JPH04120182A

JPH04120182A - 光ディスク用オーバーコート剤及びその硬化物

Info

Publication number: JPH04120182A
Application number: JP2237024A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiko Ishii; 一彦石井; Katsunori Shimura; 克則志村; Minoru Yokoshima; 実横島
Original assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Current assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date: 1990-09-10
Filing date: 1990-09-10
Publication date: 1992-04-21

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、光信号を高速・高密度に記録再生づる光ディ
スク記録媒体のオーバーコートに使用される、紫外線等
により硬化し、媒体に対する液室性、耐湿性の良好な、
硬度の優れた硬化物を与メ光ディスク用オーバーコート
剤及びその硬化物Ｉ；関する。

（従来の技術）現在、民生用のコンパクトディスク記録媒体用オーバー
コート剤として紫外線硬化型オーバーコート剤か使用さ
れている。一方、現在、書込み、消去の可能な光ディス
クの開発が行なわれており、該光ディスク用のオーバー
コート剤の開発も進められている。

（発明が解決しようとする課題）光ディスク用の記録媒体は、水分やヒートショックに弱
（、オーバーコート剤に対する特性として、耐湿性、耐
ヒートシヨツク性、高い硬度、透明性等の優れた硬化物
を与える品質か要求されている。

従来使用されているコンパクトディスク用オーバーコー
ト剤は、書き込み、消去の可能な光ディスクのオーバー
コート剤として使用するには特性が不十分てあり、使用
できない。又、特開昭５９−７１３１７号公報には、ガ
ラスを基材とした光ディスク用の光硬化型接着性組成物
か提案されている。この組成物は、２−エチル−２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート等の分子中にＯＨ
基を持ったモノ（メタ）アクリレートを主成分としてお
り、オーバーコート剤として使用した場合硬化物の耐湿
性や硬度等か不十分であり、光ディスク用としては満足
できるものではない。

（課題を解決するための手段）上記の問題を解決するため、本発明者らは鋭意研究の結
果、紫外線による硬化が速く、接着性、耐湿性、硬度の
優れた硬化物を与える光ディスク用オーバーコート剤を
提供することに成功した。

すなわち、本発明は、１分子当り末端に少なくとも２個のビニルエーテル結合
を有するビニルエーテル化合物（Ａ）とエポキシ樹脂（
Ｂ）と光カチオン重合触媒（Ｃ）を含有することを特徴
とする光ディスク用オーバーコート剤及びその硬化物に
関する。

本発明で使用するビニルエーテル化合物（Ａ）の例とし
ては、ジ、トリもしくはテトラ官能性の有機ポリオール
、アセチレンおよび塩基触媒から、高圧下で公知の方法
で調製されるビニルエーテル化合物か含まれる。

具体例としては、トリプロピレングリコールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、１
，４−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサ
ン−１，４−ジメチロールジビニルリーテル、ビスフェ
ノールＡのジビニルエーテル、ポリオール化合物（例え
ば、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレング
リコール等のポリエーテルポリオール、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、１．３−ブチレングリコ
ール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール
等のアルコール成分とアジピン酸、コハク酸、フタル酸
、ヘキサヒドコフタル酸等の酸成分の反応物であるポリ
エステルポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例
えば、トリレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネー
ト、ヘキサメチレンジイソシアネート等の有機ジイソシ
アネート等）とヒドロキシル基含有ビニルエーテル化合
物（例えば、ヒドロキシブチルビニルエーテル、トリプ
ロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレ
ングリコールモノビニルエーテル、るポリウレタンポリ
ビニルエーテル等を挙げることかできる。

エポキシ樹脂（Ｂ）としては、ビスフェノールＡ型エポ
キシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、モトラブ
コモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂
、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル、シ
リコン変性ノボラック型エポキシ樹脂、ウレタン変性ヒ
スフェノールＡ型エポキシ樹脂、多価アルコール（例え
ば、１，４−ブタンジオール、１．６−ヘキサンジオー
ル、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、
グリセリン、トリメチロールプロパン等）のポリグリシ
ジルエーテル等を挙げることができる。

エポキシ樹脂（Ｂ）の使用量の好適な範囲は、前記（Ａ
）成分の１００重量部に対して、好ましくは５〜９００
重量部、特に好ましくは、２０〜２００重量部である。

光カチオン重合触媒（Ｃ）としては、例えば、米国特許
３３７９６５３号公報に記載されたような１種若しくは
それ以上の金属フルオロ硼酸塩及び三弗化硼素の錯体、
米国特許３５８６６１６号公報に記載されたようなヒス
（ペルフルオロアルキルスルホニル）メタン金属塩、米
国特許第３７０８２９６号公報に記載されたようなアリ
ールジアゾニウム化合物、米国特許第４０５８４００号
記載の第ＶＩａ族元素の芳香族オニウム塩、米国特許第
４０６９０５５号公報記載の第Ｖａ族元素の芳香族オニ
ウム塩、米国特許第４０８６０９１号公報記載の第１Ｉ
Ｉａ　−Ｖａ族元素のジカルボニルキレート、米国特許
第４１３９６５５号公報記載のチオピリリウム塩、米国
特許第４１６１４７８号公報記載のＭＦ、アニオン（こ
こでＭは、ＰｌＡｓ及びｓｂより選択される）を有する
第ＶＩａ族元素、米国特許第４２３１９５１号公報記載
のトリアリールスルホニウム錯塩、米国特許第４２５６
８２８号公報記載の芳香族イオドニウム錯塩及び芳香族
スルホニウム錯塩を包含する。好適な光カチオン重合触
媒（Ｃ）は、ポリアリールスルホニウム錯塩、ハロゲン
含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩若しくはイオドニ
ウム塩、並びに第ｍａ、Ｖａ及びＶＩａ族元素の芳香族
オニウム塩等が挙げられる。これら塩類の幾種かは、た
とえばＦＣ−５０８若しくはＦＸ−５１２（３Ｍカンパ
ニー社製、ポリアリールスルホニウムヘキサフルオロホ
スフェート）あるいは、ＵＶＥ−１０１４（ゼネラルエ
レクトリック・カンパニー社製、ポリアリールスルホニ
ウムヘキサフルオロアンチモン塩）　、５Ｐ−１７０，
５Ｐ−１５０（旭電化■製、ポリアリールスルホニウム
へキサフルオロホスフェート、ポリアリールスルホニウ
ムヘキサフルオロアンチモン塩ト）として販売されてい
るように市販品として容易に入手することができる。こ
れら光カチオン重合触媒（Ｃ）は、１種または２種以上
を任意の割合で混合して使用する事ができる。

本発明のオーバーコート剤における光カチオン重合触媒
（Ｃ）の使用割合は、（Ａ）成分＋（Ｂ）成分の合計の
１００重量部に対して０．０１〜１０重量部か好ましく
、特に好ましくは、０．０５〜５重量部である。

本発明のオーバーコート剤は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分
及び（Ｃ）成分を混合溶解することにより調製される。

本発明のオーバーコート剤には、更に、必要に応じて、
シリコン系、フッ素系及びアクリル共重合物等のレベリ
ング剤、シランカップリング剤、消泡剤、酸化防止剤、
重合禁止剤、着色剤及び希釈剤として例えばトルエン、
酢酸エチル、酢酸ブチル、ｎ−ブタノール、メチルエチ
ルケトン、エチルセコソルブ、エチルセロソルブアセテ
ート等の有機溶剤等を添加することかできる。

本発明のオーバーコート剤を硬化する方法としては、電
子線及び紫外線等の放射線による硬化法かあるか、低圧
又は高圧水銀灯、キセノン灯を用いて常法により紫外線
を照射することによって硬化するのが好ましい。必要に
より、更に、好ましくは６０〜１００°Ｃに加熱して熱
硬化を行なってもよい。

本発明の光ディスク用オーバーコート剤を用いた、光デ
ィスクの記録膜（例えば、Ｇｄ、　Ｔｂ、　Ｔｅ、Ｇｅ
、Ａｕ、　Ｐｔ、　Ｐｂ、　Ｔｉ、　Ａｇ、　Ｓｅ、　
Ｔｅ０９、Ｆｅ、　Ｃｒ等の合金よりなる。）の保護膜
の形成は、例えば、以下のようにして行うことかできる
。すなわち、光ディスクの記録膜の上に本発明の光ディ
スク用オーバーコート剤を例えばスピンコード法等によ
り塗布し、その後、紫外線を照射し、必要により更に加
熱処理することにより塗膜を硬化させることによって保
護膜（硬化物）か形成される。光ディスクの記録膜の上
に光ディスク用オーバーコート剤を塗布する場合、その
厚さは通常１〜５０μｍ程度とするのか好ましい。

本発明のオーバーコート剤は、紫外線により迅速に硬化
し、硬化物は耐湿性、接着性に優れ、又、本発明のオー
バーコート剤を用いた場合、ディスクのソリの発生が少
ない等の優れた効果を有する。

（実施例）以下、本発明を実施例により具体的に説明する。

なお、実施例中の部は重量部である。

実施例１シクロヘキサン−１，４−ジメチロールジビニルエーテ
ル６０部、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（油化シェ
ルエポキシ（株）製、エピコー）　８２８）４０部、５
Ｐ−１７０（旭電化（株）製、光カチオン重合触媒、プ
ロピレンカーボネート５０％希釈品）０．２部を混合溶
解して、光ディスク用オーバーコート剤を調製した。こ
のオーバーコート剤を光ディスクの記録膜上にスピンコ
ーターで塗布し、高圧水銀灯（日本電池（株）製、２　
ｋｗ）により紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ照射し、該オー
バーコート剤（塗膜）を硬化させた。得られたオーバー
コートされた光ディスクを７０’Ｃて９０％ＲＨの状態
に放置し、耐湿性試験を行ったところ、２０００時間経
過しても記録膜に異常か認められなかった。

実施例２トリエチレングリコールジビニルエーテル５０部、ビス
フェノールＦ型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ（株
）製、エピコー）　８０７）３０部、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ（株）製、エ
ピコート１５４）２０部及び５Ｐ−１７０（旭電化（株
）製、光カチオン重合触媒）０．２部を混合溶解し、光
ディスク用オーバーコート剤を調製した。これを用いて
、実施例１と同様にして、オーバーコートされた光ディ
スクを得た。実施例１と同様にして耐湿性の試験を行っ
た結果、２０００時間経過しても記録膜に異常か認めら
れなかった。

実施例３トリプロピレングリコールジビニルエーテル３０部、シ
クロヘキサン１．４−ジメチロールジビニルエーテル４
０部、トリスフェノールメタントリグリシジルエーテル
３０部及び５Ｐ−１７０（旭電化（株）製、光カチオン
重合触媒）０．１部を混合溶解し、光ディスク用オーバ
ーコート剤を調製した。これを用いて、実施例１と同様
にして、オーバーコートされた光ディスクを得た。実施
例１と同様にして耐湿性の試験を行った結果、２０００
時間経過しても記録膜に異常か認められなかった。

（発明の効果）本発明の光ディスク用オーバーコート剤は、紫外線によ
り迅速に硬化すると共に、硬化して得られる硬化物は、
耐湿性、接着性に優れている。

特許出願人　　日本化薬株式会社

Claims

【特許請求の範囲】１、１分子当り末端に少なくとも２個のビニルエーテル
結合を有するビニルエーテル化合物（Ａ）とエポキシ樹
脂（Ｂ）と光カチオン重合触媒（Ｃ）を含有することを
特徴とする光ディスク用オーバーコート剤。２、請求項１に記載の光ディスク用オーバーコート剤の
硬化物。