JPH04127968A - ガスシールドアーク溶接トーチ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ 〈産業上の利用分野〉 本発明は、溶接母材とコンタクトチューブの先端から供
給される電極ワイヤとの間に発生するアーク放電を利用
してアーク溶接を行う際にシールドガスにて溶接部分を
覆うガスシールドアーク溶接の溶接トーチに関し、特に
溶接時に発生するスパッタの溶接トーチへの付着、堆積
を好適に防止し得るガスシールドアーク溶接トーチに関
する。

〈従来の技術〉 従来から、溶接母材に向けて先端部から電極ワイヤを供
給するコンタクトチューブと、筒状のガスガイド部をも
ってコンタクトチューブの外周を覆うように郭成された
シールドガス供給路とを有する溶接トーチを用い、上記
ガス供給路から不活性ガスを溶接部に吹き付け、この不
活性ガスでシールドされた空間内にて上記電極ワイヤと
溶接母材との間にアーク放電を発生させ、溶接を行うガ
スシールドアーク溶接が行われている（例えば特開昭５
１−７４９３９号公報参照）。

上記したようなガスシールドアーク溶接に於ては、溶接
部からスパッタが溶接トーチに向けて飛散し、このスパ
ッタがガスガイド部材やコンタクトチューブ等の先端に
付着するとシールドガスのガス流が乱れるばかりでなく
、場合によってはシールドガスの供給路の一部を閉塞し
てしまう虞れがあった。

そこで、コンタクトチューブの先端やガスガイド部材の
先端に剥離材を塗布することが行われていた。しかしな
がら、スパッタがコンタクトチューブやガスガイド部材
に付着すること自体は防止できるが、特に上向きや横向
きの溶接作業時にガス供給路にスパッタが侵入して堆積
すると上記同様にシールドガスのガス流を乱す問題があ
り、このスパッタを取除く作業が煩雑になりがちであっ
た。

〈発明が解決しようとする課題〉 このような従来技術の問題点に鑑み、本発明の主な目的
は、溶接トーチのガス供給路にスパッタが堆積すること
のないガスシールドアーク溶接トーチを提供することに
ある。

［発明の構成］ 〈課題を解決するための手段〉 このような目的は、本発明によれば、先端部から溶接母
材に向けて電極ワイヤを供給するコンタクトチューブと
、前記溶接母材に向けてシールドガスを噴射するべく前
記コンタクトチューブの外周にガスガイド部材をもって
郭成されたシールドガス供給路とを有するガスシールド
アーク溶接トーチであって、前記シールドガス供給路が
当該トーチの前記先端だけでなく基端にも解放されると
共にシールドガスが前記ガス供給路の中間部から前記各
端に向けて供給されることを特徴とするガスシールドア
ーク溶接トーチを提供することにより達成される。

〈作用〉 このようにすれば、ガス供給路に飛散したスパッタがガ
ス供給路の基端側から外部に排出され、該ガス供給路に
堆積することがない。

〈実施例〉 以下、本発明の好適実施例を添付の図面について詳しく
説明する。

第１図及び第２図はＭＩＧ自動溶接装置に於ける本発明
が適用された溶接トーチの第１の実施例を示す。溶接ト
ーチ１の中央部にはコンタクトチューブ２が設けられ、
その中央に開設された軸線方向に沿って延在する中央通
孔３には第１図に於ける上方から図示されないリール等
により供給される電極ワイヤ４が軸線方向にのみ移動可
能にガイドされつつ挿通されている。コンタクトチュー
ブ２の外周には、筒状のガスガイド部材５がコンタクト
チューブ２と所定の間隔をもって設けられ、リブ６をも
って該コンタクトチューブ２に固着されている。このガ
スガイド部材５の先端５ａはやや縮径しつつコンタクト
チューブ２の先端２ａ近傍にて開口している。また、ガ
スガイド部材５の基端５ｂはコンタクトチューブ２の中
間部にてやや拡径しつつ開口しており、このガスガイド
部材５の内周面とコンタクトチューブ２の外周面との間
にはシールドガス供給路７が郭成されている。

このガス供給路７はその先端７ａだけでなく基端７ｂも
解放されている。

コンタクトチューブ２に於ける中央通孔３の周囲には軸
線方向に延在する複数のガス通路８が設けられている。

このガス通路８の先端８ａはガス供給路７の中間部にて
例えばアルゴンガスからなるシールドガスを下向きに噴
射するように開口している。また、ガス供給路７の比較
的上側の中間部には、ガス通路８の中間部８ｂが半径方
向に向けて開口し、シールドガスをガス供給路７の先端
７ａ側及び基端７ｂ側に供給するようになっている。

このような溶接トーチ１を上向きまたは横向きにしてア
ーク溶接する場合、ガス供給路７にスパッタが侵入して
もガス供給路７の先端７ａ及び基端７ｂが開放され、吹
き抜けとなっていることから、スパッタは基端７ｂ側か
ら外部に排出される。

従って、ガス供給路７内にスパッタが堆積せずシールド
ガスの流れを阻害することがない。また、シールドガス
がガス供給路７の先端７ａ側だけでなく基端７ｂ側に向
けても供給されていることから、基端７ｂ側から外気が
シールドガスに混入する心配がない。

第３図は本発明が適用されたガスシールドアーク溶接ト
ーチの第２の実施例を示しており、第１の実施例と同様
な部分には同一の符号を付しその詳細な説明を省略する
。本実施例では、溶接トーチ１０の第１の実施例と同様
なガスガイド部材５の更に外周に第２のガスガイド部材
１１を設け、これらの間に第２のガス供給路１３が郭成
されている。

第２のガスガイド部材１１の上側部分外周にはガス通路
１４が郭成されている。このガス通路１４から第２のガ
ス供給路１３の中間部には該供給路１３の先端１３ａ側
に向けて斜めに穿設された通孔１４ａを介して例えば二
酸化炭素からなるシールドガスが供給されるようになっ
ている。また、ガス通路１４からガス供給路１３の比較
的上側の中間部に於ては、半径方向に向けて穿設された
通孔１４ｂを介して、上記シールドガスが先端１３ａ側
及び基端１３ｂ側に供給されるようになっている。それ
以外の構成は第１の実施例と同様である。

［発明の効果コ このように本発明によれば、溶接トーチのガス供給路に
侵入したスパッタを容易に外部に排出することが可能と
なることから、溶接トーチのガス供給路にスパッタが堆
積せず、シールドガスの流れが円滑になるため、ガスシ
ールドアーク溶接に於ける作業性が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明が適用されたガスシールドアーク溶接ト
ーチの第１の実施例を示す側断面図である。 第２図は第１図の■−■線について見た平面断面図であ
る。 第３図は本発明が適用されたガスシールドアーク溶接装
置の第２の実施例を示す第１図と同様な側断面図である
。 １・・・溶接トーチ、２・・・コンタクトチューブ、２
ａ・・・先端、３・・・通孔、４・・・電極ワイヤ、５
・・・ガスガイド部材、５ａ・・・先端、５ｂ・・・基
端、６・・・リブ、７・・・ガス供給路、７ａ・・・先
端、７ｂ・・・基端、８・・・ガス通路、８ａ・・・先
端、８ｂ・・・中間部、１，０・・・溶接トーチ、１１
・・・第２のガスガイド部材、１３・・・第２のガス供
給路、１３ａ・・・先端、１３ｂ・・・基端、１４・・
・ガス通路、１４ａ、１４ｂ・・・通孔時　許　出　願
　人　　千代田化工建設株式会社代理人弁理士　大島陽
−（外１名） 第３図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）先端部から溶接母材に向けて電極ワイヤを供給す
   るコンタクトチューブと、前記溶接母材に向けてシール
   ドガスを噴射するべく前記コンタクトチューブの外周に
   ガスガイド部材をもって郭成されたシールドガス供給路
   とを有するガスシールドアーク溶接トーチであって、 前記シールドガス供給路が当該トーチの前記先端だけで
   なく基端にも解放されると共にシールドガスが前記ガス
   供給路の中間部から前記各端に向けて供給されることを
   特徴とするガスシールドアーク溶接トーチ。
2. （２）前記ガス供給路が、前記コンタクトチューブの外
   周に郭成された第１のガス供給路と、前記ガスガイド部
   材の外周に第２のガスガイド部材をもって郭成された第
   ２のガス供給路とを有し、前記両ガス供給路が前記先端
   だけでなく基端にも解放されると共にシールドガスが前
   記各ガス供給路の中間部から前記各端に向けて供給され
   ることを特徴とする請求項１に記載のガスシールドアー
   ク溶接トーチ。