JPH04128279A - 三重結合含有グリシジルエーテル化合物 - Google Patents
三重結合含有グリシジルエーテル化合物Info
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- JPH04128279A JPH04128279A JP25092490A JP25092490A JPH04128279A JP H04128279 A JPH04128279 A JP H04128279A JP 25092490 A JP25092490 A JP 25092490A JP 25092490 A JP25092490 A JP 25092490A JP H04128279 A JPH04128279 A JP H04128279A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
木見皿■公団
本発明は、同一分子内に三重結合およびグリシジルエー
テル基を併有する化合物または樹脂に関する。このよう
な化合物または樹脂はこれらの官能基に適した異なる反
応機構番こよって硬化させることができる樹脂組成物原
料として有用である。
テル基を併有する化合物または樹脂に関する。このよう
な化合物または樹脂はこれらの官能基に適した異なる反
応機構番こよって硬化させることができる樹脂組成物原
料として有用である。
豆晟茨仇
エチニル基やプロパルギル基のような三重結合を有する
化合物は、三重結合の開裂によって共役系を有するポリ
マーへ重合し得ることが知られている。そのような化合
物はその重合メカニズムおよび生成するポリマーの特異
な物理的、電気的性質のため塗料、電気電子機器等の分
野で非揮散性自己硬化性樹脂として最近注目されている
。
化合物は、三重結合の開裂によって共役系を有するポリ
マーへ重合し得ることが知られている。そのような化合
物はその重合メカニズムおよび生成するポリマーの特異
な物理的、電気的性質のため塗料、電気電子機器等の分
野で非揮散性自己硬化性樹脂として最近注目されている
。
特開昭５６−５４７２には、式
％式％
で表わされる二価フェノールのジ（ヒドロキシ脂肪族）
エーテルのジグリシジルエーテルが記載されている。こ
の化合物の硬化メカニズムは通常のエポキシ樹脂と同様
に、ポリアミンまたは酸無水物による硬化またはイオン
重合によって硬化し得ると記載されている。
エーテルのジグリシジルエーテルが記載されている。こ
の化合物の硬化メカニズムは通常のエポキシ樹脂と同様
に、ポリアミンまたは酸無水物による硬化またはイオン
重合によって硬化し得ると記載されている。
本発明は、このようなグリシジル基を有する化合物に三
重結合を有する基を導入し、二つの異なる硬化メカニズ
ムによって硬化し得る非揮散性樹脂原料を捷供すること
を目的とする。
重結合を有する基を導入し、二つの異なる硬化メカニズ
ムによって硬化し得る非揮散性樹脂原料を捷供すること
を目的とする。
木見皿皇Ｍ丞
本発明は、−数式
〔式中Ｒ；１）炭素数１〜２０のアルキレン基。
フェニレン基、またはナフチレン基（
置換又は非置換）；
２）１個もしくは、２個の炭素−炭素
結合、エーテル酸素原子、硫黄原子、
スルホニル基、スルホキシド基、カル
ボニル基または、炭素数１〜５のアル
キレン基で結合された２個もしくは３
個のフェニレン基からなる基を表し、
未置換もしくは、各々炭素原子数１〜
４０１個もしくは２個のアルキル基ま
たは、Ｃ１原子、Ｂｒ原子の１個もし
くは、２個によって１個の環もしくは
複数の環が置換されていてもよい。
または、
３ ） −（ＣＨｔＣＨｘ−０）ｐ−ＣＨｚ−ＣＩｘ−
−（Ｃｌｈ−Ｃ１ｈ−ＣＨｇ−ＣＨｇ−０） ｒ−ＣＴ
ｏ−ＣＨｇ−ＣＨｇ−ＣＨｇ−Ｒ言 ；独立に水素かまたは三重合を 持たない炭化水素基； ｎ、ｐ、Ｑ＋ ｒ；０〜２０の整数〕で示されている
三重結合含有グリシジルエーテル化合物に関する。
−（Ｃｌｈ−Ｃ１ｈ−ＣＨｇ−ＣＨｇ−０） ｒ−ＣＴ
ｏ−ＣＨｇ−ＣＨｇ−ＣＨｇ−Ｒ言 ；独立に水素かまたは三重合を 持たない炭化水素基； ｎ、ｐ、Ｑ＋ ｒ；０〜２０の整数〕で示されている
三重結合含有グリシジルエーテル化合物に関する。
また本発明は、分子内に少なくとも１個のグリシジル基
を有する化合物に、式 Ｒ１ （式中、Ｒ１およびＲｚは独立に水素か、またしよ三重
結合を持たない炭化水素基を意味する。）のアルコール
を反応させてグリシジＪしを開環し、式％式％ ジプロピル基に変換し、次に式（Ｉｔ）の基の２級アル
コール性水酸基を３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル
エーテル化した後脱塩酸し、式の特性基に変換すること
を特徴とする前記した三重結合含有グリシジルエーテル
化合物の製造法に関する。
を有する化合物に、式 Ｒ１ （式中、Ｒ１およびＲｚは独立に水素か、またしよ三重
結合を持たない炭化水素基を意味する。）のアルコール
を反応させてグリシジＪしを開環し、式％式％ ジプロピル基に変換し、次に式（Ｉｔ）の基の２級アル
コール性水酸基を３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル
エーテル化した後脱塩酸し、式の特性基に変換すること
を特徴とする前記した三重結合含有グリシジルエーテル
化合物の製造法に関する。
■縦星犠孟
分子内に少なくとも１個のグリシジル基を有する化合物
の典型例はビスフェノールのジグリシジルエーテルであ
る。式（１）のアルコールの典型例はプロパルギルアル
コール（Ｒ’ ＝Ｒ” ＝Ｈ）である、これらの化合物
を使って本発明の化合物の合成経路を特性基の反応によ
って示すと以下のとおりである。
の典型例はビスフェノールのジグリシジルエーテルであ
る。式（１）のアルコールの典型例はプロパルギルアル
コール（Ｒ’ ＝Ｒ” ＝Ｈ）である、これらの化合物
を使って本発明の化合物の合成経路を特性基の反応によ
って示すと以下のとおりである。
工丘人
（ＩＶ）
（以下余白）
ユＪＪ
（Ｖ）
ユｆｉｆｌ
ＨＣＩ
（Ｖ） −→−０−ＣＨｇ−ＣＩ−ＣＨｘ−０−ＣＨ
ｚ−ＣミＣ８以下これら工程を追って合成法を説明する
。
ｚ−ＣミＣ８以下これら工程を追って合成法を説明する
。
工程Ａ：
分子内に少なくとも１個のグリシジル基を有する化合物
の典型例は、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビ
スフェノールＦ、それらの核ハロゲン置換体等ビスフェ
ノール類のジグリシジルエーテルである。ブタンジオー
ル、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、水添
ヒスフェノールＡ等のグリコール類のジグリシジルエー
テル；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノール
とアルキレンオキサイドとの付加物のポリエーテルグリ
コール類のジグリシジルエーテルも使用し得る。
の典型例は、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビ
スフェノールＦ、それらの核ハロゲン置換体等ビスフェ
ノール類のジグリシジルエーテルである。ブタンジオー
ル、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、水添
ヒスフェノールＡ等のグリコール類のジグリシジルエー
テル；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノール
とアルキレンオキサイドとの付加物のポリエーテルグリ
コール類のジグリシジルエーテルも使用し得る。
他の原料エポキシ化合物としては、
（ポリ）グリシジルエステル化合物としてシュウ酸、コ
ハク酸、アジピン酸、ヘキサヒドロフタル酸、４−メチ
ルへキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、フタ
ル酸、イソフタル酸およびテレフタル酸から誘導される
グリシジルエステル化合物が挙げられる。
ハク酸、アジピン酸、ヘキサヒドロフタル酸、４−メチ
ルへキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、フタ
ル酸、イソフタル酸およびテレフタル酸から誘導される
グリシジルエステル化合物が挙げられる。
（ポリ）Ｎ−グリシジル化合物としては、アニリン、ｎ
−ブチルアミン、ビス（４−アミノフェニル）メタン、
ビス（４−アミノフェニル）スルホンから誘導されるＮ
−１１換グリシジル化合物が挙げられる。
−ブチルアミン、ビス（４−アミノフェニル）メタン、
ビス（４−アミノフェニル）スルホンから誘導されるＮ
−１１換グリシジル化合物が挙げられる。
環式およびアクリル系エポキシ化合物として、ビニルシ
クロヘキセンジオキシド、ジシクロペンタジェンオキシ
ドなどが挙げられる。
クロヘキセンジオキシド、ジシクロペンタジェンオキシ
ドなどが挙げられる。
モノグリシジルエーテル化合物、例えばフェノ−ル、ア
ルキルフェノール、Ｃ４Ｃ２０アルカノール等のモノグ
リシジルエーテルも使用し得る。
ルキルフェノール、Ｃ４Ｃ２０アルカノール等のモノグ
リシジルエーテルも使用し得る。
式（Ｉ）のアルコールの典型例はプロパルギルアルコー
ルである。さらにそのα位の炭素原子に１個または２個
の置換基（Ｒ’ 、Ｒ” ）が置換した誘導体を使用す
ることもできる。そのような置換基は、ＣＩ ＣＩ
（＋アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール
、アラルキル等の三重結合を持たない炭化水素基である
。
ルである。さらにそのα位の炭素原子に１個または２個
の置換基（Ｒ’ 、Ｒ” ）が置換した誘導体を使用す
ることもできる。そのような置換基は、ＣＩ ＣＩ
（＋アルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール
、アラルキル等の三重結合を持たない炭化水素基である
。
グリシジル化合物と式（１）のアルコールとの反応は、
３級アミン、４級アンモニウム塩、アルカリ金属水酸化
物のような塩基性触媒の存在下、溶媒中または無溶媒で
８０℃〜１８０°Ｃの範囲内の温度に加熱することによ
って行うことができる。
３級アミン、４級アンモニウム塩、アルカリ金属水酸化
物のような塩基性触媒の存在下、溶媒中または無溶媒で
８０℃〜１８０°Ｃの範囲内の温度に加熱することによ
って行うことができる。
溶媒の代わりに式（１）のアルコールを過剰に使用し、
反応後留去してもよい。
反応後留去してもよい。
工程Ｂおよび工程Ｃ：
これらの工程は二段法で別々に、または−段法で同時に
実施することができる。
実施することができる。
二段法においては、Ａ工程の生成物をルイス酸触媒（例
えば三フッ化ホウ素またはその錯体、塩化第二スズなど
）の存在下エピクロルヒドリンまたはグリセロール−１
，３−ジクロルヒドリンと反応させ、Ａ工程の生成物の
式（ｎ）の基中の２級アルコール性水酸基を３−クロロ
−２−ヒドロキシプロピルエーテル化し、次いで該エー
テルをアルカリで処理してオキシラン環へ閉環させる。
えば三フッ化ホウ素またはその錯体、塩化第二スズなど
）の存在下エピクロルヒドリンまたはグリセロール−１
，３−ジクロルヒドリンと反応させ、Ａ工程の生成物の
式（ｎ）の基中の２級アルコール性水酸基を３−クロロ
−２−ヒドロキシプロピルエーテル化し、次いで該エー
テルをアルカリで処理してオキシラン環へ閉環させる。
アルカリとしては水酸化ナトリウムが普通であるが、水
酸化バリウム、炭酸ナトリウム等の他のアルカリも使用
し得る。エピクロルヒドリンは過剰、例えば１，５ない
しｌＯ当量使用するのが好ましい。
酸化バリウム、炭酸ナトリウム等の他のアルカリも使用
し得る。エピクロルヒドリンは過剰、例えば１，５ない
しｌＯ当量使用するのが好ましい。
−段法は、工程Ａの生成物と過剰のエピクロルヒドリン
とを、アルカリ（典型的には水酸化ナトリウム）及び相
間移動触媒（典型的にはメチルトリオクチルアンモニウ
ムクロライド、メチルトリデシルアンモニウムクロライ
ド、テトラメチルアンモニウムクロライド等）または３
級アミンまたは４級アンモニウム塩基（例えばベンジル
トリメチルアンモニウムヒドロキシド）の存在下反応さ
せる。その際過剰のエピクロルヒドリンの一部はグリシ
ジルエーテルへ閉環する際に発生する塩化水素を吸収し
、グリセロール−１，３−ジクロルヒドリンとなる。
とを、アルカリ（典型的には水酸化ナトリウム）及び相
間移動触媒（典型的にはメチルトリオクチルアンモニウ
ムクロライド、メチルトリデシルアンモニウムクロライ
ド、テトラメチルアンモニウムクロライド等）または３
級アミンまたは４級アンモニウム塩基（例えばベンジル
トリメチルアンモニウムヒドロキシド）の存在下反応さ
せる。その際過剰のエピクロルヒドリンの一部はグリシ
ジルエーテルへ閉環する際に発生する塩化水素を吸収し
、グリセロール−１，３−ジクロルヒドリンとなる。
両方法において、反応は炭化水素、エーテルまたはケト
ンのような溶媒中で実施することができる。−段法にお
いては、前記塩化水素吸収剤および溶媒として２．５な
いし１０モル過剰のエピクロルヒドリンを使用するのが
好ましい。反応温度は一般に４０°Ｃないし溶媒の沸点
までの温度で実施し得る。
ンのような溶媒中で実施することができる。−段法にお
いては、前記塩化水素吸収剤および溶媒として２．５な
いし１０モル過剰のエピクロルヒドリンを使用するのが
好ましい。反応温度は一般に４０°Ｃないし溶媒の沸点
までの温度で実施し得る。
生成物は常法によって精製することができるが、工程Ｃ
において完全に閉環しないクロルヒドリンエーテルや、
開環後加水分解された副生成物を含む不純物のまま樹脂
原料として用いることもできる。
において完全に閉環しないクロルヒドリンエーテルや、
開環後加水分解された副生成物を含む不純物のまま樹脂
原料として用いることもできる。
本発明の化合物は、エポキシ樹脂の硬化荊またはイオン
重合触媒を用いて硬化させることもできるし、また各種
金属触媒、開始剤、光、γ線、電子線照射などによって
重合させることもできる。
重合触媒を用いて硬化させることもできるし、また各種
金属触媒、開始剤、光、γ線、電子線照射などによって
重合させることもできる。
そのため塗料用、電気電子材料用、構造材用、非線形光
学材料用などの非揮散型樹脂原料として有用である。
学材料用などの非揮散型樹脂原料として有用である。
以下に本発明の実施例のいくつかを示す。
実施例１
攪はん機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を取り
付けたフラスコに、ビス（４−グリシジルオキシフェニ
ル）プロパン１７０．０ｇ、プロパルギルアルコール２
２４．０ｇ、ベンジル−ジメチルアミン１．０ｇを加え
、１１５℃に昇温し、反応させた。塩酸−ジオキサン法
によるエポキシ当量の測定を行い、エポキシ基が消失す
るまで反応させた。そのあと過剰のプロパルギルアルコ
ールを真空ポンプを用いて完全に留去した。その後、エ
ピクロルヒドリン７４０．０ｇ、テトラメチルアンモニ
ウムクロライド４．０ｇを加え、５０℃に昇温し、５０
％水酸化ナトリウム水溶液８６．０ｇ（１，０モル）を
２時間かけて滴下し、減圧下、水をエビクロルヒドリン
との共沸混合物として連続的に除去しながら、反応をさ
らに４時間継続した。過剰のエピクロルヒドリンを減圧
留去し、反応物にトルエンを加え、反応により生成した
塩化ナトリウムを水／トルエンにより分液除去した。そ
の後、トルエンを減圧留去し、エポキシ当量２９０（理
論値２８３）の目的物を得た。収率９０．０％Ｉ Ｒ（
Ｃ１１−’） ： ＣＨ＝Ｃ−（３３００，２１００） ＣＨｓ （２９００） −Ｐｈ−（１６００，１５００） Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ）： Ｃ且ｓ （１，６２） Ｃ且ＥＣ−（２，４４） ／ ＼ ＣＨ，−ＣＨ− （２，６〜２．８） ／ ＼ ＣＨＩ −ＣＨ− （３，２０） 二ＣＣＨｔ （４，１９） ｐｈ−且（６，８０〜７．１３ ） 実施例２ ン 撹はん機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を取り
付けたフラスコに、ビス（４−グリシジルオキシフェニ
ル）メタン１５５．０ｇ、プロパルギルアルコール２２
４．０ｇ、テトラメチルアンモニウムクロライド１．０
ｇを加え、１１５°Ｃに昇温し、反応させた。塩酸−ジ
オキサン法によるエポキシ当量の測定を行い、エポキシ
基が消失するまで反応させた。そのあと過剰のプロパル
ギルアルコールを真空ポンプを用いて完全に留去した。
付けたフラスコに、ビス（４−グリシジルオキシフェニ
ル）プロパン１７０．０ｇ、プロパルギルアルコール２
２４．０ｇ、ベンジル−ジメチルアミン１．０ｇを加え
、１１５℃に昇温し、反応させた。塩酸−ジオキサン法
によるエポキシ当量の測定を行い、エポキシ基が消失す
るまで反応させた。そのあと過剰のプロパルギルアルコ
ールを真空ポンプを用いて完全に留去した。その後、エ
ピクロルヒドリン７４０．０ｇ、テトラメチルアンモニ
ウムクロライド４．０ｇを加え、５０℃に昇温し、５０
％水酸化ナトリウム水溶液８６．０ｇ（１，０モル）を
２時間かけて滴下し、減圧下、水をエビクロルヒドリン
との共沸混合物として連続的に除去しながら、反応をさ
らに４時間継続した。過剰のエピクロルヒドリンを減圧
留去し、反応物にトルエンを加え、反応により生成した
塩化ナトリウムを水／トルエンにより分液除去した。そ
の後、トルエンを減圧留去し、エポキシ当量２９０（理
論値２８３）の目的物を得た。収率９０．０％Ｉ Ｒ（
Ｃ１１−’） ： ＣＨ＝Ｃ−（３３００，２１００） ＣＨｓ （２９００） −Ｐｈ−（１６００，１５００） Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ）： Ｃ且ｓ （１，６２） Ｃ且ＥＣ−（２，４４） ／ ＼ ＣＨ，−ＣＨ− （２，６〜２．８） ／ ＼ ＣＨＩ −ＣＨ− （３，２０） 二ＣＣＨｔ （４，１９） ｐｈ−且（６，８０〜７．１３ ） 実施例２ ン 撹はん機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を取り
付けたフラスコに、ビス（４−グリシジルオキシフェニ
ル）メタン１５５．０ｇ、プロパルギルアルコール２２
４．０ｇ、テトラメチルアンモニウムクロライド１．０
ｇを加え、１１５°Ｃに昇温し、反応させた。塩酸−ジ
オキサン法によるエポキシ当量の測定を行い、エポキシ
基が消失するまで反応させた。そのあと過剰のプロパル
ギルアルコールを真空ポンプを用いて完全に留去した。
その後、８０℃に昇温し、ＢＦｓＯ（ＣｔＨｓ）ｘ ０
．５ ｇを加え、エビクロロヒドリン１０３．０ ｇを
滴下した。
．５ ｇを加え、エビクロロヒドリン１０３．０ ｇを
滴下した。
エポキシ基が消失するまで反応させたあと、室温まで冷
却し、５０％水酸化ナトリウム水溶液１６０．０ｇを加
え、３０℃で６ｈｒ反応させた。反応終了後、過剰の水
酸化ナトリウムを中和し、イオン交換水で内容物を繰り
返し洗浄し、生成した塩化ナトリウムを除去し、乾燥し
た。
却し、５０％水酸化ナトリウム水溶液１６０．０ｇを加
え、３０℃で６ｈｒ反応させた。反応終了後、過剰の水
酸化ナトリウムを中和し、イオン交換水で内容物を繰り
返し洗浄し、生成した塩化ナトリウムを除去し、乾燥し
た。
収率８０．０％、エポキシ当量２８０゜Ｉ Ｒ（ｃｍ−
’） ： ＣＨ：Ｃ−（３３００，２１００） −Ｐｈ−（１６００，１５１０） Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ）： Ｃ且＝Ｃ−（２，４６） ＣＨｔ −ＣＨ−（２，６〜２．８）ＣＨｇ−Ｃ且−
（３，２１） ＼ １ ＝＝ＣＣＨｚ （４，１９） Ｐｈ−Ｈ（６，８１〜７．１５ ） 実施例３ ビス −３−ロバルギルオキシー シジルオキシプロビルオキシ フェニル−グ スル 主Ｚ 攪はん機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を取り
付けたフラスコに、ビス（４−グリシジルオキシフェニ
ル）スルホン１Ｂ０．０ｇ、プロパルギルアルコール２
２４．０ｇ、テトラメチルアンモニウムクロライド１．
０ｇを加え、１１５°Ｃに昇温し、反応させた。塩酸−
ジオキサン法によるエポキシ当量の測定を行い、エポキ
シ基が消失するまで反応させた。そのあと過剰のプロパ
ルギルアルコールを減圧留去した。その後、エピクロル
ヒドリン７４０．０ｇ、 テトラメチルアンモニウムク
ロライド４．０ｇを加え、５０℃に昇温し、５０％水酸
化ナトリウム水溶液８６．０ｇ（１，０モル）を２時間
かけて滴下し、減圧下、水をエピクロルヒドリンとの共
沸混合物として連続的に除去しながら、反応をさらに４
時間継続した。過剰のエピクロルヒドリンを減圧留去し
、反応物にトルエンを加え、反応により生成した塩化ナ
トリウムを水／トルエンにより分液除去した。その後、
トルエンを減圧留去し、エポキシ当量３００の目的物を
得た。収率９２．０％ ｌ Ｒ（ｃｌ’） ： ＣＨＥＣＨ−（３３００，２１００） −Ｐｈ−（１６００，１５００） Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ）： ＣＨＥＣＨ−（２，４４） ＣＨ２ＣＩ−（３，２０） ＼ １ ＝ＣＣＨ２（４，１９） Ｐｈ−Ｈ（６，８０〜７．１４ ＞ 以下実施例１と同様な反応装置、 以下の化合物を得た。
’） ： ＣＨ：Ｃ−（３３００，２１００） −Ｐｈ−（１６００，１５１０） Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ）： Ｃ且＝Ｃ−（２，４６） ＣＨｔ −ＣＨ−（２，６〜２．８）ＣＨｇ−Ｃ且−
（３，２１） ＼ １ ＝＝ＣＣＨｚ （４，１９） Ｐｈ−Ｈ（６，８１〜７．１５ ） 実施例３ ビス −３−ロバルギルオキシー シジルオキシプロビルオキシ フェニル−グ スル 主Ｚ 攪はん機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を取り
付けたフラスコに、ビス（４−グリシジルオキシフェニ
ル）スルホン１Ｂ０．０ｇ、プロパルギルアルコール２
２４．０ｇ、テトラメチルアンモニウムクロライド１．
０ｇを加え、１１５°Ｃに昇温し、反応させた。塩酸−
ジオキサン法によるエポキシ当量の測定を行い、エポキ
シ基が消失するまで反応させた。そのあと過剰のプロパ
ルギルアルコールを減圧留去した。その後、エピクロル
ヒドリン７４０．０ｇ、 テトラメチルアンモニウムク
ロライド４．０ｇを加え、５０℃に昇温し、５０％水酸
化ナトリウム水溶液８６．０ｇ（１，０モル）を２時間
かけて滴下し、減圧下、水をエピクロルヒドリンとの共
沸混合物として連続的に除去しながら、反応をさらに４
時間継続した。過剰のエピクロルヒドリンを減圧留去し
、反応物にトルエンを加え、反応により生成した塩化ナ
トリウムを水／トルエンにより分液除去した。その後、
トルエンを減圧留去し、エポキシ当量３００の目的物を
得た。収率９２．０％ ｌ Ｒ（ｃｌ’） ： ＣＨＥＣＨ−（３３００，２１００） −Ｐｈ−（１６００，１５００） Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ）： ＣＨＥＣＨ−（２，４４） ＣＨ２ＣＩ−（３，２０） ＼ １ ＝ＣＣＨ２（４，１９） Ｐｈ−Ｈ（６，８０〜７．１４ ＞ 以下実施例１と同様な反応装置、 以下の化合物を得た。
実施例４
方法により、
ノニ乙
エポキシ当量２７８．収率９２．４％
ＩＲ（ｃｍ−′）：
ＣＨＥＣ−（３３００，２１００）
Ｐｈ−（１６００，１５００）
Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ） ：
ＣＨＥＣ−（２，４５）
Ｐｈ−且（６，６〜７．８）
実施例５
エポキシ当量２６６、収率８６．５％
Ｊ Ｒ（ｃｍ−’） ：
ＣＨＥＣ−（３３００，２１００）
−ｐｈ−（１６００，１５００）
Ｈ−ＮＭＲ（Ｐｐｍ）：
Ｃ且＝Ｃ−（２，４５）
ＣＨ，−ＣＩ−（２，６〜２．８）
ｐｈ−且（６，６〜７．８）
実施例６
エボキシ当量３１２．収率８８．３％
ＩＲ（ｃｍ−’） ：
ＣＨＥＣ−（３３００，２１００）
−Ｐｈ−（１６００，１５００）
ＣＨ，−ＣＨ−（９００）
＼ １
Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ）ニ
＝Ｃ且ｓ（１，７０）
ＣＨＥＣ−（２，４４）
ＣＨ，−ＣＨ−（２，６〜２．９）
Ｐｈ−Ｈ（６，６〜７．８）
実施例７
エボキシ当量４５０．収率８８．１％
Ｉ Ｒ（ｃｒ’） ：
ＣＨＥＣ−（３３００，２１００）
Ｈ−ＮＭＲ（ＰＰｍ）：
ＣＨＥＣ−（２，４４）
ＣＨ，−ＣＨ−（２，６〜２．８）
Ｐｈ−且（６，６〜７．８）
実施例８
エポキシ当量１６５．収率７７．２％
Ｉ Ｒ（Ｃ１１−’） ：
ＣＨ三Ｃ−（３３００，２１００）
−ＣＨ，−（２８５０）
Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ）ニ
ーＣＨ２−（１，６２）
ＣＨＥＣ−（２，４４）
実施例９
エポキシ当量１８６．収率８０．０％
Ｉ Ｒ（ｃｍ−’） ：
ＣＨ：Ｃ−（３３００，２１００）
−ＣＨｚ−（２８５０）
Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ）ニ
ーＣＨオ − （１，６２）
ＣＨ−：Ｃ−（２，４４）
実施例１
エポキシ当量３４５゜
収率９１．０％
ＩＲ（ｃｍ−’） ：
ＣＨＥＣ−（３３００゜
−ＰＨ−（１６００゜
Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ）：
ＣＨ＝Ｃ−
（２，４４）
Ｐｈ−且（６，６〜７．８）
Claims (2)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ または、 ▲数式、化学式、表等があります▼ または、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ；１）炭素数１〜２０のアルキレン基、フェニ
レン基、またはナフチレン基（ 置換又は非置換）； ２）１個もしくは、２個の炭素−炭素 結合、エーテル酸素原子、硫黄原子、 スルホニル基、スルホキシド基、カル ボニル基または、炭素数１〜５のアル キレン基で結合された２個もしくは３ 個のフェニレン基からなる基を表し、 未置換もしくは、各々炭素原子数１〜 ４の１個もしくは２個のアルキル基ま たは、Ｃｌ原子、Ｂｒ原子の１個もし くは、２個によって１個の環もしくは 複数の環が置換されていてもよい。 または、 ３）−（ＣＨ＿２ＣＨ＿２−Ｏ）＿ｐＣＨ＿２−ＣＨ＿
２−▲数式、化学式、表等があります▼ −（ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−Ｏ）＿
ｒ−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−Ｒ＿１
、Ｒ＿２；独立に水素かまたは三重合を持たない炭化水
素基； Ｂ；−Ｏ−、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数
式、化学式、表等があります▼（Ｒ＿３：−ＣＨ＿３ま
たは▲数式、化学式、表等があります▼ ｎ、ｐ、ｑ、ｒ；０〜２０の整数） で示されている三重結合含有グリシジルエーテル化合物
。 - （２）分子内に少なくとも１個のグリシジル基を有する
化合物に、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は独立に水素か、または三
重結合を持たない炭化水素基を意味する。）のアルコー
ルを反応させてグリシジル基を開環し、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） の３−（２−プロピニルオキシ）−２−ヒドロキシプロ
ピル基に変換し、次に式（II）の基の２級アルコール性
水酸基を３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルエーテル
化した後脱塩酸して生成する、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） の特性基に変換することを特徴とする第１項の三重結合
含有グリシジルエーテル化合物の製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25092490A JPH04128279A (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | 三重結合含有グリシジルエーテル化合物 |
| US07/704,154 US5242996A (en) | 1990-05-24 | 1991-05-22 | Modified epoxy resins having acetylenically unsaturated functions |
| EP91108266A EP0458296B1 (en) | 1990-05-24 | 1991-05-22 | Modified epoxy resins having acetylenically unsaturated functions |
| DE69117581T DE69117581T2 (de) | 1990-05-24 | 1991-05-22 | Modifizierte Epoxydharze, die acetylenisch ungesättigte Endgruppen enthalten |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25092490A JPH04128279A (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | 三重結合含有グリシジルエーテル化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04128279A true JPH04128279A (ja) | 1992-04-28 |
Family
ID=17215052
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25092490A Pending JPH04128279A (ja) | 1990-05-24 | 1990-09-19 | 三重結合含有グリシジルエーテル化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04128279A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07228580A (ja) * | 1993-12-21 | 1995-08-29 | Yuka Shell Epoxy Kk | 変性多価エポキシ化合物、同化合物の製造方法及びエポキシ樹脂組成物 |
| JP2001261775A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-09-26 | Sakamoto Yakuhin Kogyo Co Ltd | 新規なオリゴマー体含有ポリグリシジルエーテル化合物、およびそれを用いた硬化性樹脂組成物 |
| JP2002128772A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-05-09 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | ２−グリシジルオキシエチル（メタ）アクリレートの製造方法 |
| JP2003002880A (ja) * | 2001-04-19 | 2003-01-08 | Yokkaichi Chem Co Ltd | 多価アルコールポリグリシジルエーテルの製造方法 |
| WO2020171154A1 (ja) * | 2019-02-20 | 2020-08-27 | 株式会社カネカ | 炭素－炭素三重結合を有する有機重合体の製造方法 |
-
1990
- 1990-09-19 JP JP25092490A patent/JPH04128279A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07228580A (ja) * | 1993-12-21 | 1995-08-29 | Yuka Shell Epoxy Kk | 変性多価エポキシ化合物、同化合物の製造方法及びエポキシ樹脂組成物 |
| JP2001261775A (ja) * | 2000-03-14 | 2001-09-26 | Sakamoto Yakuhin Kogyo Co Ltd | 新規なオリゴマー体含有ポリグリシジルエーテル化合物、およびそれを用いた硬化性樹脂組成物 |
| JP2002128772A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-05-09 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | ２−グリシジルオキシエチル（メタ）アクリレートの製造方法 |
| JP2003002880A (ja) * | 2001-04-19 | 2003-01-08 | Yokkaichi Chem Co Ltd | 多価アルコールポリグリシジルエーテルの製造方法 |
| WO2020171154A1 (ja) * | 2019-02-20 | 2020-08-27 | 株式会社カネカ | 炭素－炭素三重結合を有する有機重合体の製造方法 |
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