JPH04131184A - 電解次亜塩素酸殺菌水製造用添加薬液 - Google Patents
電解次亜塩素酸殺菌水製造用添加薬液Info
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- JPH04131184A JPH04131184A JP2249755A JP24975590A JPH04131184A JP H04131184 A JPH04131184 A JP H04131184A JP 2249755 A JP2249755 A JP 2249755A JP 24975590 A JP24975590 A JP 24975590A JP H04131184 A JPH04131184 A JP H04131184A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は電解によって次亜塩素酸含有殺菌水を製造する
のに適した添加薬液に関する。
のに適した添加薬液に関する。
次亜塩素酸水溶液はｐＨ８以上では次亜塩素酸イオン（
ＣＩＯ→となり、殺菌力が次亜塩素酸（ＨＣＩＯ）の場
合に比較して著しく減少する。
ＣＩＯ→となり、殺菌力が次亜塩素酸（ＨＣＩＯ）の場
合に比較して著しく減少する。
しかしｐ Ｈ３〜７の範囲ではＨＣｌ０の形で保たれ、
殺菌力が飛躍的に増大することが知られており（第２図
参照）、従って、ｐＨ３〜７の次亜塩素酸水は残留塩素
濃度が３０〜６０ｐｐｍ程度の低濃度でもｐＨ８の残留
塩素濃度２００ｐｐｍ程度の殺菌水と同等の殺菌効果が
得られる。そこでこの種の殺菌水を得る方法として、塩
化ナトリウム水溶液を電解して陽極室側にｐＨ３〜７の
次亜塩素酸水を得ることが行われている。
殺菌力が飛躍的に増大することが知られており（第２図
参照）、従って、ｐＨ３〜７の次亜塩素酸水は残留塩素
濃度が３０〜６０ｐｐｍ程度の低濃度でもｐＨ８の残留
塩素濃度２００ｐｐｍ程度の殺菌水と同等の殺菌効果が
得られる。そこでこの種の殺菌水を得る方法として、塩
化ナトリウム水溶液を電解して陽極室側にｐＨ３〜７の
次亜塩素酸水を得ることが行われている。
ところがＮａＣｌは２５％近くの濃度になると常温では
溶解に非常に時間がかかり、沈澱していることを知らな
いでいると所定量のＮａＣｌを添加したにもかかわらず
、所定のｐＨ値及び所定濃度の次亜塩素酸殺菌水が生成
されないという問題か生ずる。
溶解に非常に時間がかかり、沈澱していることを知らな
いでいると所定量のＮａＣｌを添加したにもかかわらず
、所定のｐＨ値及び所定濃度の次亜塩素酸殺菌水が生成
されないという問題か生ずる。
また、塩化ナトリウム水溶液の原水中には主に重炭酸カ
ルシウムＣａ （ＨＣＯ３） ｙの形でカルシウムＣａ
が溶は込んでいるので塩化ナトリウム水溶液の電解処理
中にＣａが析出し、これが陰極に付着することによって
電解電圧が上昇したり、電解電流が流れにくくなるとい
うトラブルが生ずる。同様の原因で流水抵抗が大きくな
り、供給水量が下がるため、特に、水を連続的に通水し
て電解する電解装置では連続運転ができなくなってしま
う。
ルシウムＣａ （ＨＣＯ３） ｙの形でカルシウムＣａ
が溶は込んでいるので塩化ナトリウム水溶液の電解処理
中にＣａが析出し、これが陰極に付着することによって
電解電圧が上昇したり、電解電流が流れにくくなるとい
うトラブルが生ずる。同様の原因で流水抵抗が大きくな
り、供給水量が下がるため、特に、水を連続的に通水し
て電解する電解装置では連続運転ができなくなってしま
う。
そこで、本件特許出願人は原水に塩化ナトリウムを添加
するとともに、塩酸水溶液を添加して電解を行う殺菌水
製造方法を開発し、平成２年８月１０日に平成２年特許
出願第２１３２８１号として特許出願をした。
するとともに、塩酸水溶液を添加して電解を行う殺菌水
製造方法を開発し、平成２年８月１０日に平成２年特許
出願第２１３２８１号として特許出願をした。
この方法では塩酸ＨＣＩの添加により、ＣａＣＯ３↓＋
２ ＨＣＩ →Ｃａ Ｃｌ ｚ ＋ Ｈ２ＣＯｙの反応
が行われ、ＣａＣ０，はＣａＣ］、の形で液中に溶解し
Ｃａの付着が解消されるとともに、ＭＣＩは中和作用に
より電解処理水のｐＨ値を所望の値３〜７に下げる働き
をし、−石二鳥の効果が得られる。
２ ＨＣＩ →Ｃａ Ｃｌ ｚ ＋ Ｈ２ＣＯｙの反応
が行われ、ＣａＣ０，はＣａＣ］、の形で液中に溶解し
Ｃａの付着が解消されるとともに、ＭＣＩは中和作用に
より電解処理水のｐＨ値を所望の値３〜７に下げる働き
をし、−石二鳥の効果が得られる。
しかしながら、上記特許出願の方法では塩化ナトリウム
ＮａＣｌ及び塩酸ＨＣＩの所定濃度の水溶液を原水に対
して別々に添加していたため、このような二液性の薬液
を添加して電解殺菌水を製造しようとすると厳密な調合
が保証されにくく、特に、いずれか一方の薬液供給ポン
プ等が故障したりすると調合比率がくるい、目的のｐＨ
値が得られなくなるという問題がある。
ＮａＣｌ及び塩酸ＨＣＩの所定濃度の水溶液を原水に対
して別々に添加していたため、このような二液性の薬液
を添加して電解殺菌水を製造しようとすると厳密な調合
が保証されにくく、特に、いずれか一方の薬液供給ポン
プ等が故障したりすると調合比率がくるい、目的のｐＨ
値が得られなくなるという問題がある。
従って、本発明の主たる目的は所定量の水に予めＨＣＩ
とＮａＣｌを混合、溶解させた一液性の電解次亜塩素酸
殺菌水製造用添加薬液を提供することにより、上記の問
題を同時に解決することにある。
とＮａＣｌを混合、溶解させた一液性の電解次亜塩素酸
殺菌水製造用添加薬液を提供することにより、上記の問
題を同時に解決することにある。
ところで、電解により次亜塩素酸殺菌水を製造する場合
の原水には水道水、地下水などいろいろな水質の水が使
用されるが、これらの水を殺菌力の強いｐＨ３〜７、残
留塩素濃度３０〜６０Ｔ）ｌ）ｍの範囲の殺菌水に生成
するべく添加薬液中のＮａｃＩとＨＣＩの濃度比率をそ
の都度求めることはきわめて煩雑であり、専門知識を要
する。
の原水には水道水、地下水などいろいろな水質の水が使
用されるが、これらの水を殺菌力の強いｐＨ３〜７、残
留塩素濃度３０〜６０Ｔ）ｌ）ｍの範囲の殺菌水に生成
するべく添加薬液中のＮａｃＩとＨＣＩの濃度比率をそ
の都度求めることはきわめて煩雑であり、専門知識を要
する。
従って、本発明の他の目的はいろいろな水質の水に対し
、上記範囲のｐＨ値と残留塩素濃度の殺菌水が得られる
ように予めＮａＣｌとＨＣＩの濃度比率を所定範囲に設
定した前記−液性の添加薬液を提供することにある。
、上記範囲のｐＨ値と残留塩素濃度の殺菌水が得られる
ように予めＮａＣｌとＨＣＩの濃度比率を所定範囲に設
定した前記−液性の添加薬液を提供することにある。
本発明の上記目的は、塩酸水溶液に食塩ＮａＣ１を溶解
させてなる電解次亜塩素酸殺菌水製造用添加薬液によっ
て達成される。
させてなる電解次亜塩素酸殺菌水製造用添加薬液によっ
て達成される。
本発明の他の目的は、ＮａＣｌ１度が１０％〜３０％で
あって、塩酸濃度がＮａＣｌの濃度の６分の１〜３分の
１の比率で含まれている電解次亜塩素酸殺菌水製造用添
加薬液によって達成される。
あって、塩酸濃度がＮａＣｌの濃度の６分の１〜３分の
１の比率で含まれている電解次亜塩素酸殺菌水製造用添
加薬液によって達成される。
本発明の電解次亜塩素酸殺菌水製造用添加薬液はＨＣＩ
水溶液とＮａＣ１を一液の溶液に調合しであるのでＨＣ
Ｉの中和作用によって生成される殺菌水のｐＨ値をより
少ない消費電力で３〜７に下げることができるとともに
、カルシウムＣａの析出が防止される。
水溶液とＮａＣ１を一液の溶液に調合しであるのでＨＣ
Ｉの中和作用によって生成される殺菌水のｐＨ値をより
少ない消費電力で３〜７に下げることができるとともに
、カルシウムＣａの析出が防止される。
また、ＨＣＩ水溶液にＮａＣｌを溶かすのでＮａｃＩの
溶解効率が良くなり、ＮａＣｌの沈澱によって殺菌水の
ｐＨや残留塩素濃度が意に反して変動することがない。
溶解効率が良くなり、ＮａＣｌの沈澱によって殺菌水の
ｐＨや残留塩素濃度が意に反して変動することがない。
また、添加薬液中のＮａＣｌの濃度を１０％〜３０％と
し、塩酸濃度がＮａＣｌの上記濃度の６分の１乃至３分
の１の濃度になるように調合比率を設定した上記添加薬
液を原水に添加して電解すると、無隔膜電解による電解
生成水はその全量がｐＨ３〜７の範囲に保持され、また
、型棒間を電解隔膜で仕切った有隔膜電解による電解生
成水も、陽極側の電解生成水と陰極側の電解生成水を混
合したものは全体としてｐＨ３〜７の範囲に保持される
。
し、塩酸濃度がＮａＣｌの上記濃度の６分の１乃至３分
の１の濃度になるように調合比率を設定した上記添加薬
液を原水に添加して電解すると、無隔膜電解による電解
生成水はその全量がｐＨ３〜７の範囲に保持され、また
、型棒間を電解隔膜で仕切った有隔膜電解による電解生
成水も、陽極側の電解生成水と陰極側の電解生成水を混
合したものは全体としてｐＨ３〜７の範囲に保持される
。
すなわち、このｐ）Ｔ値の範囲の次亜塩素酸水溶液は残
留塩素のほとんどがＨＯＣＩの形で保たれ最も殺菌力の
強い水となる。
留塩素のほとんどがＨＯＣＩの形で保たれ最も殺菌力の
強い水となる。
〔発明の実施例〕
本発明の薬液は電解工程を経て次亜塩素酸含有殺菌水を
製造する際に、電解される原水に混合する添加薬液であ
り、基本的には塩酸水溶液を混合して作った溶媒に食塩
ＮａＣ１を溶解してなるものである。
製造する際に、電解される原水に混合する添加薬液であ
り、基本的には塩酸水溶液を混合して作った溶媒に食塩
ＮａＣ１を溶解してなるものである。
すでに述べたように、次亜塩素酸水溶液はｐ Ｈ３〜７
の範囲にあるときに殺菌力が最も強いから、本発明の添
加薬液は各種水質の原水に使用した場合に生成される電
解次亜塩素酸殺菌水製品のＴ） Ｈ値が常にこの範囲に
なるように予め塩酸及びＮａＣ１の濃度比率を特定して
おくのが有利である。
の範囲にあるときに殺菌力が最も強いから、本発明の添
加薬液は各種水質の原水に使用した場合に生成される電
解次亜塩素酸殺菌水製品のＴ） Ｈ値が常にこの範囲に
なるように予め塩酸及びＮａＣ１の濃度比率を特定して
おくのが有利である。
ここで「電解次亜塩素酸殺菌水製品・とは薬液を添加し
た原水を電解して得た電解水及びこの電解水を電解しな
い原水で希釈したものを総称する。
た原水を電解して得た電解水及びこの電解水を電解しな
い原水で希釈したものを総称する。
そこで種々研究の結果、ＮａＣｌ濃度が１０％〜３０％
であって、且つ塩酸濃度が該ＮａＣｌの濃度の６分の１
乃至３分の１の比率で含まれている薬液はいろいろな水
質の原水に添加して電解した場合でも、ｐＨ３〜７の範
囲の次亜塩素酸殺菌水が得られ、」１記要請に応え得る
ことを児い出した。
であって、且つ塩酸濃度が該ＮａＣｌの濃度の６分の１
乃至３分の１の比率で含まれている薬液はいろいろな水
質の原水に添加して電解した場合でも、ｐＨ３〜７の範
囲の次亜塩素酸殺菌水が得られ、」１記要請に応え得る
ことを児い出した。
実施例（］）
ＮａＣ１１０５ｇとＨＣＩ水溶液（３５％）５８川−を
原水で溶解して全量を１，０００−とする本発明の添加
薬液を得た。
原水で溶解して全量を１，０００−とする本発明の添加
薬液を得た。
この時のＮａＣｌ及びＨＣＩ濃度は以下の通りである。
Ｎａ Ｃ］濃度 １０５−； ｌ、 ０００＝ Ｏ，
１０５＝ １０．５％ＨＣＩ濃度 ５８にＩ、 ０
ＯＯＸ ３５＝ ２．０％実施例（２） ＮａＣ＋３００９とＨＣＩ水溶液（３５％）１５０ｒｒ
１１を原水で溶解して全量をｌ 、 ０００ ｍｌとす
る本発明の添加薬液を得た。
１０５＝ １０．５％ＨＣＩ濃度 ５８にＩ、 ０
ＯＯＸ ３５＝ ２．０％実施例（２） ＮａＣ＋３００９とＨＣＩ水溶液（３５％）１５０ｒｒ
１１を原水で溶解して全量をｌ 、 ０００ ｍｌとす
る本発明の添加薬液を得た。
このときのＮａＣＩ及びＨＣＩの濃度は以下の通りであ
る。
る。
ＮａＣｌ濃度 ３００÷Ｌ ０ＯＯ＝ ００３−３０
％ＨＣＩ濃度 １５０−； Ｉ、 ０ＯＯＸ Ｏ，
３５＝ ５．２５％図は本発明による添加薬液を原水に
添加して無隔膜電解槽で電解し、得られた電解生成水を
原水で希釈して次亜塩素酸殺菌水製品として排出する装
置の概略説明図である。
％ＨＣＩ濃度 １５０−； Ｉ、 ０ＯＯＸ Ｏ，
３５＝ ５．２５％図は本発明による添加薬液を原水に
添加して無隔膜電解槽で電解し、得られた電解生成水を
原水で希釈して次亜塩素酸殺菌水製品として排出する装
置の概略説明図である。
給水部から原水をフロツイツチ−バルブ−流量計−逆止
弁を介して給水される原水に、予めＨＣｌとＮａＣｌを
一液に溶解させた本発明の薬液を添加して電解槽の下部
から連続的に通水しながら陰極と陽極に直流電解電圧を
印加して電解するとともに、電解槽の上部から原水を導
入し、この非電解原水で電解水を希釈した後、出口から
ｐＨ３〜７、残留塩素濃度３０〜６０ｐｐｍ程度の次亜
塩素酸殺菌水を製品として得るものである。
弁を介して給水される原水に、予めＨＣｌとＮａＣｌを
一液に溶解させた本発明の薬液を添加して電解槽の下部
から連続的に通水しながら陰極と陽極に直流電解電圧を
印加して電解するとともに、電解槽の上部から原水を導
入し、この非電解原水で電解水を希釈した後、出口から
ｐＨ３〜７、残留塩素濃度３０〜６０ｐｐｍ程度の次亜
塩素酸殺菌水を製品として得るものである。
尚、図では無隔膜電解槽を使用した場合を例示したが、
本発明の添加薬液は有隔膜の電解槽を使用する場合にも
同様に適用されることはもちろんである。
本発明の添加薬液は有隔膜の電解槽を使用する場合にも
同様に適用されることはもちろんである。
〔発明の効果〕
本発明の添加薬液はＨＣＩ水溶液にＮａＣｌが溶解され
ているのでＮａＣｌの溶解効率が良く、また、ＨＣＩの
中和作用により、生成される殺菌水のｐＨをより少ない
電力でｐＨ３〜７に調整できるとともにカルンウムの析
出も抑制できる。
ているのでＮａＣｌの溶解効率が良く、また、ＨＣＩの
中和作用により、生成される殺菌水のｐＨをより少ない
電力でｐＨ３〜７に調整できるとともにカルンウムの析
出も抑制できる。
しかも、−液性の溶液であるから、従来のように添加の
過程でＮａＣｌとＨＣＩの濃度比率がくろうことがな（
目的のｐＨ値及び残留塩素濃度の次亜塩素酸殺菌水が確
実に得られる。
過程でＮａＣｌとＨＣＩの濃度比率がくろうことがな（
目的のｐＨ値及び残留塩素濃度の次亜塩素酸殺菌水が確
実に得られる。
さらに、ＮａＣｌとＨＣＩの濃度比率を上記の範囲に特
定したー液性添加薬液を用いることにより、水質の異な
る各種の原水をｐＨ３〜７、残留塩素濃度３０〜６０ｐ
ｐｍの範囲の次亜塩素酸殺菌水に生成できるので面倒が
ない。また、添加薬液のＨＣＩ濃度は１０％以下である
ので市販が可能となり、専門知識のない一般需要者でも
安全に使用することができる。
定したー液性添加薬液を用いることにより、水質の異な
る各種の原水をｐＨ３〜７、残留塩素濃度３０〜６０ｐ
ｐｍの範囲の次亜塩素酸殺菌水に生成できるので面倒が
ない。また、添加薬液のＨＣＩ濃度は１０％以下である
ので市販が可能となり、専門知識のない一般需要者でも
安全に使用することができる。
第１図は本発明による添加薬液を使用して次亜塩素酸殺
菌水を製造する装置の概略配管図、 第２図は残留遊離
塩素存在比とｐＨの関係を表わす図である。 特許出願人 株式会社オ ム コ 外１名代理人
弁理士 佐 藤 直 義第１図 第２図 〆 残留遊離塩素の存在比（幻
菌水を製造する装置の概略配管図、 第２図は残留遊離
塩素存在比とｐＨの関係を表わす図である。 特許出願人 株式会社オ ム コ 外１名代理人
弁理士 佐 藤 直 義第１図 第２図 〆 残留遊離塩素の存在比（幻
Claims (2)
- （１）塩酸水溶液に食塩ＮａＣｌを溶解させてなる電解
次亜塩素酸殺菌水製造用添加薬液。 - （２）ＮａＣｌ濃度が１０％〜３０％であって、塩酸濃
度がＮａＣｌの濃度の６分の１〜３分の１の比率で含ま
れている請求項（１）記載の電解次亜塩素酸殺菌水製造
用添加薬液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2249755A JP2627101B2 (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | 電解次亜塩素酸殺菌水製造用添加薬液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2249755A JP2627101B2 (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | 電解次亜塩素酸殺菌水製造用添加薬液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04131184A true JPH04131184A (ja) | 1992-05-01 |
| JP2627101B2 JP2627101B2 (ja) | 1997-07-02 |
Family
ID=17197745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2249755A Expired - Lifetime JP2627101B2 (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 | 電解次亜塩素酸殺菌水製造用添加薬液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2627101B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2334968A (en) * | 1998-03-03 | 1999-09-08 | Univ Northumbria Newcastle | Apparatus and method for the electrolytic production of hypochlorite |
| WO2009098870A1 (ja) | 2008-02-08 | 2009-08-13 | Noguchi Dental Medical Research Institute | 歯科用殺菌水及びその生成方法並びにその生成装置 |
| JP2011088149A (ja) * | 2011-02-07 | 2011-05-06 | Bisansei Denkaisui Kenkyusho:Kk | 電解水の生成方法および組成物 |
| JP2013154305A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Ishida Co Ltd | 電解水生成装置 |
| WO2024161816A1 (ja) * | 2023-01-31 | 2024-08-08 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 空間浄化装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI723601B (zh) | 2019-10-29 | 2021-04-01 | 超水國際股份有限公司 | 一元次氯酸消毒劑及其生產方法 |
| TWI727680B (zh) | 2020-02-27 | 2021-05-11 | 超水國際股份有限公司 | 次氯酸消毒劑及其生產方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3819329A (en) * | 1971-05-11 | 1974-06-25 | Morton Norwich Products Inc | Spray sanitizing system with electrolytic generator |
| JPS6148587A (ja) * | 1984-08-14 | 1986-03-10 | Asahi Glass Co Ltd | 電解槽への塩酸添加法 |
-
1990
- 1990-09-19 JP JP2249755A patent/JP2627101B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| US3819329A (en) * | 1971-05-11 | 1974-06-25 | Morton Norwich Products Inc | Spray sanitizing system with electrolytic generator |
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| WO2009098870A1 (ja) | 2008-02-08 | 2009-08-13 | Noguchi Dental Medical Research Institute | 歯科用殺菌水及びその生成方法並びにその生成装置 |
| JP2011088149A (ja) * | 2011-02-07 | 2011-05-06 | Bisansei Denkaisui Kenkyusho:Kk | 電解水の生成方法および組成物 |
| JP2013154305A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Ishida Co Ltd | 電解水生成装置 |
| WO2024161816A1 (ja) * | 2023-01-31 | 2024-08-08 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 空間浄化装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2627101B2 (ja) | 1997-07-02 |
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