JPH04114929A - 溶着用ガラス組成物 - Google Patents
溶着用ガラス組成物Info
- Publication number
- JPH04114929A JPH04114929A JP23156290A JP23156290A JPH04114929A JP H04114929 A JPH04114929 A JP H04114929A JP 23156290 A JP23156290 A JP 23156290A JP 23156290 A JP23156290 A JP 23156290A JP H04114929 A JPH04114929 A JP H04114929A
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- JP
- Japan
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- glass composition
- welding
- glass
- magnetic
- weight
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ヘッド等の空隙部に充填され比較的低温
にて溶着処理が可能な溶着用ガラス組成物に関するもの
である。
にて溶着処理が可能な溶着用ガラス組成物に関するもの
である。
近年、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装置には
高密度の記録再生機能が要求され、これに伴い、磁気ヘ
ッドも、高密度記録再生を行い得るものが求められてい
る。
高密度の記録再生機能が要求され、これに伴い、磁気ヘ
ッドも、高密度記録再生を行い得るものが求められてい
る。
そこで、結晶化ガラス等の非磁性材料から成る基板のギ
ャップ対向面に、高透磁率及び高飽和磁束密度を有する
合金磁性材料、例えばセンダスト合金等から成る薄膜を
形成した基板ブロックを作製し、一対の上記各基板ブロ
ックを溶着用ガラスで相互に溶着させて成るコアを使用
した磁気ヘンドが用いられるようになってきている。
ャップ対向面に、高透磁率及び高飽和磁束密度を有する
合金磁性材料、例えばセンダスト合金等から成る薄膜を
形成した基板ブロックを作製し、一対の上記各基板ブロ
ックを溶着用ガラスで相互に溶着させて成るコアを使用
した磁気ヘンドが用いられるようになってきている。
上記コアに形成されるギャップには、溶着に使用された
上記ガラスも充填されており、この溶着用ガラスとして
は、鉛を主成分とした低融点ガラス等が使用されている
。
上記ガラスも充填されており、この溶着用ガラスとして
は、鉛を主成分とした低融点ガラス等が使用されている
。
通常、蒸着等により合金薄膜の形成された前記各基板ブ
ロックをガラスを用いて溶着する場合、上記基板の熱変
形や合金薄膜の熱応力による剥離等を防止するため、な
るべく低い温度（５００°Ｃ以下）で溶着を行うことが
望ましい。また、ギャップに充填されているガラスの偏
摩耗等を防ぐために、そのビッカース硬度は３５０以」
二を確保する必要がある。ところが、このような硬度を
備えたガラスは、５００°Ｃ以下という温度では、低粘
度で優れた濡れ性を有する物が少ないため、溶着性に劣
るものが多い。一方、５００°Ｃ以下で溶着可能なガラ
スには、」１記のような硬度を備えるものは少ない。
ロックをガラスを用いて溶着する場合、上記基板の熱変
形や合金薄膜の熱応力による剥離等を防止するため、な
るべく低い温度（５００°Ｃ以下）で溶着を行うことが
望ましい。また、ギャップに充填されているガラスの偏
摩耗等を防ぐために、そのビッカース硬度は３５０以」
二を確保する必要がある。ところが、このような硬度を
備えたガラスは、５００°Ｃ以下という温度では、低粘
度で優れた濡れ性を有する物が少ないため、溶着性に劣
るものが多い。一方、５００°Ｃ以下で溶着可能なガラ
スには、」１記のような硬度を備えるものは少ない。
さらに、５００°Ｃ以下という温度で熔融する低融点ガ
ラスでは、その融点が低いほど高膨張率を有する傾向に
あり、前記のように低膨張率の結晶化ガラス等から成る
一対の基板を相互に溶着するには、膨張率の差により高
膨張率の低融点ガラスは適していない。
ラスでは、その融点が低いほど高膨張率を有する傾向に
あり、前記のように低膨張率の結晶化ガラス等から成る
一対の基板を相互に溶着するには、膨張率の差により高
膨張率の低融点ガラスは適していない。
また、最も一般的に溶着用のガラスとして使用される鉛
ガラスでは、溶着時に合金薄膜との間で、核化と呼ばれ
る反応を起こし、核化の生じた合金薄膜部分は磁性を失
っていると共に、ガラス部分は脆くなるために割れ欠け
を生じ易くなっており、磁気特性の劣化を生じ易くなっ
ている。
ガラスでは、溶着時に合金薄膜との間で、核化と呼ばれ
る反応を起こし、核化の生じた合金薄膜部分は磁性を失
っていると共に、ガラス部分は脆くなるために割れ欠け
を生じ易くなっており、磁気特性の劣化を生じ易くなっ
ている。
したがって、上記従来のガラスを用いて作製される磁気
ヘッドの製造においては、上記の各問題点に起因する歩
留りの低下を招いている。
ヘッドの製造においては、上記の各問題点に起因する歩
留りの低下を招いている。
そこで、本願発明者は、上記従来の問題点に鑑み、特に
、前記基板と合金磁性材料とから成る磁気ヘッドの作製
に用いられる溶着用ガラスにつき鋭意研究を重ねた結果
、新たなガラス組成物を知見し、本発明をなすに至った
。
、前記基板と合金磁性材料とから成る磁気ヘッドの作製
に用いられる溶着用ガラスにつき鋭意研究を重ねた結果
、新たなガラス組成物を知見し、本発明をなすに至った
。
本発明の請求項第１項に係る溶着用ガラス組成物は、」
１記課題を解決するために、８２Ｏ３１７〜２９重景％
、Ｚ重量１０〜２７重量％、３１０２〜４重量％、１゛
１□０５０〜６５重量％から成ることを特徴としている
。
１記課題を解決するために、８２Ｏ３１７〜２９重景％
、Ｚ重量１０〜２７重量％、３１０２〜４重量％、１゛
１□０５０〜６５重量％から成ることを特徴としている
。
また、本発明の請求項第２項に係る溶着用ガラス組成物
は、上記課題を解決するために、Ｂ ２Ｏ ｓ９〜２１
重量％、ＺｎＯ２２〜２９重景％、３１０重量４重量％
、Ｖ ２Ｏ５４６〜６４重量％から重量ことを特徴とし
ている。
は、上記課題を解決するために、Ｂ ２Ｏ ｓ９〜２１
重量％、ＺｎＯ２２〜２９重景％、３１０重量４重量％
、Ｖ ２Ｏ５４６〜６４重量％から重量ことを特徴とし
ている。
（作 用〕
上記請求項第１項の構成にはＴｌ２Ｏ、請求項第２項の
構成には■２Ｏ．を比較的多く含んでいるため、５００
°Ｃ以下で低粘度で濡れ性に冨んだガラスとなり、５０
０°Ｃ以下での溶着が可能となっている。
構成には■２Ｏ．を比較的多く含んでいるため、５００
°Ｃ以下で低粘度で濡れ性に冨んだガラスとなり、５０
０°Ｃ以下での溶着が可能となっている。
また、上記請求項第１項および第２項の構成によれば、
ＳｒＯの働きにより核化が抑制されることから、合金磁
性材料におりる磁性の損失する部分の発生が低減される
と共に、上記ガラス組成物の割れ欠けを減少させる。さ
らに、ＳｒＯの働きによりビッカース硬度は３５０以上
となり、耐摩耗性に優れ、偏摩耗も少なくなる。
ＳｒＯの働きにより核化が抑制されることから、合金磁
性材料におりる磁性の損失する部分の発生が低減される
と共に、上記ガラス組成物の割れ欠けを減少させる。さ
らに、ＳｒＯの働きによりビッカース硬度は３５０以上
となり、耐摩耗性に優れ、偏摩耗も少なくなる。
一方、５００’Ｃ以下で溶着が可能なため、前記基板の
熱変形や合金薄膜の熱応力による剥離等を防止すること
ができる。
熱変形や合金薄膜の熱応力による剥離等を防止すること
ができる。
その−ヒ、線膨張係数が６０〜８０（ＸＩＯ−７だＣ）
と小さく、これまで使用できなかった結晶化ガラス（線
膨張係数約７０Ｘ１．０−’だＣ）等の素材から成る基
板等に対しても用いることができる。
と小さく、これまで使用できなかった結晶化ガラス（線
膨張係数約７０Ｘ１．０−’だＣ）等の素材から成る基
板等に対しても用いることができる。
〔実施例１〕
本発明の請求項第１項の一実施例を以下に説明する。
Ｂ ｚ Ｏ３、ＺｎＯ，ＳｒＯおよびＴｌ２Ｏを第１表
の組成比に従ってそれぞれ一定量ずつ採取し、白金るつ
ぼ中で１２Ｏ０’Ｃの温度にて約１時間溶融および混合
することにより、試料１を作製した。
の組成比に従ってそれぞれ一定量ずつ採取し、白金るつ
ぼ中で１２Ｏ０’Ｃの温度にて約１時間溶融および混合
することにより、試料１を作製した。
得られた試料１のガラス組成物に対し、その物性を測定
し、その結果を第１表に併せて示した。
し、その結果を第１表に併せて示した。
第１表
α１００−３００ ： １００〜３００”Ｃの線膨
張係数このようにして得た上記ガラス組成物においては
、第１表に示すように、このガラス組成物の屈伏点は４
００′Ｃ以下となり、磁気へンド製造の溶着過程におい
て、この溶着作業温度を４８０°Ｃに設定しても、上記
ガラス組成物は低粘度で濡れ性が良く、溶着性に優れて
いた。
張係数このようにして得た上記ガラス組成物においては
、第１表に示すように、このガラス組成物の屈伏点は４
００′Ｃ以下となり、磁気へンド製造の溶着過程におい
て、この溶着作業温度を４８０°Ｃに設定しても、上記
ガラス組成物は低粘度で濡れ性が良く、溶着性に優れて
いた。
また、５００°Ｃ以下という比較的低温で溶着が可能な
ため、熱による内部応力が小さく、前記基板の変形や合
金薄膜の剥離等の発生を抑えることができた。
ため、熱による内部応力が小さく、前記基板の変形や合
金薄膜の剥離等の発生を抑えることができた。
一方、上記ガラス組成物は、熱膨張係数が６６×１０−
’／ ’Ｃと従来より低く、」二記載板として使用され
る結晶化ガラス等の熱膨張係数約７０Ｘ１０−’／ ’
Ｃとほぼ等しいことにより、上記ガラス組成物を用いて
溶着した際、膨張率の差に起因する溶着不良等が低減さ
れた。
’／ ’Ｃと従来より低く、」二記載板として使用され
る結晶化ガラス等の熱膨張係数約７０Ｘ１０−’／ ’
Ｃとほぼ等しいことにより、上記ガラス組成物を用いて
溶着した際、膨張率の差に起因する溶着不良等が低減さ
れた。
このように５００″Ｃ以下という比較的低温で溶着が可
能であり、低膨張率を有する溶着用ガラス組成物は、セ
ラミックス粉末等を含んだフリットガラス以外、従来余
り知られていない。
能であり、低膨張率を有する溶着用ガラス組成物は、セ
ラミックス粉末等を含んだフリットガラス以外、従来余
り知られていない。
さらに、このガラス組成物を用いて作製された磁気ヘッ
ドにおいて、このガラス組成物と合金薄膜との界面での
核化が抑制された。このことから、上記合金薄膜の磁性
を損失した部分の発生が減少し、また、用いられた上記
ガラス組成物の割れ欠けの発生が減少したことから、磁
気特性の低下が従来より抑制された。
ドにおいて、このガラス組成物と合金薄膜との界面での
核化が抑制された。このことから、上記合金薄膜の磁性
を損失した部分の発生が減少し、また、用いられた上記
ガラス組成物の割れ欠けの発生が減少したことから、磁
気特性の低下が従来より抑制された。
一方、ピンカース硬度が３５０以上であり、耐摩耗性に
優れ、偏摩耗も少なかった。
優れ、偏摩耗も少なかった。
このように、上記溶着用ガラス組成物は種々の優れた特
性を有したので、このガラス組成物を用いて作製された
磁気ヘッドの歩留りが向上した。
性を有したので、このガラス組成物を用いて作製された
磁気ヘッドの歩留りが向上した。
〔実施例２〕
本発明の請求項第２項の一実施例を以下に説明する。
Ｂ２Ｏ３、ＺｎＯ１ＳｒＯおよびＶ２Ｃ，を第２表の組
成比に従ってそれぞれ一定量ずつ採取し、白金るつぼ中
で１２Ｏ０°Ｃの温度にて約１時間溶融および混合する
ことにより、試料２を作製した。
成比に従ってそれぞれ一定量ずつ採取し、白金るつぼ中
で１２Ｏ０°Ｃの温度にて約１時間溶融および混合する
ことにより、試料２を作製した。
得られた試料２のガラス組成物に対し、その物性を測定
し、その結果を第２表に併せて示した。
し、その結果を第２表に併せて示した。
第２表
このようにして得た上記ガラス組成物においては、第２
表に示すように、このガラス組成物の屈伏点は３５０“
Ｃ以下となり、磁気ヘッド製造の溶着過程において、こ
の溶着作業温度を４５０°Ｃに設定しても、上記ガラス
組成物は低粘度で濡れ性が良く、溶着性に優れていた。
表に示すように、このガラス組成物の屈伏点は３５０“
Ｃ以下となり、磁気ヘッド製造の溶着過程において、こ
の溶着作業温度を４５０°Ｃに設定しても、上記ガラス
組成物は低粘度で濡れ性が良く、溶着性に優れていた。
また、５００°Ｃ以下という比較的低温で溶着が可能な
ため、熱による内部応力が小さく、前記基板の変形や合
金薄膜の剥離等の発生を抑えることができた。
ため、熱による内部応力が小さく、前記基板の変形や合
金薄膜の剥離等の発生を抑えることができた。
一方、上記ガラス組成物は、熱膨張係数が６７×１０−
７／ ’Ｃと従来より低く、」二記載板として使用され
る結晶化ガラス等の熱膨張係数約７０Ｘ１０−’／ ”
Ｃとほぼ等しいことにより、上記ガラス組成物を用いて
溶着した際、膨張率の差に起因する溶着不良等が低減さ
れた。
７／ ’Ｃと従来より低く、」二記載板として使用され
る結晶化ガラス等の熱膨張係数約７０Ｘ１０−’／ ”
Ｃとほぼ等しいことにより、上記ガラス組成物を用いて
溶着した際、膨張率の差に起因する溶着不良等が低減さ
れた。
このように５００°Ｃ以下という比較的低温で溶着が可
能であり、低膨張率を有する溶着用ガラス組成物は、セ
ラミックス粉末等を含んだフリットガラス以外、従来余
り知られていない。
能であり、低膨張率を有する溶着用ガラス組成物は、セ
ラミックス粉末等を含んだフリットガラス以外、従来余
り知られていない。
さらに、このガラス組成物を用いて作製された磁気ヘッ
ドにおいて、このガラス組成物と合金薄膜との界面での
核化が抑制された。このことから、上記合金薄膜の磁性
を損失した部分の発生が減少し、また、用いられた上記
ガラス組成物の割れ欠けの発生が減少したことから、磁
気特性の低下が従来より抑制された。
ドにおいて、このガラス組成物と合金薄膜との界面での
核化が抑制された。このことから、上記合金薄膜の磁性
を損失した部分の発生が減少し、また、用いられた上記
ガラス組成物の割れ欠けの発生が減少したことから、磁
気特性の低下が従来より抑制された。
一方、ビッカース硬度が３５０以上であり、耐摩耗性に
優れ、偏摩耗も少なかった。
優れ、偏摩耗も少なかった。
このように、上記溶着用ガラス組成物は種々の優れた特
性を有したので、このガラス組成物を用いて作製された
磁気ヘッドの歩留りが向上した。
性を有したので、このガラス組成物を用いて作製された
磁気ヘッドの歩留りが向上した。
請求項第１項および第２項記載の溶着用ガラス組成物は
、核化が抑制されることによる磁気特性の向上、また、
５００°Ｃ以下という比較的低温において低粘度で濡れ
性の良い優れた溶着性、及び比較的低温での溶着が可能
なことにより熱応力の減少や熱変形の低減、さらに、耐
摩耗性および低膨張率等の優れた特性を有している。
、核化が抑制されることによる磁気特性の向上、また、
５００°Ｃ以下という比較的低温において低粘度で濡れ
性の良い優れた溶着性、及び比較的低温での溶着が可能
なことにより熱応力の減少や熱変形の低減、さらに、耐
摩耗性および低膨張率等の優れた特性を有している。
これらの結果、上記各溶着用ガラス組成物は、それぞれ
磁気ヘッド製造における歩留りの向上を図ることができ
るという効果を奏する。
磁気ヘッド製造における歩留りの向上を図ることができ
るという効果を奏する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、Ｂ＿２Ｏ＿３１７〜２９重量％、ＺｎＯ１０〜２７
重量％、ＳｒＯ２〜４重量％、Ｔｌ＿２Ｏ５０〜６５重
量％から成る溶着用ガラス組成物。 ２、Ｂ＿２Ｏ＿３９〜２１重量％、ＺｎＯ２２〜２９重
量％、ＳｒＯ２〜４重量％、Ｖ＿２Ｏ＿５４６〜６４重
量％から成る溶着用ガラス組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2231562A JP2577128B2 (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 溶着用ガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2231562A JP2577128B2 (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 溶着用ガラス組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04114929A true JPH04114929A (ja) | 1992-04-15 |
| JP2577128B2 JP2577128B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=16925457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2231562A Expired - Lifetime JP2577128B2 (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 溶着用ガラス組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2577128B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0779257A4 (en) * | 1995-06-30 | 1998-10-14 | Tdk Corp | DIELECTRIC PORCELAIN, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENTS OBTAINED THEREFROM |
| WO2004074198A1 (ja) * | 2003-02-19 | 2004-09-02 | Yamato Electronic Co., Ltd. | 封着加工用無鉛ガラス材とこれを用いた封着加工物及び封着加工方法 |
| US7585798B2 (en) | 2003-06-27 | 2009-09-08 | Yamato Electronic Co., Ltd. | Lead-free glass material for use in sealing and, sealed article and method for sealing using the same |
-
1990
- 1990-08-31 JP JP2231562A patent/JP2577128B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0779257A4 (en) * | 1995-06-30 | 1998-10-14 | Tdk Corp | DIELECTRIC PORCELAIN, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENTS OBTAINED THEREFROM |
| WO2004074198A1 (ja) * | 2003-02-19 | 2004-09-02 | Yamato Electronic Co., Ltd. | 封着加工用無鉛ガラス材とこれを用いた封着加工物及び封着加工方法 |
| US7425518B2 (en) | 2003-02-19 | 2008-09-16 | Yamato Electronic Co., Ltd. | Lead-free glass material for use in sealing and, sealed article and method for sealing using the same |
| US7585798B2 (en) | 2003-06-27 | 2009-09-08 | Yamato Electronic Co., Ltd. | Lead-free glass material for use in sealing and, sealed article and method for sealing using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2577128B2 (ja) | 1997-01-29 |
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