JPH04118965A - Analog memory element and control circuit - Google Patents
Analog memory element and control circuitInfo
- Publication number
- JPH04118965A JPH04118965A JP2239460A JP23946090A JPH04118965A JP H04118965 A JPH04118965 A JP H04118965A JP 2239460 A JP2239460 A JP 2239460A JP 23946090 A JP23946090 A JP 23946090A JP H04118965 A JPH04118965 A JP H04118965A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pulse
- gate
- voltage
- floating gate
- bias
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Semiconductor Memories (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電荷蓄積量をアナログ量として記憶するアナ
ログメモリ素子に於て、電荷量を小量ずつ増減すること
を容易に行える素子ならびにその制御回路に関する。Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to an analog memory element that stores the amount of accumulated charge as an analog amount, and an element that can easily increase or decrease the amount of charge in small increments. Regarding control circuits.
(従来の技術)
LSI上でアナログ信号量を記憶する必要のある場合が
いままで数多く生じていた0例えば、音声や画像信号の
記憶、あるいは神経回路の重み係数記憶等はその代表例
である。ところが、従来精確なアナログ量の記憶に実用
できる半導体デバイスは情無であった。そのためアナロ
グ記憶を必要とするときには、それを−旦ディジタル化
して各ビットをディジタルメモリに記憶する以外になく
、その結果メモリデバイス数の増加と占有面積の増大を
招いていた。(Prior Art) There have been many cases where it is necessary to store analog signal amounts on an LSI. For example, storage of audio or image signals, or storage of weighting coefficients for neural circuits are typical examples. However, in the past, there were no semiconductor devices that could be used to store accurate analog quantities. Therefore, when analog storage is required, there is no choice but to first digitize it and store each bit in a digital memory, resulting in an increase in the number of memory devices and an increase in the occupied area.
そのため、アナログ信号量を直接に記憶できるメモリ素
子の開発が望まれていた。従来のデバイスで最もその可
能性が高いものは、周囲から電気的に分離されたゲート
に蓄積する電荷量でアナログ記憶を行うところの、いわ
ゆる浮遊ゲートMOSトランジスタである。しかし、こ
の浮遊ゲートMO3)ランジスタはそのままでは精確な
アナログ記憶には適さない、すなわち、今までの浮遊ゲ
ートMOSトランジスタでは、浮遊ゲートに電圧パルス
を印加してトンネル接合から浮遊ゲートに電荷を注入す
るとき、注入される電荷量は既に浮遊ゲートに蓄積され
ている電荷量、および、印加される電圧パルスの高さと
幅に大きく依存するため、任意のアナログ量を精度よく
設定して記憶することは容易ではなかった。この問題を
以下に図を用いて簡単に″述べる。Therefore, it has been desired to develop a memory element that can directly store analog signal amounts. The most likely conventional device is a so-called floating gate MOS transistor, which performs analog storage using the amount of charge accumulated in a gate that is electrically isolated from the surroundings. However, this floating gate MO3) transistor is not suitable for accurate analog storage as it is; in other words, in conventional floating gate MOS transistors, a voltage pulse is applied to the floating gate to inject charge from the tunnel junction to the floating gate. In this case, the amount of charge injected depends largely on the amount of charge already stored in the floating gate and the height and width of the applied voltage pulse, so it is difficult to accurately set and store an arbitrary analog amount. It wasn't easy. This problem will be briefly explained below using a diagram.
(発明が解決しようとする謀II)
第5図に従来の浮遊ゲートMOS)ランジスタの構造を
示す0図において1は浮遊ゲート、2は制御ゲート、3
はトンネル接合、4はドレイン、5はソースを示す、こ
の素子では、制御ゲート2に電荷注入用の電圧を印加す
るとトンネル接合3の電子障壁に高電界が加わり、その
結果トンネル接合3を通じてドレイン4と浮遊ゲート1
間にトンネル電流が流れ、浮遊ゲー1−1に電荷が注入
される。制御ゲート2に電荷注入用の一定パルス電圧(
書き込み:正電圧パルス、消去:負電圧パルス)を繰り
返し加えたとき、浮遊ゲート1に注入される電荷量の時
間変化を第6図に示す、電荷が注入されるに従って浮遊
ゲート1の電位が変化し、トンネル接合にかかる電圧が
下がってトンネル電流が流れなくなり平衡状態に達する
。すなわち、浮遊ゲート1に既に蓄積されている電荷量
によって、注入される電荷量が異なる。逆にいえば、あ
る一定の電荷量を注入するためには浮遊ゲート1に蓄積
されている電荷量を測定した上で、その値に応じて異な
る電圧と幅のパルスを印加しなければならない、しかも
、このためのパルス電圧と幅の値を求めるためには複雑
な計軍が必要である。(Policy II to be Solved by the Invention) Figure 5 shows the structure of a conventional floating gate MOS transistor. In Figure 0, 1 is a floating gate, 2 is a control gate, and 3 is a floating gate.
is a tunnel junction, 4 is a drain, and 5 is a source. In this device, when a voltage for charge injection is applied to the control gate 2, a high electric field is applied to the electron barrier of the tunnel junction 3, and as a result, the drain 4 is connected through the tunnel junction 3. and floating gate 1
A tunnel current flows between them, and charges are injected into the floating gate 1-1. A constant pulse voltage (
Figure 6 shows the time change in the amount of charge injected into floating gate 1 when a positive voltage pulse (writing: positive voltage pulse, erasing: negative voltage pulse) is applied repeatedly.As the charge is injected, the potential of floating gate 1 changes. However, the voltage applied to the tunnel junction decreases, the tunnel current stops flowing, and an equilibrium state is reached. That is, the amount of charge injected differs depending on the amount of charge already stored in the floating gate 1. Conversely, in order to inject a certain amount of charge, it is necessary to measure the amount of charge stored in the floating gate 1, and then apply a pulse with a different voltage and width depending on that value. Moreover, complicated planning is required to obtain the pulse voltage and width values for this purpose.
このように、浮遊ゲートlの電荷量を制御することは容
易ではなかった。Thus, it has not been easy to control the amount of charge on the floating gate l.
本発明は上記の欠点を改善するために提案されたもので
、その目的は、浮遊ゲートの蓄積電荷量を微少にかつ効
率よく調節することが困難であった点を解決したパルス
制御ゲート構造を有するアナログメモリ素子ならびにそ
の制御回路を提供することにある。The present invention was proposed to improve the above-mentioned drawbacks, and its purpose is to provide a pulse control gate structure that solves the difficulty of minutely and efficiently adjusting the amount of charge accumulated in a floating gate. An object of the present invention is to provide an analog memory device having the following features and a control circuit thereof.
(課題を解決するための手段)
上記の目的を達成するため、本発明はソースおよびドレ
インに対してトンネル接合を介して配置されている浮遊
ゲートを有するMOS)ランジスタメモリ素子において
、バイアス電位を与えるバイアス制御ゲート電極とパル
ス電圧を印加するパルス制御ゲート電極とを前記浮遊ゲ
ート上に積層して形成することを特徴とするアナログメ
モリ素子を発明の要旨とするものである。(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention provides a bias potential in a transistor memory element (MOS) having a floating gate arranged through a tunnel junction with respect to a source and a drain. The gist of the invention is an analog memory element characterized in that a bias control gate electrode and a pulse control gate electrode for applying a pulse voltage are formed by stacking them on the floating gate.
さらに、本発明はバイアス電位を与えるバイアス制御ゲ
ート電極とパルス電圧を印加するパルス制御ゲート電極
とを前記浮遊ゲート上に積層して形成したアナログメモ
リ素子に対して、ドレイン電流または電圧を所望の値に
保つためのゲートバイアス発生回路をバイアス制御ゲー
トに接続し、制御パルスをパルス制御ゲートに与えるこ
とを特徴とするアナログメモリ素子制御回路を発明の要
旨とするものである。Furthermore, the present invention provides an analog memory element in which a bias control gate electrode for applying a bias potential and a pulse control gate electrode for applying a pulse voltage are stacked on the floating gate to control the drain current or voltage to a desired value. The gist of the invention is an analog memory element control circuit characterized in that a gate bias generation circuit for maintaining the voltage is connected to a bias control gate and a control pulse is applied to the pulse control gate.
(作用)
本発明は浮遊ゲートを有するMOS)ランジスタメモリ
素子において、浮遊ゲートにバイアス電位を与えるバイ
アス制御ゲート電極とパルス電圧を印加するパルス制御
ゲート電極とを設けたことによって、浮遊ゲートに電荷
を注入する際、制御電圧パルスを印加するだけで、浮遊
ゲート電荷量を高精度に調節することができる。(Function) The present invention provides a MOS transistor memory element having a floating gate, which is provided with a bias control gate electrode that applies a bias potential to the floating gate and a pulse control gate electrode that applies a pulse voltage. During injection, the amount of floating gate charge can be adjusted with high precision simply by applying a control voltage pulse.
(実権例)
次に本発明の実施例について説明する。なお実施例は一
つの例示であって、本発明の精神を逸脱しない範囲で、
種々の変更あるいは改良を行いうることは言うまでもな
い。(Example of Actual Rights) Next, an example of the present invention will be described. It should be noted that the examples are merely illustrative, and within the scope of the spirit of the present invention,
It goes without saying that various changes and improvements can be made.
第1図は本発明のアナログメモリ素子の実施例を示す0
図において1は浮遊ゲート、6はバイアス制御ゲート、
7はパルス制御ゲート、8は酸化膜、4はドレイ−ン、
5はゲートを示す、すなわち浮遊ゲート1上にバイアス
制御ゲート6とパルス制御ゲート7を積層して形成する
ものである。FIG. 1 shows an embodiment of the analog memory device of the present invention.
In the figure, 1 is a floating gate, 6 is a bias control gate,
7 is a pulse control gate, 8 is an oxide film, 4 is a drain,
Reference numeral 5 indicates a gate, which is formed by stacking a bias control gate 6 and a pulse control gate 7 on the floating gate 1.
次に本発明のアナログメモリ素子の動作について説明す
る。Next, the operation of the analog memory device of the present invention will be explained.
まず、バイアス制御ゲート6に電圧を加え浮遊ゲート1
の電位がある一定値となるように調節する0次にパルス
制御ゲート7に電圧パルスを印加して、バイアス制御電
極6、及び浮遊ゲート1にパルス電圧を誘起し、トンネ
ル接合3を介して電荷を浮遊ゲート1に注入する。ただ
し、このときバイアス制御ゲート電極6にパルス電圧が
誘起されるように、バイアス制御ゲート6に結合する外
部回路において電圧源との間に等価的に直列に高抵抗を
接続してお((第3図)、浮遊ゲート電位を一定値に制
御した状態で一定のパルスを加えた場合、注入される電
荷量は常に一定量となる。First, a voltage is applied to the bias control gate 6 and the floating gate 1
A voltage pulse is applied to the zero-order pulse control gate 7, which induces a pulse voltage in the bias control electrode 6 and the floating gate 1, and charges are transferred through the tunnel junction 3. is injected into floating gate 1. However, in order to induce a pulse voltage in the bias control gate electrode 6 at this time, a high resistance is equivalently connected in series with the voltage source in the external circuit coupled to the bias control gate 6. (Figure 3), when a constant pulse is applied while the floating gate potential is controlled to a constant value, the amount of charge injected is always constant.
以上のようにして、本発明のアナログメモリ素子によれ
ば、浮遊ゲート電位1のバイアス制御を行うことにより
、一定の電圧パルスに対して常に一定の電荷量が注入さ
れるので、注入電荷量を小量ずつ正確に調整することが
容易にできる。As described above, according to the analog memory element of the present invention, by controlling the bias of the floating gate potential 1, a constant amount of charge is always injected in response to a constant voltage pulse, so that the amount of injected charge can be controlled. It is easy to accurately adjust small amounts.
本発明のアナログメモリ素子の第2の実施例を第2図に
示す。第1の実施例に比べて、バイアス制御ゲート電極
に直列に接続された高抵抗層9が一体構造として形成さ
れている点が異なる。この高抵抗層9は、パルス制御ゲ
ート7の電圧パルスに対する容量負荷を小さくし、パル
ス電圧が十分に誘起されるようにするためのものである
。また、バイアス制御回路の時定数を大きくし、パルス
印加の影響によるバイアス制御回路の変動や発振を抑制
する効果を持つ、バイアス制御ゲート電極全体を高抵抗
層で形成しても同様の効果が得られる。A second embodiment of the analog memory device of the present invention is shown in FIG. This embodiment differs from the first embodiment in that the high resistance layer 9 connected in series to the bias control gate electrode is formed as an integral structure. This high resistance layer 9 is intended to reduce the capacitive load of the pulse control gate 7 to the voltage pulse and to ensure that the pulse voltage is sufficiently induced. A similar effect can also be obtained by increasing the time constant of the bias control circuit and suppressing fluctuations and oscillations in the bias control circuit caused by pulse application, and by forming the entire bias control gate electrode with a high-resistance layer. It will be done.
次に、アナログメモリ素子のバイアス制御ゲートの制御
回路について説明する。この制御回路は浮遊ゲートの電
位をある一定値に保持するためにバイアス制御ゲートの
電圧を制御する回路である。Next, a control circuit for the bias control gate of the analog memory element will be explained. This control circuit is a circuit that controls the voltage of the bias control gate in order to maintain the potential of the floating gate at a certain constant value.
第3図は本発明の制御回路を示す、ソース・ドレイン電
流電圧測定回路10はMOS)ランジスタのソース・ド
レイン電流または電圧を測定する。FIG. 3 shows a control circuit of the present invention. A source/drain current/voltage measuring circuit 10 measures the source/drain current or voltage of a MOS transistor.
ゲートバイアス電圧発生回路11はソース・ドレイン電
流または電圧と一定の目標値とを比較して、ソース・ド
レイン電流または電圧が一定の目標値に近づく方向に出
力電圧すなわちゲート電圧を変化させる0例えば、nチ
ャネルMOSトランジスタの場合、ソース・ドレイン電
流が目標値より小さいときは出力電圧を増加させてゲー
ト電圧を上昇させることによりソース・ドレイン電流を
増加させる。逆に、目標値より大きいときには出力電圧
を下げ、ゲート電圧を下げることによりソース・ドレイ
ン電流をを減少させる。pチャネルMOSトランジスタ
の場合は増加と減少を逆にする。The gate bias voltage generation circuit 11 compares the source/drain current or voltage with a fixed target value and changes the output voltage, that is, the gate voltage in a direction in which the source/drain current or voltage approaches the fixed target value. In the case of an n-channel MOS transistor, when the source-drain current is smaller than a target value, the source-drain current is increased by increasing the output voltage and raising the gate voltage. Conversely, when it is larger than the target value, the output voltage is lowered and the gate voltage is lowered to reduce the source-drain current. In the case of a p-channel MOS transistor, the increase and decrease are reversed.
バイアス制御ゲート電極には等価的に直列に高抵抗を接
続してお(か、または、ゲートバイアス電圧発生回路の
出力を高インピーダンスとする。これによりバイアス制
御ゲートの帰還制御回路における発振現象を抑制するこ
とができる。A high resistance is equivalently connected in series with the bias control gate electrode (or the output of the gate bias voltage generation circuit is made high impedance. This suppresses the oscillation phenomenon in the feedback control circuit of the bias control gate. can do.
バイアス制御ゲート6の電圧を制御して、ソース・ドレ
イン電流または電圧をある一定値に保持すると、MOS
)ランジスタのチャネル領域にかかる電界はある一定値
に保持されている。すなわち、浮遊ゲート1の電位があ
る一定値にほぼ等しい状態に制御されている。この状態
にした後、パルス制御ゲート7に電圧パルスを印加すれ
ば、浮遊ゲートに蓄積されている電荷量に関わらず、注
入される電荷量を常にほぼ一定にすることができる。−
回のパルスで注入される電荷量はパルス幅によって調節
可能で、パルス幅を短くすることにより変化量を微少に
することができる。制御ゲートに電荷注入用の一定パル
ス電圧(書き込み:正電圧パルス、消去:負電圧パルス
)を繰り返し加えたとき、浮遊ゲートに注入される電荷
量の時間変化は第4図に示すようにほぼ直線的になる。When the voltage of the bias control gate 6 is controlled to maintain the source/drain current or voltage at a certain value, the MOS
) The electric field applied to the channel region of the transistor is held at a certain value. That is, the potential of the floating gate 1 is controlled to be approximately equal to a certain constant value. After this state is established, by applying a voltage pulse to the pulse control gate 7, the amount of charge injected can be kept almost constant regardless of the amount of charge stored in the floating gate. −
The amount of charge injected with each pulse can be adjusted by changing the pulse width, and by shortening the pulse width, the amount of change can be made minute. When a constant pulse voltage for charge injection (writing: positive voltage pulse, erasing: negative voltage pulse) is repeatedly applied to the control gate, the amount of charge injected into the floating gate changes over time almost linearly as shown in Figure 4. become a target.
第4図は横軸にパルス印加回路、縦軸に浮遊ゲートの電
荷量をとっである。In FIG. 4, the horizontal axis represents the pulse application circuit, and the vertical axis represents the amount of charge on the floating gate.
以上のようにして、本発明の制御回路を用いて書き込み
・消去制御を行えば、一定の電圧パルスを繰り返し印加
することにより、一定の精度のアナログ量を任意に設定
し、記憶させることが容易にできる。メモリ出力として
は本制御回路の動作状態におけるゲートバイアス電圧を
用いるか、ゲートバイアス電圧を特定の値に固定したと
きのドレイン電圧またはドレイン電流を用いればよい。As described above, if write/erase control is performed using the control circuit of the present invention, it is easy to arbitrarily set and memorize an analog quantity with a certain precision by repeatedly applying a certain voltage pulse. Can be done. As the memory output, the gate bias voltage in the operating state of the present control circuit may be used, or the drain voltage or drain current when the gate bias voltage is fixed at a specific value may be used.
(発明の効果)
以上説明したように、本発明によれば、浮遊ゲートを有
するMOSトランジスタメモリ素子において、バイアス
電位を与えるバイアス制御ゲート電極とパルス電圧を印
加するパルス制御ゲート電極とを前記浮遊ゲート上に積
層して形成することにより、浮遊ゲートに電荷を注入す
る際、一定の制御電圧パルスを印加するだけで、容易に
効率よく浮遊電極の電荷量を微少かつ高精度に調節する
ことができる。(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, in a MOS transistor memory element having a floating gate, a bias control gate electrode for applying a bias potential and a pulse control gate electrode for applying a pulse voltage are connected to the floating gate. By stacking the layer on top of the floating gate, the amount of charge on the floating electrode can be easily and efficiently adjusted minutely and with high precision by simply applying a constant control voltage pulse when injecting charge into the floating gate. .
したがって、本発明のアナログメモリ素子をニエーラル
ネットワークのシナプス回路におけるシナプス荷重の記
憶に用いれば、シナプス荷重を徐々に増加または減少さ
せて最適なシナプス荷重に収束させるいわゆる学習機能
を簡単なパルス制御で容易に実現することができ、学習
能力のあるニューロチップを作ることができる効果を有
する。Therefore, if the analog memory device of the present invention is used to store synaptic loads in the synaptic circuits of a neural network, the so-called learning function that gradually increases or decreases the synaptic loads to converge on the optimal synaptic loads can be performed using simple pulse control. This method can be easily realized by using the method, and has the effect of creating a neurochip with learning ability.
第1図は本発明の浮遊ゲート形MO3FETの基本構造
図(第1の実施例)、第2図は本発明の浮遊ゲート形M
O3FETの第2の実施例、第3図は本発明の浮遊ゲー
ト形MO5FETの制御回路図、第4図は本発明の浮遊
ゲートに一定パルスを繰り返し印加したときの注入電荷
量の時間変化の模式図、第5図は従来の浮遊ゲート形M
O3FTの構造図、第6図は従来構造の浮遊ゲートに一
定パルスを繰り返し印加したときの注入電荷量の時間変
化の模式図を示す。
1・・・浮遊ゲート
2・・・制御ゲート
3・・・トンネル酸化膜
4・・・ドレイン
5・・・ソース
6・・・バイアス制御ゲート
7・・・パルス制御ゲート
8・・・酸化膜
9・・・高抵抗層
10・・・ドレイン電流電圧測定回路
11・・・ゲートバイアス電圧発生回路第
図
第
図
第
図
第
図
117り
代1人番g+*山愉夫Figure 1 is a basic structural diagram (first embodiment) of the floating gate type MO3FET of the present invention, and Figure 2 is the floating gate type MO3FET of the present invention.
Embodiment 2 of the O3FET, FIG. 3 is a control circuit diagram of the floating gate type MO5FET of the present invention, and FIG. 4 is a schematic diagram of the temporal change in the amount of injected charge when a constant pulse is repeatedly applied to the floating gate of the present invention. Figure 5 shows the conventional floating gate type M
FIG. 6, which is a structural diagram of an O3FT, is a schematic diagram of the temporal change in the amount of charge injected when a constant pulse is repeatedly applied to a floating gate of a conventional structure. 1... Floating gate 2... Control gate 3... Tunnel oxide film 4... Drain 5... Source 6... Bias control gate 7... Pulse control gate 8... Oxide film 9 ...High resistance layer 10...Drain current and voltage measurement circuit 11...Gate bias voltage generation circuit
Claims (2)
して配置されている浮遊ゲートを有するMOSトランジ
スタメモリ素子において、バイアス電位を与えるバイア
ス制御ゲート電極とパルス電圧を印加するパルス制御ゲ
ート電極とを前記浮遊ゲート上に積層して形成すること
を特徴とするアナログメモリ素子。(1) In a MOS transistor memory element having a floating gate arranged through a tunnel junction with respect to the source and drain, a bias control gate electrode that applies a bias potential and a pulse control gate electrode that applies a pulse voltage are connected to the floating gate. An analog memory element characterized in that it is formed by stacking it on a gate.
パルス電圧を印加するパルス制御ゲート電極とを前記浮
遊ゲート上に積層して形成したアナログメモリ素子に対
して、ドレイン電流または電圧を所望の値に保つための
ゲートバイアス発生回路をバイアス制御ゲートに接続し
、制御パルスをパルス制御ゲートに与えることを特徴と
するアナログメモリ素子制御回路。(2) Maintain the drain current or voltage at a desired value for an analog memory element formed by stacking a bias control gate electrode that applies a bias potential and a pulse control gate electrode that applies a pulse voltage on the floating gate. 1. An analog memory element control circuit, characterized in that a gate bias generation circuit for this purpose is connected to a bias control gate, and a control pulse is applied to the pulse control gate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23946090A JP2813838B2 (en) | 1990-09-10 | 1990-09-10 | Analog memory device and control circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23946090A JP2813838B2 (en) | 1990-09-10 | 1990-09-10 | Analog memory device and control circuit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04118965A true JPH04118965A (en) | 1992-04-20 |
| JP2813838B2 JP2813838B2 (en) | 1998-10-22 |
Family
ID=17045094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23946090A Expired - Fee Related JP2813838B2 (en) | 1990-09-10 | 1990-09-10 | Analog memory device and control circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2813838B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2395065A (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-12 | Toumaz Technology Ltd | Floating gate transistors |
| JP2010050493A (en) * | 2009-12-02 | 2010-03-04 | Sony Corp | Solid-state image sensor |
-
1990
- 1990-09-10 JP JP23946090A patent/JP2813838B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2395065A (en) * | 2002-10-30 | 2004-05-12 | Toumaz Technology Ltd | Floating gate transistors |
| GB2395065B (en) * | 2002-10-30 | 2005-01-19 | Toumaz Technology Ltd | Floating gate transistors |
| US7193264B2 (en) | 2002-10-30 | 2007-03-20 | Toumaz Technology Limited | Floating gate transistors |
| JP2010050493A (en) * | 2009-12-02 | 2010-03-04 | Sony Corp | Solid-state image sensor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2813838B2 (en) | 1998-10-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Hasler et al. | Adaptive circuits using pFET floating-gate devices | |
| TWI753792B (en) | Sense amplifier and operating moethod for non-volatile memory | |
| US5289401A (en) | Analog storage device for artificial neural network system | |
| US8467253B2 (en) | Reading memory elements within a crossbar array | |
| Vittoz et al. | Analog storage of adjustable synaptic weights | |
| US7933148B2 (en) | Memory | |
| US10134472B1 (en) | Floating gate architecture for deep neural network application | |
| KR20100042329A (en) | Driving apparatus for display | |
| US20170062033A1 (en) | Semiconductor memory device | |
| JP2871355B2 (en) | Data erasing method for nonvolatile semiconductor memory device | |
| US6438021B2 (en) | Methods of reading and writing data from/ on semiconductor memory device, and method for driving the device | |
| JP3569728B2 (en) | Nonvolatile semiconductor memory device | |
| US5592418A (en) | Non-volatile analog memory cell with double polysilicon level | |
| JP2813838B2 (en) | Analog memory device and control circuit | |
| US9679654B2 (en) | Continuous-time floating gate memory cell programming | |
| JP3114155B2 (en) | Analog memory element | |
| JP2876150B2 (en) | Analog memory element | |
| EP0772201B1 (en) | Analog memory circuit and method for recording analog signal | |
| Kim et al. | An 8-bit-resolution, 360-/spl mu/s write time nonvolatile analog memory based on differentially balanced constant-tunneling-current scheme (DBCS) | |
| US9025365B2 (en) | Reading memory elements within a crossbar array | |
| US12562205B2 (en) | Polarizable device with current compliance for polarization control | |
| Silas et al. | A High-Resolution Non-Volatile Floating Gate Transistor Memory Cell for On-Chip Learning in Analog Artificial Neural Networks | |
| US11031090B1 (en) | Analog current memory with droop compensation | |
| JP3688854B2 (en) | Semiconductor device | |
| JPH01146370A (en) | Method of regulating threshold voltage of fet having floating gate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |