃度付近
あるいはそれ以上、具体的にはジメチルナフタレン全異
性体中の2,6−ジメチルナフタレンの濃度が10〜2
0%程度となるようなものを意味する。
ジメチルナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタレン
異性体混合物を取得するものである。ここで2,6−ジ
メチルナフタレンの濃度を高めたとは、出発原料である
異性体混合物中の26−ジメチルナフタレンの濃度より
大きくなることをいい、例えば、熱力学的平衡濃度付近
あるいはそれ以上、具体的にはジメチルナフタレン全異
性体中の2,6−ジメチルナフタレンの濃度が10〜2
0%程度となるようなものを意味する。
本発明では、かかる2、6−ジメチルナフタレンの濃度
を高めたジメチルナフタレン異性体混合物を取得するた
めムこ使用する固体酸触媒として酸化物モル比で下記の
一般式 M2/110:XA l! 20:+:yNiO:zs
i02:n)I、、0(上記式中、Mは原子価mを有す
る少なくとも1種のアルカリ金属またはアルカリ土類金
属を表し、mは1〜2、XはO〜1、yは0.01〜1
0.2は2〜100であり、nは1〜2oを表す。)で
表される結晶性ニッケル含有メタロシリケートを用いる
。ここで結晶性ニッケル含有メタロシリケートとしては
、ニッケルを含有し、そのニッケルの少なくとも一部あ
るいは全てがゼオライト骨格を形成する四面体置換位置
にあってもよく、または原子価mを有する少なくとも1
種のアルカリ金属まニジよアルカリ土類金属Mと1′オ
ン交換した形態また:よ担持状態で存在しているもので
もよい。
を高めたジメチルナフタレン異性体混合物を取得するた
めムこ使用する固体酸触媒として酸化物モル比で下記の
一般式 M2/110:XA l! 20:+:yNiO:zs
i02:n)I、、0(上記式中、Mは原子価mを有す
る少なくとも1種のアルカリ金属またはアルカリ土類金
属を表し、mは1〜2、XはO〜1、yは0.01〜1
0.2は2〜100であり、nは1〜2oを表す。)で
表される結晶性ニッケル含有メタロシリケートを用いる
。ここで結晶性ニッケル含有メタロシリケートとしては
、ニッケルを含有し、そのニッケルの少なくとも一部あ
るいは全てがゼオライト骨格を形成する四面体置換位置
にあってもよく、または原子価mを有する少なくとも1
種のアルカリ金属まニジよアルカリ土類金属Mと1′オ
ン交換した形態また:よ担持状態で存在しているもので
もよい。
好ましくはゼオライト骨格を形成する四面体置換位置の
ほうがよい。
ほうがよい。
更に、本発明の結晶性ニア・ケル含有メタロシリ’T
F ’!: L テt@、モル比テ5iozz’A
e 203 、即ち、z / x≧3、好ましくはz
/ x≧5であること、また、5iOz/Ni01即ち
、z / y≦5000、好ましくはz/y≦2000
であるのがよい。そして、かかるメタロシリケートは構
造的にモルデナイト、ホージャサイト、オメガ、ヘータ
、ZSM−5型、ZSM−8型、ZSM−11型等の構
造を取り得るが、より好ましくはZSM−5型構造を有
するものがよい。すなわち、本発明の結晶性ニッケル含
有メタロシリケートとしては、ZSM−5型ゼオライト
のX線回折パターンを有し、かつ珪素、二、ケルおよび
アルミニウムもしくは珪素およびニッケルを含有する結
晶学的骨格を有する結晶性ニッケル含有メタロシリケー
トが最も好ましい。
F ’!: L テt@、モル比テ5iozz’A
e 203 、即ち、z / x≧3、好ましくはz
/ x≧5であること、また、5iOz/Ni01即ち
、z / y≦5000、好ましくはz/y≦2000
であるのがよい。そして、かかるメタロシリケートは構
造的にモルデナイト、ホージャサイト、オメガ、ヘータ
、ZSM−5型、ZSM−8型、ZSM−11型等の構
造を取り得るが、より好ましくはZSM−5型構造を有
するものがよい。すなわち、本発明の結晶性ニッケル含
有メタロシリケートとしては、ZSM−5型ゼオライト
のX線回折パターンを有し、かつ珪素、二、ケルおよび
アルミニウムもしくは珪素およびニッケルを含有する結
晶学的骨格を有する結晶性ニッケル含有メタロシリケー
トが最も好ましい。
かかる結晶性ニッケル含有メタロシリケートは、例えば
、特開昭61−64333あるいコよ一触媒第28巻N
o、2.P、81 (1986)等二こ開示された方法
により製造することかできる。
、特開昭61−64333あるいコよ一触媒第28巻N
o、2.P、81 (1986)等二こ開示された方法
により製造することかできる。
使用するニア・ケル塩とじては、硝酸ニッケル、硫酸ニ
ッケル等が挙げられる。また、ニッケルを含有させる方
法上りでは、水熱合成法によるほかこれらのニッケル塩
を含浸する方法あるいはイオン交換法によりニッケルを
イオン交換して含有させることもできる。更に、必要に
応して、モリ7デン、タングステン、バナジウム、鉄、
ビスマス、銅あるいはコバルト等の元素を硫化物あるい
は酸化物の形態で本発明の触媒に添加してもよい。かか
る化合物の添加量としては、0.5〜20重量%程度で
よい。本発明に用いる触媒は、常法乙こよるイオン交換
および焼成方法によってH型(プロトン)化され触媒と
して供される。
ッケル等が挙げられる。また、ニッケルを含有させる方
法上りでは、水熱合成法によるほかこれらのニッケル塩
を含浸する方法あるいはイオン交換法によりニッケルを
イオン交換して含有させることもできる。更に、必要に
応して、モリ7デン、タングステン、バナジウム、鉄、
ビスマス、銅あるいはコバルト等の元素を硫化物あるい
は酸化物の形態で本発明の触媒に添加してもよい。かか
る化合物の添加量としては、0.5〜20重量%程度で
よい。本発明に用いる触媒は、常法乙こよるイオン交換
および焼成方法によってH型(プロトン)化され触媒と
して供される。
このようにして得られた結晶性ニッケル含有メタロシリ
ケートはヘーマイト、アルミナ、カオリンあるいはシリ
カ等の結合剤を、通常5〜50重量%、好ましくは10
〜30重量%程度混合して、押じ出じ成形法等2こより
粒状、ペレ7・ト状、球状等Qこ成型して使用してもよ
く、その際には粒径としては特に限定されないが、通常
0.65〜5mm程度であり、触媒の表面積としては一
般乙こ200〜700m”7gの範囲から選択使用する
のがよい。なお、かかる結晶性ニッケル含有メタロシリ
ケート触媒は長時間高活性を維持するが、反応終了後に
酸素含有ガスによる酸化処理あるいは水素含有ガスによ
る水素化処理によって再生することができる。
ケートはヘーマイト、アルミナ、カオリンあるいはシリ
カ等の結合剤を、通常5〜50重量%、好ましくは10
〜30重量%程度混合して、押じ出じ成形法等2こより
粒状、ペレ7・ト状、球状等Qこ成型して使用してもよ
く、その際には粒径としては特に限定されないが、通常
0.65〜5mm程度であり、触媒の表面積としては一
般乙こ200〜700m”7gの範囲から選択使用する
のがよい。なお、かかる結晶性ニッケル含有メタロシリ
ケート触媒は長時間高活性を維持するが、反応終了後に
酸素含有ガスによる酸化処理あるいは水素含有ガスによ
る水素化処理によって再生することができる。
本発明においては、かかる結晶性ニッケル含有メタロシ
リケートを触媒として使用し、上述した2 6−ジメチ
ルナフタレンの濃度が熱力学的平衡濃度よりも小さいジ
メチルナフタレン異性体混合物から2.6−ジメチルナ
フタレンの濃度を高めたジメチルナフタレン異性体混合
物を取得するが、かかる反応帯域では上述したような異
性化反応、不均化反応、アルキル化反応あるいはトラン
スアルキル化反応等の変換反応が複雑に生し、反応終了
の時点で、結果として2.6−ジメチルナフタレンの濃
度を高めたジメチルナフタレン異性体混合物が得られる
ものである。
リケートを触媒として使用し、上述した2 6−ジメチ
ルナフタレンの濃度が熱力学的平衡濃度よりも小さいジ
メチルナフタレン異性体混合物から2.6−ジメチルナ
フタレンの濃度を高めたジメチルナフタレン異性体混合
物を取得するが、かかる反応帯域では上述したような異
性化反応、不均化反応、アルキル化反応あるいはトラン
スアルキル化反応等の変換反応が複雑に生し、反応終了
の時点で、結果として2.6−ジメチルナフタレンの濃
度を高めたジメチルナフタレン異性体混合物が得られる
ものである。
そして、かかる反応の条件としては、反応温度と巳ては
特に制限されるものではなく、通常200〜500°C
1好ましくは250〜450°Cの範囲から選択すれば
よい。反応圧力としては、常圧下あるいは加圧下のいず
れでも実施でき、また液相あるいは気相のいずれでも実
施できる。反応形式としては、回分法、連続法のいずれ
でもよい。
特に制限されるものではなく、通常200〜500°C
1好ましくは250〜450°Cの範囲から選択すれば
よい。反応圧力としては、常圧下あるいは加圧下のいず
れでも実施でき、また液相あるいは気相のいずれでも実
施できる。反応形式としては、回分法、連続法のいずれ
でもよい。
なお、反応雰囲気は水素が存在しないと触媒活性が劣化
し易いので、触媒活性の維持の上からも水素ガスの存在
下が好ましい。
し易いので、触媒活性の維持の上からも水素ガスの存在
下が好ましい。
(実施例)
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はその要旨を越えない限り下記の実施例に限定される
ものではない。
明はその要旨を越えない限り下記の実施例に限定される
ものではない。
なお、生成物についてはガスクロマトグラフィーにより
、また、コーク量については燃焼法により、それぞれ分
析を行った。
、また、コーク量については燃焼法により、それぞれ分
析を行った。
実施例1
硫酸アルミニウム含水塩(和光純薬味製) 15.3g
、硫酸ニッケル(和光純薬@製)12.7g、硫酸(国
産化学■製)24.8g、テトラプロピルアンモニウム
ブロミt”(TPABr )(東京化成@製)23、0
gを水240.1 gにン容解したものをA液とし、
水ガラス3号(キシダ化学■製)275.5gと水18
0.7 gを混合したものをB液とし、更に塩化ナトリ
ウム(キシダ化学■製)105.3g、11E11.4
g、テトラプロピルアンモニウムフロミド8.60 g
、水酸化ナトリウム(純正化学■95%純度)を水41
6.6gに溶解したものをC液とした。
、硫酸ニッケル(和光純薬@製)12.7g、硫酸(国
産化学■製)24.8g、テトラプロピルアンモニウム
ブロミt”(TPABr )(東京化成@製)23、0
gを水240.1 gにン容解したものをA液とし、
水ガラス3号(キシダ化学■製)275.5gと水18
0.7 gを混合したものをB液とし、更に塩化ナトリ
ウム(キシダ化学■製)105.3g、11E11.4
g、テトラプロピルアンモニウムフロミド8.60 g
、水酸化ナトリウム(純正化学■95%純度)を水41
6.6gに溶解したものをC液とした。
B液にA液及びC液を撹拌しながら添加し、生成したゲ
ルをその後30分間撹拌処理した。次に、30分間放置
、冷却後、2!オートクレーブに仕込み撹拌下、1.5
時間で室温から156°Cに上げたのち、次いで3時間
10分で216°Cまて定速昇温を行なった。冷却後、
スラリーをろ過し、水洗後、温水で更に十分洗浄してニ
ッケル含有アルミノソリケート粉末79.3 gを得た
。ろ過性は極めて良好であり、オートクレーフ内壁↓二
付着:よ殆んど認められなかった。合成後のSiO□、
’ap2o3比は52、SiO□/N10□比は29で
あり、仕込み比(SiO□/1203 =55、SiO
□/Ni0z = 28 )と−致した。更に、X線回
折では、純水なZSMO類似のパターンを呈し、また、
NiOに由来するピークは検出されなかった。
ルをその後30分間撹拌処理した。次に、30分間放置
、冷却後、2!オートクレーブに仕込み撹拌下、1.5
時間で室温から156°Cに上げたのち、次いで3時間
10分で216°Cまて定速昇温を行なった。冷却後、
スラリーをろ過し、水洗後、温水で更に十分洗浄してニ
ッケル含有アルミノソリケート粉末79.3 gを得た
。ろ過性は極めて良好であり、オートクレーフ内壁↓二
付着:よ殆んど認められなかった。合成後のSiO□、
’ap2o3比は52、SiO□/N10□比は29で
あり、仕込み比(SiO□/1203 =55、SiO
□/Ni0z = 28 )と−致した。更に、X線回
折では、純水なZSMO類似のパターンを呈し、また、
NiOに由来するピークは検出されなかった。
得られたニッケル含有アルミノシリケートは、1.25
M濃度の硝酸アンモニウムを用いて、固液比1/10
(g/ mj2)、100°012時間回折法でイオン
交換処理を行なった。この処理を後2回繰り返した。イ
オン交換処理後、温水で洗浄し、120°Cにて一昼夜
乾燥した。次に空気流通下540°Cで5時間焼成した
。得られたH型ニッケル含有アルミノシリケートのSi
O□/Affiz03比は52.5iOz/Ni0z比
は38であった。これを打錠成型し、10〜20メツシ
ユにそろえて触媒として反応に供した。
M濃度の硝酸アンモニウムを用いて、固液比1/10
(g/ mj2)、100°012時間回折法でイオン
交換処理を行なった。この処理を後2回繰り返した。イ
オン交換処理後、温水で洗浄し、120°Cにて一昼夜
乾燥した。次に空気流通下540°Cで5時間焼成した
。得られたH型ニッケル含有アルミノシリケートのSi
O□/Affiz03比は52.5iOz/Ni0z比
は38であった。これを打錠成型し、10〜20メツシ
ユにそろえて触媒として反応に供した。
内径20ミリのガラス製反応管に上記触媒2.56gを
入れ、水素電流下400°Cに保った。反応は、常圧下
、水素流量3.61 /hr、原料流量6g/hrで、
8時間行なった。原料としては、クロマト分離で2.6
−ジメチルナフタレンの濃度が全ジメチルナフタレン異
性体中2.8%にまでKBられたジメチルナフタレン異
性体混合物を使用した。
入れ、水素電流下400°Cに保った。反応は、常圧下
、水素流量3.61 /hr、原料流量6g/hrで、
8時間行なった。原料としては、クロマト分離で2.6
−ジメチルナフタレンの濃度が全ジメチルナフタレン異
性体中2.8%にまでKBられたジメチルナフタレン異
性体混合物を使用した。
反応開始1時間後の全ジメチルナフタレン異性体中の2
.6−ジメチルナフタレン濃度を初期活性値としたとき
、これに対する8時間後の活性値への減少率は9.1%
であった。また、このときの副生ガスの組成を第2表に
示す。更に、反応後触媒上に蓄積したコーク量−を測定
したところ、触媒量に対して0.9%であった。
.6−ジメチルナフタレン濃度を初期活性値としたとき
、これに対する8時間後の活性値への減少率は9.1%
であった。また、このときの副生ガスの組成を第2表に
示す。更に、反応後触媒上に蓄積したコーク量−を測定
したところ、触媒量に対して0.9%であった。
比較例1
実施例1において硫酸ニッケルを用いない以外は全く同
様の方法で合成した。このときの仕込み比はSiO□/
AN□03比55、生成物のそれは50であった。X線
回折では、純水なZSM−5のパターンを示した。次に
、該合成品をイオン交換処理、及び反応を実施例1と全
(同様に行った。
様の方法で合成した。このときの仕込み比はSiO□/
AN□03比55、生成物のそれは50であった。X線
回折では、純水なZSM−5のパターンを示した。次に
、該合成品をイオン交換処理、及び反応を実施例1と全
(同様に行った。
反応開始1時間後の全ジメチルナフタレン異性体中の2
.6−ジメチルナフタレン濃度を初期活性値としたとき
、これに対する8時間後の活性値への減少率は19.5
%であった。また、このときの副生ガスの総量は実施例
1と同様であり、また、その組成は第2表の通りである
。
.6−ジメチルナフタレン濃度を初期活性値としたとき
、これに対する8時間後の活性値への減少率は19.5
%であった。また、このときの副生ガスの総量は実施例
1と同様であり、また、その組成は第2表の通りである
。
更に、触媒上に蓄積したコーク量を測定したところ、触
媒量に対して2.5%であった。
媒量に対して2.5%であった。
実施例2
Na型ZSN−5(日本モービルキャタリスト社製、S
iO□/A l 、03モル比70)33gを硝酸アン
モニウム52.8 gと硝酸ニッケル6水塩96.Og
を11に溶解した水溶液330mjl!と共に四ツロ丸
底フラスコに入れ、100°Cで2時間撹拌しながらイ
オン交換処理。このイオン交換処理を、あと2回行った
。
iO□/A l 、03モル比70)33gを硝酸アン
モニウム52.8 gと硝酸ニッケル6水塩96.Og
を11に溶解した水溶液330mjl!と共に四ツロ丸
底フラスコに入れ、100°Cで2時間撹拌しながらイ
オン交換処理。このイオン交換処理を、あと2回行った
。
次いで、温水で洗浄し、120°Cで一昼夜乾燥させた
後、空気流通下540°Cにて5時間焼成してニッケル
含有H型ZSM−5を得た。これを打錠成型し、10〜
20メンシユに破砕して触媒に供じた。内径20ミリの
カラス製反応管乙こ触媒2.24 gを入れ、常圧上水
素流量3.6ff/hr、400°C1原料流量6.0
g 、/hrの条件下に反応を実施!−た。原料とじ
て、実施例1で用いたジメチルナフタレン異性体混合物
を使用した。反応結果を第1表、第2表に示す。
後、空気流通下540°Cにて5時間焼成してニッケル
含有H型ZSM−5を得た。これを打錠成型し、10〜
20メンシユに破砕して触媒に供じた。内径20ミリの
カラス製反応管乙こ触媒2.24 gを入れ、常圧上水
素流量3.6ff/hr、400°C1原料流量6.0
g 、/hrの条件下に反応を実施!−た。原料とじ
て、実施例1で用いたジメチルナフタレン異性体混合物
を使用した。反応結果を第1表、第2表に示す。
比較例2
イオン交換処理において硝酸アンモニウム105.6g
を11の水に溶解した/8液を用いた以外は、実施例2
と全く同様にしてイオン交換および反応を行なった。結
果を第1表、第2表に示す。
を11の水に溶解した/8液を用いた以外は、実施例2
と全く同様にしてイオン交換および反応を行なった。結
果を第1表、第2表に示す。
異性化活性は、Ni含含有梨型23M5 (仕込み時の
Ni/H比0.5 )に比べ活性点であるプロトンが約
2倍存在するにもかかわらず、活性は、初期、10時間
後共に低いことがわかる。
Ni/H比0.5 )に比べ活性点であるプロトンが約
2倍存在するにもかかわらず、活性は、初期、10時間
後共に低いことがわかる。
(効果)
本発明によれば、特定の結晶性ニッケル含有メタロシリ
ケートを触媒として使用するとにより、26−ジメチル
ナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタレン異性体混
合物を長期間に亘り安定的に取得することができる。
ケートを触媒として使用するとにより、26−ジメチル
ナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタレン異性体混
合物を長期間に亘り安定的に取得することができる。
また、反応系から生ずる副生ガス中の反応性の高い低級
オレフィン量が極めて少なく、水素ガス存在下で反応を
行う場合に、その水素ガスを循環使用することが容易で
ある。
オレフィン量が極めて少なく、水素ガス存在下で反応を
行う場合に、その水素ガスを循環使用することが容易で
ある。
以上の点より、工業的利用価値は極めて高い。
Claims (6)
- (1)2,6−ジメチルナフタレンの濃度が熱力学的平
衡濃度よりも小さいジメチルナフタレン異性体混合物を
固体酸触媒の存在下反応させることにより、2,6−ジ
メチルナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタレン異
性体混合物を製造する方法において、 固体酸触媒として、酸化物モル比で下記の一般式M_2
_/_mO:xAl_2O_3:yNiO:zSiO_
2:nH_2O(式中、Mは原子価mを有する少なくと
も1種のアルカリ金属またはアルカリ土類金属を表し、
mは1〜2、xは0〜1、yは0.01〜10、zは2
〜100であり、nは1〜20を表す。)で表される結
晶性ニッケル含有メタロシリケートを用いることを特徴
とする2,6−ジメチルナフタレンの濃度を高めたジメ
チルナフタレン異性体混合物の製造方法。 - (2)結晶性ニッケル含有メタロシリケートが当該メタ
ロシリケートに含有されたニッケルの一部もしくは全て
が四面体的置換位置にあることを特徴とする請求項1記
載の方法。 - (3)結晶性ニッケル含有メタロシリケートがモル比で
z/x≧3であることを特徴とする請求項1記載の方法
。 - (4)結晶性ニッケル含有メタロシリケートがモル比で
z/y≦5000であることを特徴とする請求項1記載
の方法。 - (5)結晶性ニッケル含有メタロシリケート中のニッケ
ルが原子価mを有する少なくとも1種のアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属Mとイオン交換した形態で存在し
ていることを特徴とする請求項1記載の方法。 - (6)結晶性ニッケル含有メタロシリケート中のニッケ
ルが担持状態で存在していることを特徴とする請求項1
記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2232701A JP2767997B2 (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | 2,6―ジメチルナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタレン異性体混合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2232701A JP2767997B2 (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | 2,6―ジメチルナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタレン異性体混合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04112841A true JPH04112841A (ja) | 1992-04-14 |
| JP2767997B2 JP2767997B2 (ja) | 1998-06-25 |
Family
ID=16943421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2232701A Expired - Fee Related JP2767997B2 (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | 2,6―ジメチルナフタレンの濃度を高めたジメチルナフタレン異性体混合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2767997B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001058963A (ja) * | 1999-07-13 | 2001-03-06 | Enichem Spa | 石油化学流からの2,6−ジメチルナフタレンの製造法 |
-
1990
- 1990-09-03 JP JP2232701A patent/JP2767997B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001058963A (ja) * | 1999-07-13 | 2001-03-06 | Enichem Spa | 石油化学流からの2,6−ジメチルナフタレンの製造法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2767997B2 (ja) | 1998-06-25 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |