JPH04118509A - 膜厚測定用検量線作成方法 - Google Patents
膜厚測定用検量線作成方法Info
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- JPH04118509A JPH04118509A JP23866790A JP23866790A JPH04118509A JP H04118509 A JPH04118509 A JP H04118509A JP 23866790 A JP23866790 A JP 23866790A JP 23866790 A JP23866790 A JP 23866790A JP H04118509 A JPH04118509 A JP H04118509A
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Landscapes
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、あらかじめ膜厚既知試料によってケイ光Ｘ線
強度と膜厚の関係を検量線として用、音し、これに基づ
いて膜厚測定を実施するケイ光Ｘ線膜厚測定方法に関す
る。
強度と膜厚の関係を検量線として用、音し、これに基づ
いて膜厚測定を実施するケイ光Ｘ線膜厚測定方法に関す
る。
ケイ光Ｘ線膜厚測定法には、装置定数等により理論的に
ケイ光Ｘ線強度のみから膜厚を求めるファンダメンタル
・パラメータ法と、あらかじめ膜厚既知試料によってケ
イ光Ｘ線強度と膜厚の関係を求めておき、これに基づい
て膜厚を求める検量線法の２ｉｊｌｌりがあるが、ケイ
光Ｘ線膜厚測定装置に広く利用されているのは検量線法
である。
ケイ光Ｘ線強度のみから膜厚を求めるファンダメンタル
・パラメータ法と、あらかじめ膜厚既知試料によってケ
イ光Ｘ線強度と膜厚の関係を求めておき、これに基づい
て膜厚を求める検量線法の２ｉｊｌｌりがあるが、ケイ
光Ｘ線膜厚測定装置に広く利用されているのは検量線法
である。
ケイ光Ｘ線の場合、マトリックス効果があり、−元素系
の薄膜でも膜厚とケイ光Ｘ線強度の関係は直線にならず
、指数関数で表現される。従って単層膜でも、第１図に
示すように膜厚既知試料を最低３種必要とし、これが二
元系ともなると８〜１０種類必要となってくる。これを
使用する装置毎に用意し、Ｘ線管球の寿命や、検出器の
寿命や、温度特性等の経時変化は特定の元素によって校
正する方法を採用している。
の薄膜でも膜厚とケイ光Ｘ線強度の関係は直線にならず
、指数関数で表現される。従って単層膜でも、第１図に
示すように膜厚既知試料を最低３種必要とし、これが二
元系ともなると８〜１０種類必要となってくる。これを
使用する装置毎に用意し、Ｘ線管球の寿命や、検出器の
寿命や、温度特性等の経時変化は特定の元素によって校
正する方法を採用している。
従来の方法では、２層薄膜測定や２元合金薄膜測定を実
施する前に、あらかしめ８〜１０種類の標準試料を測定
する必要があり、この検量線作成の為に長時間を要して
いた。
施する前に、あらかしめ８〜１０種類の標準試料を測定
する必要があり、この検量線作成の為に長時間を要して
いた。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、装置
が異なっても利用できる検量線データヘスを用意して、
数点測定するだけで複数種の正確な膜厚測定用検量線を
作成する方法であり、膜厚測定のための準備時間を短縮
し、正確な膜厚測定法を提供することを目的とする。
が異なっても利用できる検量線データヘスを用意して、
数点測定するだけで複数種の正確な膜厚測定用検量線を
作成する方法であり、膜厚測定のための準備時間を短縮
し、正確な膜厚測定法を提供することを目的とする。
本発明はケイ光Ｘ線のマトリックス効果で表現される吸
収係数を物理的な定数と仮定し、−度作成した検量線の
傾きは装置が異なっても同等であるとして、原器で作成
した膜厚とＸ線強度の関係をデータベース検量線とし、
装置の構造が変わらない限り、これを他の全ての装置で
利用するものとし、複数の無限厚試料を測定することに
よって校正しうろことを特徴とするケイ光Ｘ線膜厚測定
用検量線作成方法。
収係数を物理的な定数と仮定し、−度作成した検量線の
傾きは装置が異なっても同等であるとして、原器で作成
した膜厚とＸ線強度の関係をデータベース検量線とし、
装置の構造が変わらない限り、これを他の全ての装置で
利用するものとし、複数の無限厚試料を測定することに
よって校正しうろことを特徴とするケイ光Ｘ線膜厚測定
用検量線作成方法。
ｒ実施例〕
以下本発明を凹面に基づき具体的に説明する。
従来は、第１図に示すような膜厚Ｘ ６． Ｘ ＋ 、
Ｘ ｓとＸ線強度１ｏ、ｒ；、Ｉｓまたは強度比Ｒ，＝
Ｏ，Ｒ，。
Ｘ ｓとＸ線強度１ｏ、ｒ；、Ｉｓまたは強度比Ｒ，＝
Ｏ，Ｒ，。
Ｒｓ ＝１の検量線を装置毎に作成していた。本発明に
おいては、ある原器で１゜、Ｉｓおよび１１ ：ｘｌの
関係を求めデータベース検量線とし、個々の装置ではＩ
。とＩ、のみ測定するだけで校正し、その装置の検量線
とする。Ｒ１とＸｌの関係は、−次Ｘ線の照射面積（コ
リメータ・サイズ）によって限定されず、ｆｏとＩ、を
再測定するだけで検量線の傾きμ（吸収係数）を求め直
すことができる。
おいては、ある原器で１゜、Ｉｓおよび１１ ：ｘｌの
関係を求めデータベース検量線とし、個々の装置ではＩ
。とＩ、のみ測定するだけで校正し、その装置の検量線
とする。Ｒ１とＸｌの関係は、−次Ｘ線の照射面積（コ
リメータ・サイズ）によって限定されず、ｆｏとＩ、を
再測定するだけで検量線の傾きμ（吸収係数）を求め直
すことができる。
この際、測定する試料を例えば、銅、ニッケル金、錫、
鉛の５種類とすると、第２図に示す実施例のように、あ
らかしめ用意されているデータベースが単層３種、二層
２種、合金２種とすると、これら７種の検量線が作成可
能となる。
鉛の５種類とすると、第２図に示す実施例のように、あ
らかしめ用意されているデータベースが単層３種、二層
２種、合金２種とすると、これら７種の検量線が作成可
能となる。
以上詳述した如く、本発明により従来の検量線法を実施
する場合に比べて、検量線作成の為の標準試料の数を凍
らすことができ、複数個の無限厚試料を測定するだけで
、予め用意されている複数種のデータベース検量線を校
正し使用できることから、検量線作成に要していた時間
を短縮でき、更に操作が簡単になる等、優れた効果を奏
する。
する場合に比べて、検量線作成の為の標準試料の数を凍
らすことができ、複数個の無限厚試料を測定するだけで
、予め用意されている複数種のデータベース検量線を校
正し使用できることから、検量線作成に要していた時間
を短縮でき、更に操作が簡単になる等、優れた効果を奏
する。
第１図は検量線の概念図であり、第２図は本発明の一実
施例の校正用標準試料と、それにより校正可能なデータ
ベースの種類を示す。 以上
施例の校正用標準試料と、それにより校正可能なデータ
ベースの種類を示す。 以上
Claims (1)
- 試料にＸ線を照射するＸ線発生器と、試料から放出され
るケイ光Ｘ線を検出するＸ線検出器と、得られたケイ光
Ｘ線強度から薄膜の膜厚を計算する膜厚演算部からなる
ケイ光Ｘ線膜厚測定装置において、膜厚演算手段として
、ケイ光Ｘ線のマトリックス効果を考慮した指数関数的
演算式より求められる検量線定数を、ある原器で測定し
求め、膜厚と無限厚強度比の関係は物理的な不変定数と
した検量線データベースとし、次に別の装置でこのデー
タベースと無限厚サンプルの測定のみで膜厚検量線を校
正しうる膜厚測定用検量線作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2238667A JP3018043B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 膜厚測定用検量線作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2238667A JP3018043B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 膜厚測定用検量線作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04118509A true JPH04118509A (ja) | 1992-04-20 |
| JP3018043B2 JP3018043B2 (ja) | 2000-03-13 |
Family
ID=17033533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2238667A Expired - Lifetime JP3018043B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 膜厚測定用検量線作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3018043B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7666490B1 (en) | 1999-02-10 | 2010-02-23 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Functional roll film and vacuum evaporation apparatus capable of producing the functional roll film |
| WO2022091597A1 (ja) * | 2020-10-30 | 2022-05-05 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置 |
-
1990
- 1990-09-07 JP JP2238667A patent/JP3018043B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7666490B1 (en) | 1999-02-10 | 2010-02-23 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Functional roll film and vacuum evaporation apparatus capable of producing the functional roll film |
| WO2022091597A1 (ja) * | 2020-10-30 | 2022-05-05 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置 |
| JP2022073174A (ja) * | 2020-10-30 | 2022-05-17 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置 |
| CN114868013A (zh) * | 2020-10-30 | 2022-08-05 | 株式会社理学 | 荧光x射线分析装置 |
| CN114868013B (zh) * | 2020-10-30 | 2022-12-20 | 株式会社理学 | 荧光x射线分析装置 |
| US11656190B2 (en) | 2020-10-30 | 2023-05-23 | Rigaku Corporation | X-ray fluorescence spectrometer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3018043B2 (ja) | 2000-03-13 |
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