JPH04121605A - レーザ干渉計ミラーの取付け方法及び該方法を用いたステージ装置 - Google Patents
レーザ干渉計ミラーの取付け方法及び該方法を用いたステージ装置Info
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- JPH04121605A JPH04121605A JP2241166A JP24116690A JPH04121605A JP H04121605 A JPH04121605 A JP H04121605A JP 2241166 A JP2241166 A JP 2241166A JP 24116690 A JP24116690 A JP 24116690A JP H04121605 A JPH04121605 A JP H04121605A
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- laser interferometer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、レーザ干渉計を用いた各種測定機、または半
導体ウェハもしくは液晶表示パネル等の平板状物体にパ
ターンを形成するための露光装置に関し、特に半導体メ
モリや演算装置の高密度集積回路チップの製造の際に回
路パターンの焼付を行なうべきウニ八等の被露光体の姿
勢を適確に保持して高精度な露光を行なうことがで籾る
露光装置に関する。
導体ウェハもしくは液晶表示パネル等の平板状物体にパ
ターンを形成するための露光装置に関し、特に半導体メ
モリや演算装置の高密度集積回路チップの製造の際に回
路パターンの焼付を行なうべきウニ八等の被露光体の姿
勢を適確に保持して高精度な露光を行なうことがで籾る
露光装置に関する。
［従来技術］
従来この種の装置、例えばレチクル上に描かれたパター
ンをウェハ上に投影するステッパ等の露光装置では、レ
チクルとウニ八との位置合せを行なう機能が備えられて
おり、それにより位置合せを行なった後に露光を行なっ
ていた。
ンをウェハ上に投影するステッパ等の露光装置では、レ
チクルとウニ八との位置合せを行なう機能が備えられて
おり、それにより位置合せを行なった後に露光を行なっ
ていた。
そして、このような位置合せは、−射的には、投影すべ
きパターンが描かれたレチクル等の原板とウェハ等の被
露光体とのずれ量を計測し、その結果に基づいて被露光
体をレーザ測長制御により移動したり、または原板と被
露光体とを移動したりすることにより行なわれていた。
きパターンが描かれたレチクル等の原板とウェハ等の被
露光体とのずれ量を計測し、その結果に基づいて被露光
体をレーザ測長制御により移動したり、または原板と被
露光体とを移動したりすることにより行なわれていた。
この場合レーザ測長月参照ミラーを移動ステージ上に直
接もしくは、取付ブロックを介して、全面もしくは複数
点で単に固定していた。
接もしくは、取付ブロックを介して、全面もしくは複数
点で単に固定していた。
［発明が解決しようとする課題］
ところが、このような装置においては、温度変化によっ
てレーザ測長用ミラーとミラー支持台（もしくは、支持
台の取付はステージ）との伸縮差（線膨張係数差）の違
いからミラーが引っ張られて変形したり、ズしたりする
現象が発生し、その重ね合せ精度（位置決め精度）およ
び他の装置との融通性等に難点があった。
てレーザ測長用ミラーとミラー支持台（もしくは、支持
台の取付はステージ）との伸縮差（線膨張係数差）の違
いからミラーが引っ張られて変形したり、ズしたりする
現象が発生し、その重ね合せ精度（位置決め精度）およ
び他の装置との融通性等に難点があった。
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、ステップ動作
等の動作中の温度変化に対してもウェハ等の被露光体と
ミラーの位置ズレを発生させることなく、極めて高い重
ね合わせ精度、高生産性および高融通性を有する露光装
置の提供を目的とする。
等の動作中の温度変化に対してもウェハ等の被露光体と
ミラーの位置ズレを発生させることなく、極めて高い重
ね合わせ精度、高生産性および高融通性を有する露光装
置の提供を目的とする。
［課題を解決するための手段および作用］上記目的を達
成するため、本発明はミラーを設けたステージのミラー
装着部を平行板ばね形状にする。これにより温度変化に
よるミラーと取付台の伸縮差分を板ばね部分で吸収させ
、ミラーの変形および位置ずれ変化を防止する。
成するため、本発明はミラーを設けたステージのミラー
装着部を平行板ばね形状にする。これにより温度変化に
よるミラーと取付台の伸縮差分を板ばね部分で吸収させ
、ミラーの変形および位置ずれ変化を防止する。
［実施例］
第１図は、本発明に係るレーザ干渉計制御によるＸＹス
テージの概念図であり、第２図はそのミラー取付部を取
り出した図である。第３図は、ミラー取付板（Ｘステー
ジ）をミラーを透視して上から見た図で、ミラー支持部
が一体平行板ばね構造となフている。第４図は、この一
体平行板ばね構造を拡大して具体的に示している。
テージの概念図であり、第２図はそのミラー取付部を取
り出した図である。第３図は、ミラー取付板（Ｘステー
ジ）をミラーを透視して上から見た図で、ミラー支持部
が一体平行板ばね構造となフている。第４図は、この一
体平行板ばね構造を拡大して具体的に示している。
第１図〜第４図において、１はミラー、２はレーザ干渉
計の測長光、３はＸステージ（ミラー取付板）、４はＹ
ステージ、５はモータ、６はミラー固定金具、７はウェ
ハである。８はミラー支持部である。
計の測長光、３はＸステージ（ミラー取付板）、４はＹ
ステージ、５はモータ、６はミラー固定金具、７はウェ
ハである。８はミラー支持部である。
第２図において、ミラー固定金具６により、Ｘステージ
３にミラー１を固定している。
３にミラー１を固定している。
この際、ミラー支持板８の片側は第３図に示すように板
ばね構造としている。この拡大部分を、第４図に示す。
ばね構造としている。この拡大部分を、第４図に示す。
板ばねはＸステージ３と一体構造であり、特にヒンジ部
１０を有する弾性ヒンジ構造となフている。
１０を有する弾性ヒンジ構造となフている。
ここで、温度変化があったことを考えると、例えばミラ
ー１とＸステージ３との伸縮差Δ１が発生したとすると
、第４図のＡ方向に平行板ばねが変形してＢ方向の変動
なく６１分を吸収することが可能となる。
ー１とＸステージ３との伸縮差Δ１が発生したとすると
、第４図のＡ方向に平行板ばねが変形してＢ方向の変動
なく６１分を吸収することが可能となる。
前記実施例はミラー支持部が一体板ばね構造について述
べているが、ステージと別体の一対のばね片を取付けた
分割板ばね構造も可能である。また平行板ばねは１ケ所
となっているが、２ケ所以上設叶た一体型もしくは分離
平行板ばね構造も可能である。
べているが、ステージと別体の一対のばね片を取付けた
分割板ばね構造も可能である。また平行板ばねは１ケ所
となっているが、２ケ所以上設叶た一体型もしくは分離
平行板ばね構造も可能である。
第５図に、分割、および２ケ所平行板ばね構造とした平
面概念図を示す。ミラー支持部８は一対の平行な板ばね
片９ａ、９ｂによりＸステージ３に連結されミラー１を
支持する。このようなミラー支持部がＸステージ３の一
辺について（１つのミラーについて）２ケ所設けられる
。
面概念図を示す。ミラー支持部８は一対の平行な板ばね
片９ａ、９ｂによりＸステージ３に連結されミラー１を
支持する。このようなミラー支持部がＸステージ３の一
辺について（１つのミラーについて）２ケ所設けられる
。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば露光装置において
温度変化に対するミラーの変形、ズレ問題をミラー取付
板の平行板ばね構造により排除することが可能となるた
め、ミラーとステージの相対位置変化が無くなり、極め
て高い検出精度を提供することが可能となる。
温度変化に対するミラーの変形、ズレ問題をミラー取付
板の平行板ばね構造により排除することが可能となるた
め、ミラーとステージの相対位置変化が無くなり、極め
て高い検出精度を提供することが可能となる。
第１図は、本発明の実施例に係るＸＹステージの要部構
成斜視図、 第２図は、第１図のＸＹステージのミラー取付部の拡大
斜視図、 第３図は、本発明の実施例に係るミラー取付板の平面図
、 第４図は、第３図のミラー取付板の平行板ばね部詳細図
、 第５図は、本発明の別の実施例に係るミラー取付板の平
面図である。 １：ミラー ２：レーザ干渉計測長光、 ３：ｘステージ（ミラー取付板）、 ４：Ｙステージ、 ５：モータ、 ６：ミラー固定金具、 ７：ウェハ。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 哲 也 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄 第 図 第 図 第 図 第 図
成斜視図、 第２図は、第１図のＸＹステージのミラー取付部の拡大
斜視図、 第３図は、本発明の実施例に係るミラー取付板の平面図
、 第４図は、第３図のミラー取付板の平行板ばね部詳細図
、 第５図は、本発明の別の実施例に係るミラー取付板の平
面図である。 １：ミラー ２：レーザ干渉計測長光、 ３：ｘステージ（ミラー取付板）、 ４：Ｙステージ、 ５：モータ、 ６：ミラー固定金具、 ７：ウェハ。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 哲 也 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄 第 図 第 図 第 図 第 図
Claims (4)
- （１）位置検出すべき移動ステージの位置を測定するた
めのレーザ干渉計のレーザ光を反射するため前記ステー
ジ上に設けたミラーを具備し、該ミラーは前記ステージ
に対し少なくとも一対の平行板ばねを介して装着された
ことを特徴とする位置検出用レーザ干渉計ミラーの取付
け構造。 - （２）前記平行板ばねは、前記ステージの側辺に該ステ
ージと一体部材の加工により一体形成されたことを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の位置検出用レーザ干
渉計ミラーの取付け構造。 - （３）前記平行板ばねの各ばね片は薄肉加工によるヒン
ジを形成することにより、ステージと一体の弾性部材を
構成することを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の
位置検出用レーザ干渉計ミラーの取付け構造。 - （４）前記平行板ばねは、前記ステージの側辺に該ステ
ージと別体の一対の平行なばね片を取付けて構成したこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の位置検出用
レーザ干渉計ミラーの取付け構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2241166A JP2711589B2 (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | レーザ干渉計用ミラーの取付け方法及び該方法を用いたステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2241166A JP2711589B2 (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | レーザ干渉計用ミラーの取付け方法及び該方法を用いたステージ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04121605A true JPH04121605A (ja) | 1992-04-22 |
| JP2711589B2 JP2711589B2 (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=17070237
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2241166A Expired - Fee Related JP2711589B2 (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | レーザ干渉計用ミラーの取付け方法及び該方法を用いたステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2711589B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002080185A1 (fr) * | 2001-03-28 | 2002-10-10 | Nikon Corporation | Dispositif a etages, dispositif d'exposition et procede de fabrication du dispositif |
| WO2003032047A1 (en) * | 2001-10-04 | 2003-04-17 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Temperature-compensation optical communication interference device and optical communication system |
| JP2005191150A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-14 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
| WO2008056158A3 (en) * | 2006-11-09 | 2009-02-19 | Vistec Lithography Inc | Component mounting in movement-sensitive equipment |
| JP2009065147A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-26 | Soonhan Engineering Corp | スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを有する試料移動ステージ |
| CN104575622A (zh) * | 2013-10-28 | 2015-04-29 | 睿励科学仪器（上海）有限公司 | 用于精密元件的定位调节装置 |
| JP2017167016A (ja) * | 2016-03-17 | 2017-09-21 | 株式会社東京精密 | 光学スケールを有する測長器およびタッチ・プローブ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6116040A (ja) * | 1984-07-03 | 1986-01-24 | Canon Inc | 対物レンズ二次元駆動装置 |
| JPH02203209A (ja) * | 1989-02-02 | 1990-08-13 | Canon Inc | ステージ装置 |
-
1990
- 1990-09-13 JP JP2241166A patent/JP2711589B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
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| JPS6116040A (ja) * | 1984-07-03 | 1986-01-24 | Canon Inc | 対物レンズ二次元駆動装置 |
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| CN104575622B (zh) * | 2013-10-28 | 2017-08-25 | 睿励科学仪器（上海）有限公司 | 用于精密元件的定位调节装置 |
| JP2017167016A (ja) * | 2016-03-17 | 2017-09-21 | 株式会社東京精密 | 光学スケールを有する測長器およびタッチ・プローブ |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2711589B2 (ja) | 1998-02-10 |
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Legal Events
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