JPH04113200A - 高圧ガス噴射装置 - Google Patents

高圧ガス噴射装置

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JPH04113200A
JPH04113200A JP2231569A JP23156990A JPH04113200A JP H04113200 A JPH04113200 A JP H04113200A JP 2231569 A JP2231569 A JP 2231569A JP 23156990 A JP23156990 A JP 23156990A JP H04113200 A JPH04113200 A JP H04113200A
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gas
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大河内 禎一
Koichi Tanaka
田中 皓一
Koichiro Kawashima
紘一郎 川嶋
Kouji Fukatsu
深津 鋼次
Yoshihiko Urata
浦田 喜彦
Motoo Morita
森田 素生
Takashi Morita
孝 森田
Hiroshi Takenaka
弘 竹中
Hideaki Sawai
澤井 秀明
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Nagoya Institute of Technology NUC
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Nagoya Institute of Technology NUC
Toho Gas Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、ドライアイスに代表される昇華性物体を飛
翔体とし、この飛翔体を高圧ガスの噴射作用下に高速で
飛翔させるようにした高速飛翔体発射システムに好適に
使用される高圧ガス噴射装置に関するものである。
従来技術 銃器、大砲等から発射される弾丸や砲弾その他ロケット
等の如く、空間を高速で飛翔する物体を一般に「高速飛
翔体」と称することができる。これらの「高速飛翔体」
は、主として軍事目的での使用に重点が置かれている場
合が多いが、当該飛翔体が高速で飛翔して何等かの対象
物体に衝突した際に放出される大きなエネルギーは、こ
れを好適に制御することによって平和利用が充分に可能
である。
そこで、飛翔体を高速飛翔体発射システムに装填し、該
飛翔体を火薬の爆発による反動、高圧ガスの強力な噴射
圧力その他電気的反発力等で高速駆動して所要の対象物
体に衝突させ、これにより該物体の物理的特性等を解析
する試みが既に実験段階で実用化されている。
前記飛翔体を高速飛翔させるための高速飛翔体発射シス
テムにおいて、その駆動源の媒体に高圧ガスを使用する
場合は、密閉空間中に必要量のガスを極めて高い圧力状
態に保持したまま暫時貯留し、飛翔体の発射時期にその
高圧ガスを、−挙に解放して飛翔体の発射部位に噴出さ
せ、その噴射圧力の全エネルギーを、飛翔体に有効に作
用させる必要がある。
発明が解決しようとする課題 前述のように、密閉空間中に貯留した高圧ガスを一挙に
噴出させるに際して、開閉手段を使用した場合には、該
開閉手段を極めて短時間で開放作動させて、ガスの通孔
を一気に全開させる必要がある。しかるに開閉手段は、
その弁体が常にガス圧を受ける状態にあるため、密閉空
間中のガス圧力が高くなる程、その圧力影響により開放
が困難となる。このため、毎回の高圧ガス噴出時におい
て、開閉手段は設定通りに操作されるとしても、弁体が
瞬時にして正確に開放されないことがあり、その開放状
態にタイムラグが不可避的に存在する。
このように弁体の開放において、タイムラグが存在する
と、ミクロ的に観察すれば、密閉空間中の高圧ガスが、
時間的な経過を伴って徐々に通孔から噴出されて、その
エネルギーを低下することになる。従って、折角の高い
エネルギーを飛翔体の発射に集中的に利用することがで
きない欠点が指摘される。
また、前述した高圧ガスの噴射時において、開閉手段は
、ガスの大きな圧力を受けて急激に強制移動される。こ
の衝撃反動を吸収緩和する対策として、開閉手段にばね
等の緩衝部材を付設することが提案される。しかし、こ
の場合に開閉手段を操作するには、緩衝部材に充分対抗
し得るだけの大きな開放操作力が必要とされる。殊に、
緩衝部材の緩衝力を大きくすれば、それに対応して大型
の開放操作手段を使用しなければならない。
ところで今回発明者等は、金属製の飛翔体の使用に代え
て、炭酸ガスを固化させたドライアイスに代表される昇
華性物体を飛翔体とする新たな発想に係る高速飛翔体発
射システムにつき提案並びに開発を行ない、該発射シス
テムにつき特許出願を行なった。この発射システムは、
昇華性の飛翔体を高圧ガスの噴射作用下に高速で飛翔さ
せ、これを対象物体に肘当てることにより、所要の物理
的仕事を達成させることを内容としているものである。
この場合、高速飛翔体発射システムに装填される飛翔体
は、先に述べた如く昇華性でしかも極低温であるために
、従来の金属製飛翔体をガス噴射作用下に発射させる公
知の高圧ガス噴射装置は、そのままでは側底実用に供し
得ない。また、昇華性の飛翔体をガス噴射作用で発射さ
せる場合も、先に述べた高圧ガスを一挙に瞬時解放して
、ガスの保有する高いエネルギーの全てを飛翔体の発射
に有効利用することの要請は、更に大きいものと云わな
ければならない。
発明の目的 この発明は、前述した昇華性飛翔体を高速で発射するシ
ステムに使用される高圧ガス噴射装置において、密閉空
間中に貯留した高圧ガスの解放噴射制御をなす開閉手段
を、僅かな設定範囲だけ開操作して、ガスの通孔を必要
最少量だけ開放させ、この通孔から噴入した高圧ガスの
圧力を利用して通孔を瞬時に全開させて、密閉空間中の
全高圧ガスを一気に解放噴射させ、その高いエネルギー
を飛翔体の発射に有効に作用させ得ると共に、高圧ガス
の噴射時において開閉手段に作用する衝撃力を好適に吸
収緩和し得る新規なガス噴射装置を提供することを目的
とする。
課題を解決するための手段 前記課題を克服し、所期の目的を好適に達成するため本
発明は、飛翔体用装填装置内の発射位置に装填されたド
ライアイス等の昇華性物体からなる飛翔体を、高圧ガス
の噴射圧力により発射筒を介して高速で飛翔させ、該飛
翔体を何等の対象物に衝突させて所定の物理的作業をな
す高速飛翔体発射システムに使用する高圧ガス噴射装置
であって。
該噴射装置の主体を構成するガス貯留噴射部と、該ガス
貯留噴射部後方に設置されてガスの噴射時における衝撃
反動を吸収緩和する緩衝部と、該緩衝部後方に設置され
た開放操作部と、該開放操作部に適宜連繋されて、前記
ガス貯留噴射部内のピストン弁および前記緩衝部内の緩
衝弁を所定位置に連結した移動操作部材とを備え、 前記ガス貯留噴射部においては、 本体内に画成されて外部から充填される高圧ガスを昇圧
状態で一時的に貯留する環状ガス昇圧貯留室と、 前記環状ガス昇圧貯留室とは区画して形成されて、前記
発射筒と飛翔体用装填装置を介して同軸的に連通ずるガ
ス噴射路と、 前記環状ガス昇圧貯留室の同一円周上において、半径方
向に穿設されて該昇圧貯留室と前記ガス噴射路とを連通
ずる複数のガス導入孔と、前記ガス噴射路に軸方向への
進退自在に密に嵌挿されて、前記複数のガス導入孔を同
時的に開閉する前記ピストン弁とを有し、 前記緩衝部においては、 本体内に画成されて、軸方向に大径室部および小径室部
を形成し、所定量の流体を充填した緩衝室と、 前記緩衝室の大径室部と小径室部とを連絡する流体用の
バイパス路と、 前記緩衝室内に移動可能に嵌挿され、大径室部内に対し
ては適宜余裕をもって挿入し、小径室部に対しては密に
嵌合する前記緩衝弁と、前記バイパス路内に対して着脱
交換可能に挿入されて、バイパス路における流体流通用
の開口断面の広さを変更調整可能とした流体調整部材と
を有し、 前記開放操作部においては、 可動部材の移動ストロークを、前記ピストン弁の開閉ス
トロークに合せて、該可動部材を瞬時に可動し得るよう
に設定した駆動手段と、前記駆動手段の可動部材に連繋
されて、前記緩衝部の本体側に向けて延出した操作部材
とを有し、前記移動操作部材は、前記緩衝部の本体内の
軸中心部および前記ガス貯留噴射部のガス噴射路内に亘
り移動自在に挿通支持されて、前記緩衝部の本体外部に
延出した後端部を、前記開放操作部における操作部材に
対して係脱可能に連繋し、前端部に前記ピストン弁を連
結し、略中央部に前記緩衝弁を配設したことを特徴とす
る6 実施例 次に、本発明に係る高圧ガス噴射装置につき。
好適な実施例を挙げて、添付図面を参照しながら以下説
明する。なお、本願に係る高圧ガス噴射装置の理解を容
易にするため、該高圧ガス噴射装置が実施される高速飛
翔体発射システムの概略構成について簡単に説明する6 (高速飛翔体発射システムについて) 高速飛翔体発射システムは、昇華性飛翔体を使用して、
各種試料に対する破壊試験や衝撃試験等を行なうための
一連の発射系であって、第14図に全体を略伝する。す
なわち、第14図で右から順に、本実施例に係る高圧ガ
ス噴射装置、昇華性飛翔体の装填装Who、左右水平に
延出する発射筒82、該発射@82の前方において、各
種の試料等を収納する試料収納機83および飛翔体が試
料に衝突した際の強大な衝撃を吸収緩和する衝撃吸収機
84から基本的に構成されている。
そして、衝撃吸収機84内の脱気装置(図示せず)の運
転により、発射筒82および装填装W80に至る飛翔路
内全体を脱気して、飛翔体の飛翔に適した負圧状態に保
持する。このもとで、飛翔体を装填装置80内に装填し
た後1本実施例に係る高圧ガス噴射装置から一挙に噴射
される高圧ガスを飛翔体に作用させ、その噴射圧力によ
り飛翔体を、発射筒82内に高速瞬時に飛翔させ、試料
収納機83内の試料(図示せず)に衝突させて所定の試
験または加工を行なうものである。
なお、前記昇華性飛翔体としては、炭酸ガスを円柱形に
固化させてなるドライアイスが好適に使用される。これ
は、例えば液化天然ガス(LNG)を常温のガスに還元
する際に放出される多量の極低温の冷熱により1石油化
学工業やアンモニア工業で副次生産される炭酸ガスを冷
却固化して低廉かつ大量にドライアイスを製造できるか
らである。
(高圧ガス噴射装置について) 前記昇華性飛翔体の装填装[80に連結される高圧ガス
噴射装置は、第1図に示す如く、装置の主体となるガス
貯留噴射部Aと、このガス貯留噴射部Aの後方に設置さ
れた緩衝部Bと、この緩衝部Bの後方に設置された開放
操作部Cとから基本的に構成される。そして、開放操作
部Cに適宜連繋される1本の移動操作杆50に、ガス貯
留噴射部A内に摺動自在に配設されて高圧ガスの噴射と
遮断とを行なうピストン弁54が配設されると共に、緩
衝部B内に摺動自在に配設されて高圧ガスの噴射時に発
生する衝撃を緩和するべく機能する緩衝弁57が連結さ
れている。
(ガス貯留噴射部について) ガス貯留噴射部Aは、第1図に示す如く、外部から圧入
される高圧ガスを、昇圧貯留して飛翔体の発射時に噴射
するものであって、その主体となる本体10が、横向き
定置型の密閉ドラム形ケーシングとして構成されている
。すなわち、具体的には図示の如く、側面から見て大径
をなすハウジング(外1)11と、ハウジング11内に
位置する小径の噴射WJ(内筒)12と、ハウジング1
1および噴射筒12の左右に位置する一対の着盤13L
13Rとが、適宜の気密保持手段および固定手段により
、相互に密封状態で固定されている。そして、ハウジン
グ11の内面周と噴射筒12の外面面との間に、左右の
着盤13L、13Rで密閉された環状空間が画成され、
該空間が高圧ガスの昇圧貯留室20として機能する。な
お、ハウジング11は1本体10の固定台としても機能
する。
前記噴射筒12は、第2図に示す如く、その左筒部12
aを、左着盤13Lの左外部に延出して前記飛翔体の装
填装置80側における連通筒81の右端部と密封連結し
、右筒部12bを、右着盤13Rの右外部に延出して緩
衝部Bの本体30の左端部と密封連結している。また、
左右の蓋盤13L、13Rは、ハウジング11の左右開
口端面に適合する同一の円盤形に設定され、その中心部
に、噴射筒12の左筒部12aおよび右筒部12bを夫
々密に嵌挿し得る同一円形の孔14゜14が穿設され、
両孔14.14は互いに軸中心線に整列している。
前記本体1oにおいては、噴射筒12が高圧ガスの噴射
ノズル部分に相当する。このため、該噴射筒12の内孔
全長に亘り、両端開口した耐食性・耐圧性等に富む金属
製のシリンダライナ15が密着嵌挿され、その内孔を高
圧ガスの噴射路16とし、後述のピストン弁54を密に
嵌挿している。
第5図および第6図に示す如く、前記噴射筒12および
シリンダライナ15の軸方向中央部には、その周方向に
所定間隔で複数のガス導入孔17が穿設され、これらガ
ス導入孔17は半径方向に延在して前記昇圧貯留室20
と噴射路16とを空間的に連通している。なおガス導入
孔17は、高圧ガスの円滑な瞬時流入を図るため、その
開口断面を噴射筒12の軸方向に沿った長円形に設定さ
れている。また、噴射筒12の外周面に形成された傾斜
状の凹部18が、ガス導入孔17の入口とされ、シリン
ダライナ15の内周面に形成された傾斜状の凹部19が
、ガス導入孔17の出口とされる。
前記昇圧貯留室20に高圧ガスを圧入する充填手段につ
いては、第2図に略伝する如く、右着盤13Rの所定部
位に開通した孔21に圧入管22が挿入され、この圧入
管22が昇圧器23を介してガス供給部24に連通され
ている。また、噴射路16内のガスを外部に抜いて圧力
解除する圧抜き手段として、噴射筒12の左筒部12a
に半径方向に開通した孔25にガス抜き管26が挿入さ
れ、このガス抜き管26の外部に、開閉状態を切換えセ
ットし得る安全#27が取着されている。
なお、前記飛翔体の高速駆動媒体とされる高圧ガスにつ
いては、不活性ガス、殊に窒素ガスとするのが好適であ
る。
(緩衝部について) 前記緩衝部Bは、前記ガス貯留噴射部Aでの高圧ガス噴
射時における後述のピストン弁54の反動衝撃を吸収緩
和するものであって、その主体となる本体30は、第1
図に示す如く、横向きの密閉ドラム形ケーシングとして
構成されている。すなわち、具体的には図示の如く、側
面から見て円筒形をなすハウジング31と、このハウジ
ング31の左右開口端面を夫々被蓋する円形の着盤32
L、32Rとが、適宜の気密保持手段および固定手段に
より、相互に密封状態で固定されている。
そして、左右の着盤32L、32Rにより密閉されたハ
ウジング31の内部に円孔空間が画成され、該空間が後
述の緩衝弁57を移動自在に嵌挿する緩衝室38として
機能する。
なお、左右の着盤32L、32Rは、互いに同一の外径
に設定されると共に、その中心部に後述の移動操作杆5
0を挿通する同一内径の軸孔33゜33が穿設されて、
両軸孔33,33を軸中心線上に整列している。
前記本体30は、ガス貯留噴射部Aの本体10に対して
、噴射筒12および左着盤32Lの双方に形成された嵌
合連結手段を介して着脱可能に連結されている。すなわ
ち、第1図および第10図に示す如く、噴射筒12の右
筒部12bに嵌挿孔34が穿設され、この嵌挿孔34の
開口端側の内周面に、周方向に所定間隔で半径方向内方
に突出する複数の係合突起35が形成されている。また
、左着盤32Lには、噴射筒12を指向する端面に嵌挿
孔34に嵌挿可能な筒部36が突設され、この筒部36
の軸端側の外周面に1周方向に所定間隔で半径方向外方
に突出する複数の係合突起37が形成されている。従っ
て、係合突起35.37を相互に干渉しない嵌合い位置
で噴射筒12と左着盤32Lとを対向させ、筒部36を
嵌挿孔34に嵌入した後、該左着盤32L(本体30)
を円周方向に所要角度回動することにより、係合突起3
5゜37が相互に前後位置(軸方向の左右位W)で係合
する。
この状態において、第2図に示す如く、噴射筒12に左
着盤32Lが連結されて、筒部36前端の小径筒部を、
シリンダライナ15の噴射路16の後端内に密嵌してい
る。なお、前記面係合突起35.37は、円周方向へ所
定角度に形成された円弧形状とされ、共に同一複数個ず
つ配設されている。
前記本体30の緩衝室38は、後述の緩衝弁57の動き
(移動速度)を好適に制御するための形状に形成されて
、所要の流体が充填されている。
具体的には第4図(b)に示す如く、ハウジング31内
において、緩衝室38の前方(図で左方)に位置して緩
衝弁57の外径より適宜大きい内径に設定した第1室3
8aと、緩衝室38の中央から後方(図で右方)に位置
して緩衝弁57の外径と略同−内径に設定した第2室3
8bとが、テーパ室38cを介して連絡されている。こ
の緩衝室38に充填される流体は、緩衝弁57の動き(
移動速度)を好適に制御するための媒体として、例えば
適当な活性度を容易に選定することができるシリコンオ
イルが好適に使用し得る。ただし、この流体の充填量は
、流体の温度膨張等を考慮して、室内の満杯量でないこ
とを前提とする。
前記ハウジング31には、緩衝室38の第1室38aと
第2室38bとに連通ずるバイパス路39が穿設されて
いる。そしてこのバイパス路39を介して前記緩衝弁5
7により区画される第1室38aと第2室38bの間を
、緩衝弁57の移動に伴って流体が流動するようになっ
ている。
前記バイパス路39は、流体充填状態に鑑みて。
流体の効果的な流動を図り得るよう、緩衝室38の下部
に形成されている。すなわち、具体的には第4図(b)
に示す如く、ハウジング31下部の半径方向に夫々穿設
されて、第1室38aと第2室38bとに対して、個々
に連通しだ円孔形の第1流路39aおよび第2流路39
bと、ハウジング31の軸方向に穿設されて、双方の流
路39a。
39bに連通しだ円孔形の本流路39cとから構成され
ている。そして、緩衝弁57の変動過程において、第1
室38a内と第2室38b内に亘り、流体の往復的な流
動を可能にしている。
このバイパス路39は、全流路が所要とする一定の開口
断面であれば、流体の流動を図る本来の機能を充分に果
し得る。この前提において、流路の開口断面を調整可能
とすることにより、流体をより効果的に流動調整して、
緩衝弁57の変動を好適に緩和制御することが可能とな
る。そこで。
その具体的な調整手段として、第4図(b)に示す如く
、本流路39cに流量調整部材40が着脱交換自在に挿
入されている。なお、本流路39cは、第1流路39a
および第2流路39bに比較して、その円形開口断面を
適宜大きく設定した場合を図示する。
前記流量調整部材40は、本流路39cの路長および円
形開口断面に見合った所定の軸長および一定直径(太さ
)に設定された調整杆41の外端に、摘み42を固定し
ている。そして、第11図に示す如く、本体30の有蓋
盤32Rの下部に形成されたU字形の着脱操作口49か
ら挿入セットされた状態(第4図(b)参照)において
、調整杆41が本流路39c内に挿通支持されると共に
、摘み42がハウジング31の右端に固定されて着脱操
作口49内に位置している。
前記調整杆41と摘み42とは、第4図(b)および第
13図に示す如く、ねし軸43とねじ孔44を介して連
結される。また、摘み42と有蓋盤32Rとは、ねじ筒
45とねじ孔46を介して固定されるようになっている
。なお、調整杆41の摘み42が配設される端部とは反
対の端部に小径の軸部47が突設され、この軸部47を
1本流路39cの延長線前方に形成した軸受孔48に嵌
挿した状態で摘み42と有蓋盤32Rとを固定すること
により、調整杆41は本流路39cと平行に延在す己よ
う設定されている。
このように構成された流量調整部材40は、本流路39
cの路長および円形開口断面を基準にして、所要の形状
およびサイズに選定された各種のものが選択交換して使
用可能である。例えば、調整杆41について、直径が大
小変更されたものや、軸方向に小径部および大径部を形
成して全体が多段軸形状とされたもの等が好適に選択使
用できる。
すなわち、本流路39cの開口断面を可変したり。
流路に凹凸を設けることにより、本流路39cを流動す
る流体の流動抵抗を可変し、これにより高圧ガス噴射時
の衝撃力に応じて緩衝弁57を緩和制御し得るものであ
る。
(移動操作杆について) 前記ガス貯留噴射部Aの噴射路16内に移動可能に密嵌
されたピストン弁54と、緩衝部Bの緩衝室38内に移
動可能に嵌挿された緩衝弁57は、第2図〜第4図に示
す如く、1本の移動操作杆50の所定部位に位置決め固
定されて、互いには連動関係にある。移動操作杆50は
、図示の如く、緩衝部Bにおける本体30の両着盤32
R,32Lにおける軸孔33.33間に、適宜気密保持
手段を介して水平に横道支持されて、左着盤32Lから
延出しだ前端部を、噴射路16内の軸中心後方に挿入し
ている。そして、有蓋盤32Rから延出した後端部が、
後述する開放操作部Cにおける操作部材68に係脱可能
に連繋されている。
(ピストン弁について) 前記ピストン弁54は、第4図(a)および第6図に示
す如く、高圧ガスの噴射路16内に密嵌して全てのガス
導入孔17を一斉に開閉し得る直円柱形に形成されて、
移動操作杆50の前端に突設された小径の支持軸部51
に嵌挿されている。そして、支持軸部51萌端に延出さ
れたねじ軸部51aに、ピストン弁54内に嵌挿した筒
状のナツト56を締付けて位置決め固定されている。し
かも、このピストン弁54は、図示の如く、その前端外
周(図示左端)にテーパ状の導入案内部54aを形成し
て、高圧ガスの噴射路16内への瞬時導入を図り得るよ
うにしている。また、ピストン弁54には軸方向に貫通
する複数のガス抜き孔55が穿設され、噴射路16内に
噴射された高圧ガスからの受圧力の軽減化を図り得るよ
う構成されている。なお、ピストン弁54の外周には、
噴射路16内との気密性を保持するための適宜気密保持
手段が付設されている。
(緩衝弁について) 前記緩衝弁57は、第4図(b)および第7図に示す如
く、前記緩衝室38の第1室38a内には適宜余裕をも
って嵌挿し、第2室38b内には密嵌し得る円環形に形
成されて、その軸孔58を介して前記移動操作杆50の
軸方向中央よりやや右寄り位置に密嵌されている。そし
て、移動操作杆50に嵌合された左右一対をなす両側の
係合盤59.59により、位置決め固定されている。な
お、緩衝弁57の外周および軸孔58内周には、適宜の
気密保持手段が付設されている。また、左右の係合盤5
9は、第7図に示す如く、何れも上下に分割可能な一対
の割型から構成され、移動操作杆50の外周に凹刻され
た対応の環状係合溝52に嵌着された状態で連結されて
、位置決め固定される。
ただし、左係合盤59は、移動操作杆50を開放操作前
位置に位置決めセットする場合において、位置決め部材
としても機能する。すなわち、第2図に示す如く、この
左係合盤59が左着盤32Lの内端面に当接した位置を
、操作杆5o自体のセット位置として、簡単かつ正確に
設定できる。
(開放操作部について) 前記開放操作部Cは、前記移動操作杆50を操作するも
のであって、第1図に示す如く、緩衝部Bに対して水平
に連結固定された略筒形の支持部材60と、該支持部材
60の後端に設置された駆動シリンダ66と、この駆動
シリンダ66に適宜連繋された一対の操作部材68とを
備えている。
先ず、支持部材60は、基本的には円筒形をなして両側
周面に窓口62を開口した筒部61の左右両端外部に、
側面から見て正方形のフランジ部63L、63Rが連結
されている。そして、左フランジ部63Lが、緩衝部B
の本体30における有蓋盤32Rの外面に、適宜の固定
手段により位置決め固定されている。なお、左フランジ
部63Lの下辺中央部には、第11図および第12図に
示す如く、前記流斌調整部材40の着脱操作を容易にす
るための逃し口64が形成されて、着脱操作口49に整
合している。
前記駆動シリンダ66は、支持部材60の右フランジ部
63Rに、適宜の固定手段により固定されて水平保持さ
れて、そのロッド67の前端を右フランジ部63Rの孔
65から支持部材60内に挿入している。そして、設定
された一定の往復ストローク(第;3図に符号Sで示す
ストローク)をもって、ロット67を往復移動し得るよ
うになっている。なお、シリンダ66は、複動式油圧タ
イプを例とし、その全体を第14図に略伝する。
−・対の操作部材68.68は、駆動シリンダ66のロ
ット67前端にナツト70で固定された支持体(59の
上下に1片持ち状態で連結されて、支持部材60内の前
方(図示左方)へ水平に延出されている7操作部材68
の前端(移動操作杆50を指向する端部ンには、対向す
る操作部材68に向けて突出するフック部71が形成さ
れ、両フック部71゜”71が、移動操作杆50の後端
に着脱可能に配設7だ係合盤53に係脱可能に係合して
いる。なおフック部71は、駆動シリンダ66の復動(
ロット67をシリンダ内に引き込む方向に付勢)した際
にのみ係合盤53に係合して、該係合盤53を後退させ
るよう設定さ九る6 (実施例の作用) 次に、本実施例に係る高圧ガス噴射装置の作用につき説
明する。先ず、高圧ガスを充填する場合は、装置全体が
第2図に示す状態に保持され、ピストン弁54が、全て
のカス導入孔17を密閉した位置P□状態において、ガ
ス供給部24を開放操作する。これにより、該供給部2
4からの高圧ガスは、昇圧器23および圧入管22を介
して本体10の昇圧貯留室20内に圧入される4そして
昇圧貯留室20内に、充分高い圧力をもって大意のガス
が貯留されて、所要の圧力充填がなされる。
なお、ガスの充填時には、安全弁27を開放状態にセッ
トして、噴射路16内の圧力を解放し得るようにしてお
く。そして、ガスの噴射直前時には、安全弁27を元の
閉鎖状態に戻す。
前述のように、昇圧剤留室20内における高圧ガスの圧
力充填が完了した時点で、カスの噴射が可能とされる。
そこで1.・fス噴射操作として、開放操作部Cの駆動
シリンダ66を復動(ロット67をシリンダ内に引き込
む方向に付勢する)すると、ロッド67が所定の移動ス
トロークSだけ、瞬時に後退しC゛一対の操作部材68
,68を牽引する。
二のとき両操作部材68.68に形成したノック部’7
 ’、 、 7 Lに、係合盤53を介して係合する移
′動操作杆50が瞬時に牽引され、前記ピストン弁54
および緩衝弁57が、第3図に示す状態に移動変位する
すなわち、移動操作杆50の移動によってピストン弁5
4は、第4図(a)に示す如く、閉鎖位置P1からスト
ロークSだけ後退変位して、予め設定された開放始点位
置P2に保持され、その前端の導入案内部54aを、シ
リンダライナ15の凹部19と整合して、全てのガス導
入孔17を僅かに開放する。一方、緩衝弁57は、第4
図(b)に示す如く、緩衝室38の第1室部38aがら
テーパ室部38cに瞬時に後退変位して、その一部(図
示右端部)を第2室部38bの入口に密嵌し始める。
このようにピストン弁54が前記開放始点位置P2に保
持された時点において、全てのガス導入孔17と噴射路
16とが、凹部19を介して連通されることになる。こ
れによって、昇圧貯留室2゜内に貯留されている高圧ガ
スの一部が、全てのガス導入孔L7から凹部19を介し
て噴射路16内に一瞬にして流入する。これと同時に、
該噴射路16内に流入した高圧ガスの圧力が、ピストン
弁54の前端面に作用する。なお、この際高圧ガスの一
部が、ピストン弁54の各カス抜き孔5S内を流通して
噴射路16の後方内に流入することになり、ピストン弁
54に作用するガス圧が適当に軽減される。
前述のように、噴射路16内に流入した高圧ガスが、そ
の圧力をピストン弁54に作用する結果、該ピストン弁
54.緩衝弁57および移動操作杆50が同時に後退し
て、第5図に示す状態に変化する。すなわち、開放始点
位置P2のピストン弁54は、噴射路16内の後端に変
位し、緩衝弁57は、緩衝室38の第2室部38b内の
後端に変位する。なお移動操作杆5oは、その後端を開
放操作部Cの支持部材60内に延出して、操作部材68
.68との係合が解除された位置に変位している。
前記ピストン弁54の後退によって、昇圧貯留室20内
の高圧ガスが噴射路16内に瞬時に流入する。すなわち
、ピストン弁54は、開放始点位置P、から瞬時に後退
して、導入案内部54aを凹部19の後側(右側)に移
行した時点で、全てのガス導入孔17を一斉に全開する
。このため、昇圧貯留室20からの入電の高圧ガスが、
ガス導入孔17を介して噴射路上6内に、瞬時にして一
気に流入する。これと同時に、この入量の高圧ガスは、
噴射路16内から前記高速飛翔体発射システムにおける
装填装置80に向けて一挙に噴射されて。
その大きな圧力(エネルギー)を装填部内の飛翔体に直
接作用する。
この結果、高速飛翔体発射システムにおいて、飛翔体は
、発射筒82内を高速瞬時に飛翔して試料収納機83内
に突入し、被加工材料(試料)に対して、大きな衝撃エ
ネルギーをもって衝突し、例えば破壊や瞬間的な剪断力
を利用した打抜きその他種々物理的な仕事を効果的に行
ない得るものである。なお、発射システムでは、高速の
飛翔体を試料に衝突させて物理的特性等を解析する試験
に応用した場合につき説明したが、これ番−限定される
ものでなく、各種の分野に応用される。
前述したように、昇圧貯留室20内かν〕の大赦の高圧
ガスが、噴射路上6内に流入して装填装置80内に噴射
する瞬間状態おいて、ピストン弁54は、高圧ガスから
の相当大きな圧力を受けるために、開放始点位if P
 2から全開位置P、までの間を、急激に変位すること
になる。このピストン弁54の1!7撃反動については
、緩衝部Bおいて、適正に緩衝し得る。
すなわち、ピストン弁54の変位と、緩衝弁57の変位
とを、第4図(a)、(b)に対比して示す如く、ピス
トン弁54が開放始点位置P2から全回位[P 3そし
て後端位置に一連に変位するごとに対して、緩衝弁57
は、a両室38のテーバ室38cから第2室部38bの
入口部内に移行し5、密嵌状態を維持したまま、中央部
位そして後端部位に一連に変位する。そして、この緩衝
弁57の変位過程において、緩衝室38内の各室部の体
積変化に伴ない、該緩衝室38に充填した流体が流動変
化する。つまり、第2室部38b内の流体は。
緩衝弁57の変動圧力を受けて押し呂され、前記バイパ
ス路39の第2流路39bから流入して、本流路39c
内を迂回し、第1流路39aから第1室部38a内に戻
される。
このように、緩衝弁57が緩衝室38の第2室部38b
内に密嵌状態を維持したまま一連に変位する緩衝動作と
、緩衝室38内の流体が緩衝弁57の変位に伴ない流動
する緩衝流動とによって。
相乗的な緩衝作用が奏されることになり、この相乗緩衝
作用によって、ピストン弁54の衝撃反動に対する優れ
た緩衝効果(ダンパー効果)を発揮し得るものである。
殊に、この緩衝作用効果ついては、本流路39c内に挿
入セットされている流量調整部材40の選定によって、
更に助長できる。すなわち、流量調整部材4oは、その
直径および形状の変更された種々のものを適宜選択して
、交換セットすることができる。従って、流量調整部材
40の選択交換によって、本流路39cの開口断面や流
路形状を所要条件に変更して、流体の流動状態を適正に
変化(流動抵抗を変化させる)させ得、これに伴なう緩
衝作用を更に有効にして、より一層優れた緩衝効果を発
揮することができるものである。
なお、本実施例に係る高圧ガス噴射装置では、高圧ガス
の噴射以後において第5図に示す状態のままとされる。
従って、次回の高圧ガスの圧入充填および噴射のために
、第2図に示す状態にリセットするに際しては、先ず、
開放操作部Cの駆動シリンダ66を往動操作(ロッド6
7をシリンダから延出させる)して、そのロッド67を
元位置に復帰させることにより、操作部材68を元の係
合位置に戻す。次に、移動操作杆50を図示左方へ操作
して、移動不能位置、つまり外部からは見えないが、緩
衝弁57の左係合盤59が、本体30の前側内端面に当
接した位置まで押し込む。これにより、該操作杆50が
元の移動開始位置に正確に挿入セットされ、また、ピス
トン弁54および緩衝弁57が、夫々所定位置にセット
される。なお、移動操作杆50の押し戻しにおいて、前
記支持部材60の窓口62が、操作口として利用される
発明の詳細 な説明した如く、本発明に係る高圧カス噴射装置は、高
速飛翔体発射システムにおける飛翔体用ガス噴射部とし
て好適に使用されるものであり、ガス噴射部内に貯留さ
れた大量の高圧ガスを、瞬間的に一気に噴射させること
ができる。すなわち、ガス噴射部の噴射路内に密嵌され
た開閉弁を、開放始点位置まで僅かに開放するだけで、
昇圧貯留室内の高圧ガスの一部が噴射路内に流入し、そ
の圧力で開閉弁を瞬時にして強制的に押動させる。
これにより、該開閉弁が極めて短時間で全開位置に変位
され、この瞬間に大量の高圧ガスが、噴射路内に一挙に
流入して飛翔体の装填部側に噴射される。この結果、ガ
スの保有する高圧エネルギーを飛翔体に有効に作用させ
、該飛翔体を、高圧ガスの大きな噴射圧力によって、高
速瞬時に発射させることができる。
しかも、本発明の高圧ガス噴射装置によれば、昇圧貯留
室内からの大量の高圧ガスが、噴射路内に流入して飛翔
体の装填部内に噴射する瞬間状態おいて、開閉弁が、高
圧ガスからの相当大きな圧力を受けて、開放始点位置か
ら全開位置までの間を、急激に変位することについて、
緩衝部において、その開閉弁の衝撃反動を適正に緩衝し
得る。
すなわち、緩衝部においては、開閉弁が開放始点位置か
ら全開位置そして後端位置に一連に変位することに対し
て、緩衝弁が、緩衝室の大径室部から小径室部内に密に
嵌挿し、その密嵌状態を維持したまま、小径室部内の後
端部位に変位する緩衝動作と、この緩衝・弁の変位に伴
ない、緩衝室内の流体が、バイパス路を介して小径室部
から大径室部に流入する緩衝流動とによる、相乗的な緩
衝作用が奏されることとなり、この相乗緩衝作用によっ
て、開閉弁の衝撃反動に対する優れた緩衝効果(ダンパ
ー効果)を発揮し得るものである。
殊に、本発明の高圧ガス噴射装置では、緩衝室に付設し
たバイパス路において、直径や形状の変更された各種の
流量調整部材を、適宜選択して交換可能に挿入セットし
得る。従って、この流量調整部材の選択交換によって、
バイパス路の開口断面や流路形状を所要条件に変更して
、流体の流動状態を適正に設定し得、これに伴なう緩衝
作用を更に有効にして、より一層優れた緩衝効果を発揮
することができるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係る高圧カス噴射装置の好適な実施
例を示す一部省略した分解斜視図、第2図は、噴射装置
の閉鎖位置状態を示す一部破断した正面図、第3図は、
噴射装置の開放開始位置状態を示す一部破断した正面図
、第4図は、第3図の開放開始位置状態を詳細に示す断
面図であって、第4図(a)は、ピストン弁の変位状態
を示し、第4図(b)は、緩衝弁の変位状態を示す、第
5図は、噴射装置全開位置状態を示す一部破断した正面
図、第6図および第7図は、夫々第2図中のVI−VI
線。 ■−■線に基づく側断面図、第8図および第9図は、夫
々第5図中の■−■線および■−■線に基づく側断面図
、第10図、第11図および第12図は、夫々第3図中
のX−X線、XI−XI線および届−XIl線に基づく
側断面図、第13図は、流量調整部材を示す分解斜視図
、第14図は、本実施例に係る噴射装置を使用した高速
飛翔体発射システムの全体を略伝する正面図である。 A・・・ガス貯留噴射部 B・・・緩衝部 10・・・本体 17・・・ガス導入孔 30・・・本体 38a・・・第1室 39・・・バイパス路 54・・・ピストン弁 66・・・駆動シリンダ 68・・・操作部材 8o・・・装填装置 S・・・ストローク C・・・開放操作部 16・・・噴射路 20・・・昇圧貯留室 38・・・緩衝室 38b・・・第2室 40・・・流電調節部材 57・・・緩衝弁 67・・・ロット 50・・・移動操作杆 82・・・発射筒 FIG、4 fat FIG、4 +b) 8C 57・・・緩衝弁 FIG、8 FIG、6 17・・・ガス導入孔 FIG、9 FIG、7 9b 30・・・本体 38・・・!1衝室 38a・・・第1室 38b・・・第2室 50・・・移動操作杆 57・・1責弁 FIG、10 FIG、11 FIG、12 30・・・本体 5o・・・移動操作杆 68・・・操作部材

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 飛翔体用装填装置(80)内の発射位置に装填されたド
    ライアイス等の昇華性物体からなる飛翔体を、高圧ガス
    の噴射圧力により発射筒(82)を介して高速で飛翔さ
    せ、該飛翔体を何等の対象物に衝突させて所定の物理的
    作業をなす高速飛翔体発射システムに使用する高圧ガス
    噴射装置であって、該噴射装置の主体を構成するガス貯
    留噴射部(A)と、該ガス貯留噴射部(A)後方に設置
    されてガスの噴射時における衝撃反動を吸収緩和する緩
    衝部(B)と、該緩衝部(B)後方に設置された開放操
    作部(C)と、該開放操作部(c)に適宜連繋されて、
    前記ガス貯留噴射部(A)内のピストン弁(54)およ
    び前記緩衝部(B)内の緩衝弁(57)を所定位置に連
    結した移動操作部材(50)とを備え、 前記ガス貯留噴射部(A)においては、 本体(10)内に画成されて外部から充填される高圧ガ
    スを昇圧状態で一時的に貯留する環状ガス昇圧貯留室(
    20)と、 前記環状ガス昇圧貯留室(20)とは区画して形成され
    て、前記発射筒(82)と飛翔体用装填装置(80)を
    介して同軸的に連通するガス噴射路(16)と、前記環
    状ガス昇圧貯留室(20)の同一円周上において、半径
    方向に穿設されて該昇圧貯留室(20)と前記ガス噴射
    路(16)とを連通する複数のガス導入孔(17)と、 前記ガス噴射路(16)に軸方向への進退自在に密に嵌
    挿されて、前記複数のガス導入孔(17)を同時的に開
    閉する前記ピストン弁(54)とを有し、前記緩衝部(
    B)においては、 本体(30)内に画成されて、軸方向に大径室部(30
    a)および小径室部(38b)を形成し、所定量の流体
    を充填した緩衝室(38)と、 前記緩衝室(38)の大径室部(38a)と小径室部(
    38b)とを連絡する流体用のバイパス路(39)と、
    前記緩衝室(38)内に移動可能に嵌挿され、大径室部
    (38a)内に対しては適宜余裕をもって挿入し、小径
    室部(38b)に対しては密に嵌合する前記緩衝弁(5
    7)と、 前記バイパス路(39)内に対して着脱交換可能に挿入
    されて、バイパス路(39)における流体流通用の開口
    断面の広さを変更調整可能とした流体調整部材(40)
    とを有し、 前記開放操作部(C)においては、 可動部材(67)の移動ストローク(S)を、前記ピス
    トン弁(54)の開閉ストローク(S)に合せて、該可
    動部材(67)を瞬時に可動し得るように設定した駆動
    手段(66)と、 前記駆動手段(66)の可動部材(67)に連繋されて
    、前記緩衝部(B)の本体(30)側に向けて延出した
    操作部材(68)とを有し、 前記移動操作部材(50)は、前記緩衝部(B)の本体
    (30)内の軸中心部および前記ガス貯留噴射部(A)
    のガス噴射路(16)内に亘り移動自在に挿通支持され
    て、前記緩衝部(B)の本体(30)外部に延出した後
    端部を、前記開放操作部(C)における操作部材(68
    )に対して係脱可能に連繋し、前端部に前記ピストン弁
    (54)を連結し、略中央部に前記緩衝弁(57)を配
    設した ことを特徴とする高圧ガス噴射装置。
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