JPH04122355U - ガス分析計 - Google Patents
ガス分析計Info
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- JPH04122355U JPH04122355U JP1991036227U JP3622791U JPH04122355U JP H04122355 U JPH04122355 U JP H04122355U JP 1991036227 U JP1991036227 U JP 1991036227U JP 3622791 U JP3622791 U JP 3622791U JP H04122355 U JPH04122355 U JP H04122355U
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3504—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing gases, e.g. multi-gas analysis
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- G—PHYSICS
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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- G01N21/27—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
- G01N21/274—Calibration, base line adjustment, drift correction
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/59—Transmissivity
- G01N21/61—Non-dispersive gas analysers
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Abstract
(57)【要約】
【目的】高価な校正ガス導入切換装置を用意する必要が
ないと共に、一度に多数を試験することがあっても、可
及的に少ない係員によって所定の試験を行うことができ
るガス分析計を提供すること。 【構成】サンプリング流路を介して分析部に対して供給
されるサンプルガスを制御部からの制御指令に基づいて
分析するようにしたガス分析計において、前記サンプリ
ング流路に、ゼロガス供給路とスパンガス供給路とを互
いに並列に接続し、性能試験時、前記ゼロガス供給路お
よびスパンガス供給路に設けられた開閉弁を前記制御部
からの開閉指令に基づいて開閉制御することにより、校
正ガスを所定の手順で前記分析部に対して供給するよう
にしている。
ないと共に、一度に多数を試験することがあっても、可
及的に少ない係員によって所定の試験を行うことができ
るガス分析計を提供すること。 【構成】サンプリング流路を介して分析部に対して供給
されるサンプルガスを制御部からの制御指令に基づいて
分析するようにしたガス分析計において、前記サンプリ
ング流路に、ゼロガス供給路とスパンガス供給路とを互
いに並列に接続し、性能試験時、前記ゼロガス供給路お
よびスパンガス供給路に設けられた開閉弁を前記制御部
からの開閉指令に基づいて開閉制御することにより、校
正ガスを所定の手順で前記分析部に対して供給するよう
にしている。
Description
【0001】
本考案は、ガス分析計に関し、特に、サンプリング流路を介して分析部に対し
て供給されるサンプルガスを制御部からの制御指令に基づいて分析するようにし
たガス分析計の改良に関する。
【0002】
一般に、ガス分析計を工場から出荷し、ユーザーに納入する際しては、ガス分
析計の分析部にゼロガスやスパンガスなどの校正ガスを供給することにより、ド
リフト特性や再現性などの試験を行ってデータを採取し、このデータに基づいて
ガス分析計の性能の確認が行われるが、従来は図4または図5に示すようにして
校正ガスを分析部に供給していた。
【0003】
すなわち、図4に示したものでは、ガス分析計40の内部に設けられたゼロガス
やスパンガスなどの校正ガス導入用の電磁弁41, 42の開閉操作を係員が一定時間
ごとに行うことによって、ゼロガスZやスパンガスSPを分析部43に供給するの
である。
【0004】
また、図5に示したものでは、ガス分析計50の外部に、コントローラ51を内蔵
した校正ガス導入切換装置52を設け、前記コントローラ51によって校正ガス導入
用の電磁弁53, 54, 55を適宜開閉操作することによって、ゼロガスZやスパンガ
スSP1 , SP2 を分析部56に自動的に供給するのである。
【0005】
なお、図4において、44はサンプルガスSを導入するための電磁弁であり、ま
た、図5において、57は校正ガス導入用の電磁弁、58, 59はサンプルガスS1 ,
S2 をそれぞれ導入するための電磁弁である。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、上記前者の手段によれば、電磁弁41, 42を開閉操作するための
係員が必ず必要であり、一度に試験するガス分析計40の台数の増加に伴って多く
の係員が必要となるといった欠点があり、また、上記後者の手段によれば、複数
のガス分析計50を試験する場合における係員の数は少なくて済むものの、ガス分
析計50とは別体構造の校正ガス導入切換装置52を数多く用意する必要があり、そ
の製作コストが高くつくといった問題点がある。
【0007】
ところで、近時のガス分析計においては、その制御部に測定手順を表すプログ
ラムが格納されており、測定時にはこのプログラムに基づいて各種の制御指令が
出力され、これによって所定の分析を行うように構成されていることが多い。
【0008】
本考案は、上述の事柄に留意してなされたもので、その目的とするところは、
高価な校正ガス導入切換装置を用意する必要がないと共に、一度に多数を試験す
ることがあっても、可及的に少ない係員によって所定の試験を行うことができる
ガス分析計を提供することにある。
【0009】
上記目的を達成するため、本考案においては、サンプリング流路を介して分析
部に対して供給されるサンプルガスを制御部からの制御指令に基づいて分析する
ようにしたガス分析計において、前記サンプリング流路に、ゼロガス供給路とス
パンガス供給路とを互いに並列に接続し、性能試験時、前記ゼロガス供給路およ
びスパンガス供給路に設けられた開閉弁を前記制御部からの開閉指令に基づいて
開閉制御することにより、校正ガスを所定の手順で前記分析部に対して供給する
ようにしている。
【0010】
本考案に係るガス分析計においては、ゼロガス供給路およびスパンガス供給路
に設けられた開閉弁を開閉制御するためのプログラムをガス分析計の制御部に格
納しておくことにより、前記開閉弁を所定の手順で開閉操作することができ、こ
れによって、ゼロガスやスパンガスなどの校正ガスを所定の手順で分析部に対し
て自動的に供給することができる。従って、試験に供されるガス分析計の台数が
多くなっても、従来のように、開閉弁を開閉操作するための係員を多く必要とす
ることがないと共に、高価な校正ガス導入切換装置を用意する必要がない。
【0011】
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明する。なお、以下の図において、
図4または図5に示した符号と同一の符号は同一物または相当物を示している。
【0012】
図1は、本考案に係るガス分析計の構成の概略を示す図で、この図において、
1はサンプリング装置で、サンプルガスSや、ゼロガスZやスパンガスSPなど
の校正ガスCを導入するもので、その構成については後述する。
【0013】
2は分析部で、詳細には図示してないが、例えばサンプリング装置1から供給
されるサンプルガスSなどを収容すると共に、赤外光透過性の窓を備えたセルと
、このセルの一方からセルに向けて例えば赤外光を照射する赤外光源と、セルの
他方に配置され、セルを透過した赤外光を受光する検出器からなる。3は前記分
析部2の検出器から出力される信号を適宜増幅するアンプである。
【0014】
4はガス分析計の動作全体を制御するための制御部としてのCPUである。こ
のCPU4内には、測定手順を表すプログラムや、測定時において前記アンプ3
を介して入力される検出器出力を分析処理するプログラムが格納されると共に、
出荷前に行われる性能試験時において前記サンプリング装置1に設けられた切換
え弁や開閉弁(何れも後述する)の開閉制御を行うためのプログラムや、前記性
能試験時において前記アンプ3を介して入力される検出器出力を分析処理するプ
ログラムが格納されている。
【0015】
5はCPU4からの出力を記録したり、表示する記録・表示部である。そして
、aは前記CPUからサンプリング装置1に対して出力される開閉指令など各種
の制御指令を表し、また、Ex は前記セルから排出されるガスを表す。
【0016】
図2は、前記サンプリング装置1の一構成例を概略的に示すもので、この図に
示す実施例においては、第1測定成分〜第3測定成分の3種類の測定成分を測定
できる所謂3成分計用に構成されている。この図において、6は分析部2のセル
にサンプルガスSを供給するためのサンプリング流路で、切換え弁としての三方
電磁弁7が設けられている。この三方電磁弁7は、その一つの入口ポート7aが図
外のサンプルガス流路に連なるように、そして、出口ポート7bが前記セルに連な
るように、また、他の入口ポート7cが後述する校正ガス流路8に連なるように、
サンプリング流路6に介装されている。
【0016】
8は前記三方電磁弁7を介してゼロガスZやスパンガスSPなどの校正ガスを
分析部2に供給するための校正ガス流路で、この校正ガス流路8は、例えば一つ
のゼロガス供給路9と、3つのスパンガス供給路10, 11, 12とを互いに並列に接
続して構成されている。そして、各ガス供給路9〜12に、開閉弁としての二方電
磁弁13, 14, 15, 16を介してゼロガスボンベ17, 第1測定成分に対応する第1ス
パンガスを収容したボンベ18, 第2測定成分に対応する第2スパンガスを収容し
たボンベ19, 第3測定成分に対応する第3スパンガスを収容したボンベ20がそれ
ぞれ設けられている。
【0017】
而して、上記構成のガス分析計において、例えば3つの測定成分についての再
現性試験を行うには、CPU4からサンプリング装置1に対して、次のような開
閉指令を出力して、三方電磁弁7、二方電磁弁13, 14, 15, 16を開閉制御するこ
とにより、ゼロガスZやスパンガスSPなどの校正ガスCを所定の手順で分析部
2に対して自動的に供給するのである。
【0018】
先ず、三方電磁弁7を、その入口ポート7cと出口ポート7bとが連通するよ
うに開にすると共に、二方電磁弁13のみを開き、これらを例えば3分間開状態と
する。次いで、三方電磁弁7および二方電磁弁14のみをそれぞれ3分間開く。
【0019】
上記に示した動作を繰り返して3回連続的に行い、そのときの検出器出力を
CPU4内において分析処理することにより、例えば図3に示すように、第1測
定成分に関する指示記録を得ることができる。なお、図3において、sp11,s
p12,sp13は第1スパンガスSP1 を3回供給したときにおける分析濃度信号
を、また、zはゼロガスZを3回供給したときにおける分析濃度信号を、それぞ
れ示す。
【0020】
そして、三方電磁弁7および二方電磁弁13のみをそれぞれ例えば3分間開
き、次いで、三方電磁弁7および二方電磁弁15のみをそれぞれ3分間開く。
【0021】
上記に示した動作を繰り返して3回連続的に行うことにより、第2測定成分
に関する指示記録を同様に得ることができる。
【0022】
さらに、三方電磁弁7および二方電磁弁13のみをそれぞれ例えば3分間開
き、次いで、三方電磁弁7および二方電磁弁16のみをそれぞれ3分間開く。
【0023】
上記に示した動作を繰り返して3回連続的に行うことにより、第3測定成分
に関する指示記録を同様に得ることができる。
【0024】
上述のように、前記〜の動作を連続的に行うことにより、第1測定成分〜
第3測定成分の指示記録を得ることができ、3つの測定成分についての再現性試
験を自動的に行うことができる。なお、他の性能試験についても同様に行えるこ
とは云うまでもない。
【0025】
そして、このガス分析計で例えば煙道排ガスを分析する場合には、三方電磁弁
7を、その入口ポート7aと出口ポート7bとが連通するように開にして、サンプル
ガスSを分析部2に供給すればよい。
【0026】
本考案は、上述の3成分計に限られるものではないことは云うまでもない。そ
して、切換え弁として三方電磁弁7以外の部材を用いたり、また、開閉弁として
二方電磁弁13〜16以外の部材を用いてもよい。
【0027】
以上説明したように、本考案によれば、ゼロガス供給路およびスパンガス供給
路に設けられた開閉弁は、ガス分析計の通常の測定手順などを格納した制御部に
格納されたプログラムに従って自動的に開閉制御され、ゼロガスやスパンガスな
どの校正ガスを所定の手順で分析部に対して自動的に供給できるので、性能試験
に供されるガス分析計の台数が多くなっても、従来技術と異なり、多数の係員に
よることなく所定の項目を自動的に試験することができる。
【0028】
そして、従来と異なり、高価な校正ガス導入切換装置を用意する必要がないの
でコストダウンが図れ、また、前記開閉弁を開閉制御するためのプログラムは、
ガス分析計の制御部に格納しておくだけでよく、新たに部品などを設ける必要が
ないので、コストアップになることがないといった利点がある。
【図1】本考案に係るガス分析計の一構成例を概略的に
示す図である。
示す図である。
【図2】前記ガス分析計におけるサンプリング装置の一
構成例を示す配管系統図である。
構成例を示す配管系統図である。
【図3】本考案の動作説明図である。
【図4】従来技術を説明するための図である。
【図5】従来技術を説明するための図である。
2…分析部、4…制御部、6…サンプリング流路、9…
ゼロガス供給路、10,11, 12…スパンガス供給路、13, 1
4, 15, 16…開閉弁、S…サンプルガス、C…校正ガ
ス、a…制御指令。
ゼロガス供給路、10,11, 12…スパンガス供給路、13, 1
4, 15, 16…開閉弁、S…サンプルガス、C…校正ガ
ス、a…制御指令。
Claims (1)
- 【請求項1】 サンプリング流路を介して分析部に対し
て供給されるサンプルガスを制御部からの制御指令に基
づいて分析するようにしたガス分析計において、前記サ
ンプリング流路に、ゼロガス供給路とスパンガス供給路
とを互いに並列に接続し、性能試験時、前記ゼロガス供
給路およびスパンガス供給路に設けられた開閉弁を前記
制御部からの開閉指令に基づいて開閉制御することによ
り、校正ガスを所定の手順で前記分析部に対して供給す
るようにしたことを特徴とするガス分析計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991036227U JP2601977Y2 (ja) | 1991-04-20 | 1991-04-20 | ガス分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991036227U JP2601977Y2 (ja) | 1991-04-20 | 1991-04-20 | ガス分析計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04122355U true JPH04122355U (ja) | 1992-11-02 |
| JP2601977Y2 JP2601977Y2 (ja) | 1999-12-13 |
Family
ID=31918218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991036227U Expired - Lifetime JP2601977Y2 (ja) | 1991-04-20 | 1991-04-20 | ガス分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2601977Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2518466A4 (en) * | 2009-12-25 | 2017-12-27 | Horiba, Ltd. | Gas analysis device |
| CN113396328A (zh) * | 2019-02-22 | 2021-09-14 | 株式会社日立高新技术 | 分析装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6311633U (ja) * | 1986-07-09 | 1988-01-26 |
-
1991
- 1991-04-20 JP JP1991036227U patent/JP2601977Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6311633U (ja) * | 1986-07-09 | 1988-01-26 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2518466A4 (en) * | 2009-12-25 | 2017-12-27 | Horiba, Ltd. | Gas analysis device |
| CN113396328A (zh) * | 2019-02-22 | 2021-09-14 | 株式会社日立高新技术 | 分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2601977Y2 (ja) | 1999-12-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |