JPH04134300A - 偏光発生装置 - Google Patents
偏光発生装置Info
- Publication number
- JPH04134300A JPH04134300A JP25825890A JP25825890A JPH04134300A JP H04134300 A JPH04134300 A JP H04134300A JP 25825890 A JP25825890 A JP 25825890A JP 25825890 A JP25825890 A JP 25825890A JP H04134300 A JPH04134300 A JP H04134300A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnets
- magnet
- magnetic field
- field distribution
- polarized light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 31
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims description 18
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 17
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- 238000003491 array Methods 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 3
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000009941 weaving Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は、挿入型光源や自由電子レーザーに用いられ
るウィグラーまたはアンジュレータ−と呼ばれる偏光発
生装置の改良に係り、各磁石列の±YX方向磁化方向を
有する磁石のX方向の磁場分布を、±X方向の一方に高
くなるようにしてZ方向に交互に配置することにより、
通過電子ビームを収束させてエネルギーロスを低減した
偏光発生装置に関する。
るウィグラーまたはアンジュレータ−と呼ばれる偏光発
生装置の改良に係り、各磁石列の±YX方向磁化方向を
有する磁石のX方向の磁場分布を、±X方向の一方に高
くなるようにしてZ方向に交互に配置することにより、
通過電子ビームを収束させてエネルギーロスを低減した
偏光発生装置に関する。
従来の技術
光速に近い電子ビームが磁界中を通過すると電磁波、す
なわちシンクロトロン放射光を発生ずるが、異磁極磁石
を交互に配置して磁界方向が交互に変化する磁界中にこ
の電子ビームを通過させると、相互に干渉し合いより輝
度の高い光が得られる。(特開昭61−19100号公
報)かかる干渉性放射光発生装置は挿入型光源と呼ばれ
、例えば、電子蓄積リングに用いられ、偏光特性の違い
から、磁界の周波数(N)の2N倍の光が得られるタイ
プがウィグラー、これより磁界が弱く電子軌道の振幅が
極めて小さいがN2の強度の光が得られるタイプがアン
ジュレータ−と呼ばれている。
なわちシンクロトロン放射光を発生ずるが、異磁極磁石
を交互に配置して磁界方向が交互に変化する磁界中にこ
の電子ビームを通過させると、相互に干渉し合いより輝
度の高い光が得られる。(特開昭61−19100号公
報)かかる干渉性放射光発生装置は挿入型光源と呼ばれ
、例えば、電子蓄積リングに用いられ、偏光特性の違い
から、磁界の周波数(N)の2N倍の光が得られるタイ
プがウィグラー、これより磁界が弱く電子軌道の振幅が
極めて小さいがN2の強度の光が得られるタイプがアン
ジュレータ−と呼ばれている。
偏光発生装置の構成は、所要寸法の多数個の磁化方向が
異なる磁石を、磁界方向が交互に変化するように所要パ
ターンで配列ニーだ一月の磁石列を、垂直支柱に種々の
機械的支持機構を用いて相対向させてあり、所要の高輝
度放射光を得るためには磁界強度を変化させる必要があ
り、この磁石列間を所要のギャップ(Lg)寸法に調整
位置決めできるように構成しである。
異なる磁石を、磁界方向が交互に変化するように所要パ
ターンで配列ニーだ一月の磁石列を、垂直支柱に種々の
機械的支持機構を用いて相対向させてあり、所要の高輝
度放射光を得るためには磁界強度を変化させる必要があ
り、この磁石列間を所要のギャップ(Lg)寸法に調整
位置決めできるように構成しである。
発明が解決しようとする課題
例えば、磁場の強度及び周期を変えることにより発振波
長を連続的に変化させることができる自由電子レーザー
に用いられるウィグラーの磁気回路の構成には、第5図
に示す如く、所要寸法の多数個の磁化方向が異なる磁石 (2a、bX3a、bXlla、bX12a、b)を、
電子の通過するギャップ中心の水平方向を2方向、2方
向に直交する水平方向を±X方向、2方向に直交する垂
直方向を±YX方向した場合、磁界方向が交互に変化す
るように所要パターンで2方向に配列した一対の磁石列
(IXIO)を、ギャップ調整可能に機織的支持機構を
用いて相対向させた構成がある。
長を連続的に変化させることができる自由電子レーザー
に用いられるウィグラーの磁気回路の構成には、第5図
に示す如く、所要寸法の多数個の磁化方向が異なる磁石 (2a、bX3a、bXlla、bX12a、b)を、
電子の通過するギャップ中心の水平方向を2方向、2方
向に直交する水平方向を±X方向、2方向に直交する垂
直方向を±YX方向した場合、磁界方向が交互に変化す
るように所要パターンで2方向に配列した一対の磁石列
(IXIO)を、ギャップ調整可能に機織的支持機構を
用いて相対向させた構成がある。
かかる磁石列の構成において、ビームが拡赦しビームエ
ネルギーが低下して目的とする自由電子レー廿−が得ら
れない問題があった。
ネルギーが低下して目的とする自由電子レー廿−が得ら
れない問題があった。
そこで、ビームの収束度を高めてビームエネルギーロス
を防ぐため、第7図に示す如く、一対の磁石列(IXI
O)の周囲にギャップ中心方向に磁化方向を有する八重
極磁石(20)を配置した磁気回路を製作したが、回路
が複雑かつ大型化になると共に製作費用が高くつく問題
があった。
を防ぐため、第7図に示す如く、一対の磁石列(IXI
O)の周囲にギャップ中心方向に磁化方向を有する八重
極磁石(20)を配置した磁気回路を製作したが、回路
が複雑かつ大型化になると共に製作費用が高くつく問題
があった。
この発明は、電子ビームを収束させてビームエ、ネルギ
ーの低下が少ない構成からなる偏光発生装置の提供を目
的としている。
ーの低下が少ない構成からなる偏光発生装置の提供を目
的としている。
課題を解決するための手段
この発明は、
磁化方向が異なる複数の磁石を所要パターンで水平配列
した一対の磁石列を相対向して、磁石列間に所要ギャッ
プを形成し、該ギャップ内を通過する電子に磁界を作用
させる偏光発生装置において、 電子の通過するギャップ中心の水平方向を2方向、2方
向に直交する水平方向を±X方向、2万同に直交する垂
直方向を±YX方向しまた場合、各磁石列の±YX方向
磁化方向を有する磁石が、X方向の磁場分布がX方向の
一方端へ高く傾斜した特性を有し、 該特性を有する磁石を2方向に配列するに際し、X方向
の磁場分布のピークが2方向にX方向の子方向、一方向
と交互に現れるよう配置したことを特徴とする偏光発生
装置である。
した一対の磁石列を相対向して、磁石列間に所要ギャッ
プを形成し、該ギャップ内を通過する電子に磁界を作用
させる偏光発生装置において、 電子の通過するギャップ中心の水平方向を2方向、2方
向に直交する水平方向を±X方向、2万同に直交する垂
直方向を±YX方向しまた場合、各磁石列の±YX方向
磁化方向を有する磁石が、X方向の磁場分布がX方向の
一方端へ高く傾斜した特性を有し、 該特性を有する磁石を2方向に配列するに際し、X方向
の磁場分布のピークが2方向にX方向の子方向、一方向
と交互に現れるよう配置したことを特徴とする偏光発生
装置である。
作 用
この発明は、偏光発生装置において、電子ビム収束度を
向上させ得る構成を目的に磁石列について種々検討した
結果、前述した第5図の磁石列の構成において、X方向
の磁場分布を測定すると、第6図に示す如く、空隙幅方
向の中心(X = 0)でB(磁場強度)が最大となり
、中心からずれるにしたがって磁場強度は低下しており
、電子ビームを2軸方向へ流すと電子ビームは蛇行しな
がら進もか、中心以外は磁場強度が低いためビームか拡
赦しエネルギーロスが大きくなることに着目し、各磁石
列の±Y力方向磁化方向を有する磁石のX方向の磁場分
布を、±X方向の一方に高くなるようにしてZ方向に交
互に配置することにより、通過電子ビームを収束させて
エネルギーロスを低減できることを知見し、この発明を
完成したものである。
向上させ得る構成を目的に磁石列について種々検討した
結果、前述した第5図の磁石列の構成において、X方向
の磁場分布を測定すると、第6図に示す如く、空隙幅方
向の中心(X = 0)でB(磁場強度)が最大となり
、中心からずれるにしたがって磁場強度は低下しており
、電子ビームを2軸方向へ流すと電子ビームは蛇行しな
がら進もか、中心以外は磁場強度が低いためビームか拡
赦しエネルギーロスが大きくなることに着目し、各磁石
列の±Y力方向磁化方向を有する磁石のX方向の磁場分
布を、±X方向の一方に高くなるようにしてZ方向に交
互に配置することにより、通過電子ビームを収束させて
エネルギーロスを低減できることを知見し、この発明を
完成したものである。
この発明において、各磁石列の±Y力方向磁化方向を有
する磁石のX方向の磁場分布をX方向の一方端へ高く傾
斜した特性とする手段には、後述する如く、X方向に大
きさを変化させたり、またはY方向に大きさを変化させ
てX方向の一方端へ高く傾斜したX方向の該磁場分布特
性を持たせるか、あるいは配向方向をX方向−万端部は
通常配向で、他方端部は故意に配向を乱して変化させる
手段がある。
する磁石のX方向の磁場分布をX方向の一方端へ高く傾
斜した特性とする手段には、後述する如く、X方向に大
きさを変化させたり、またはY方向に大きさを変化させ
てX方向の一方端へ高く傾斜したX方向の該磁場分布特
性を持たせるか、あるいは配向方向をX方向−万端部は
通常配向で、他方端部は故意に配向を乱して変化させる
手段がある。
図面に基づく開示
第1図a、b、cは二の発明による偏光発生装置の磁石
列の構成を示す斜視説明図であり、いずれも下側磁石列
を示すが上側も同様構成である。
列の構成を示す斜視説明図であり、いずれも下側磁石列
を示すが上側も同様構成である。
第2図a、bはX方向の磁場分布を示す説明図である。
構成1
第1図aに示すこの発明による磁石列の構成は、昇降可
能に水平支持されて対向路#(空隙)を調整できる一対
の磁石保持板(図示せず)にそれぞれ磁石を配列するも
のであるが、下側磁石列(10)で明らかなように、磁
界方向が交互に変化するように所要パターンで2方向に
各種寸法及び磁化方向の磁石(13a、bX14a、b
)が配列しである。
能に水平支持されて対向路#(空隙)を調整できる一対
の磁石保持板(図示せず)にそれぞれ磁石を配列するも
のであるが、下側磁石列(10)で明らかなように、磁
界方向が交互に変化するように所要パターンで2方向に
各種寸法及び磁化方向の磁石(13a、bX14a、b
)が配列しである。
詳述すると、磁石列(10)を構成する磁化方向がY方
向の2種類の磁石(14aX14b)は、他磁石(13
aX13b)と同様に厚み(Y方向)及び長さ(X方向
)が一定であるが、幅(Z方向)が長さ(X方向)に変
化しており、上面(Y方向)から見れば台形を形成した
同一形状寸法からなり、配列に際して磁化方向の±Y力
方向交互に逆になるようにしてあり、当該磁石(14a
X 14b)間に上面(Y方向)から見れば平行四辺形
を形成し磁化方向か±2方向の磁石(13aX13b)
を配設して、磁界方向が交互に変化する所要パターンを
形成しである。
向の2種類の磁石(14aX14b)は、他磁石(13
aX13b)と同様に厚み(Y方向)及び長さ(X方向
)が一定であるが、幅(Z方向)が長さ(X方向)に変
化しており、上面(Y方向)から見れば台形を形成した
同一形状寸法からなり、配列に際して磁化方向の±Y力
方向交互に逆になるようにしてあり、当該磁石(14a
X 14b)間に上面(Y方向)から見れば平行四辺形
を形成し磁化方向か±2方向の磁石(13aX13b)
を配設して、磁界方向が交互に変化する所要パターンを
形成しである。
すなわち、磁化方向が−Y力方向磁石
(14a)は+X方向に大きくなっているため、X方向
の磁場分布は第2図aに示す如く、+X方向端へ高く傾
斜した特性となり、また、磁化方向が+Y力方向磁石(
14b)は−X方向に大きくなっているため、X方向の
磁場分布は第2図すに示す如く、−X方向端へ高く傾斜
した特性となる。
の磁場分布は第2図aに示す如く、+X方向端へ高く傾
斜した特性となり、また、磁化方向が+Y力方向磁石(
14b)は−X方向に大きくなっているため、X方向の
磁場分布は第2図すに示す如く、−X方向端へ高く傾斜
した特性となる。
かかる構成からなる上下一対の磁石列間に電子ビームが
通過すると、2方向にみれば、X方向の一方端へ高く傾
斜した磁場分布の傾斜方向が交互に逆向きに現れるため
、電子ビームの拡散が防止されて電子ビームが収束し、
ビームエネルギーのロスを低減できる。
通過すると、2方向にみれば、X方向の一方端へ高く傾
斜した磁場分布の傾斜方向が交互に逆向きに現れるため
、電子ビームの拡散が防止されて電子ビームが収束し、
ビームエネルギーのロスを低減できる。
第2図に示すX方向の一方端へ高く傾斜した磁場分布の
傾斜度合いは、要求される電子ビームの収束度に応じて
適宜選定され、磁石形状、寸法も磁石特性と該要求に応
じて適宜選定される。
傾斜度合いは、要求される電子ビームの収束度に応じて
適宜選定され、磁石形状、寸法も磁石特性と該要求に応
じて適宜選定される。
構成2
第1図すに示すこの発明による磁石列の構成は、前述の
第1図aに示す構成と同様の技術手段からなり、磁界方
向が交互に変化する同様のパターンを有する磁石列(1
0)において、磁化方向がY方向の2種類の磁石(15
aX15b)は、農政磁石(15aX15b)間に配列
される他磁石(11aX11b)と同様に長さ(X方向
)及び幅(2方向)か°一定であるが、厚み(Y方向)
が長さ(X方向)に変化しており、Z方向から見れば台
形を形成した同一形状寸法からなり、配列に際して磁化
方向の±Y力方向交互に逆になるようにしてあり、2方
向にみれば、X方向の一方端へ高く傾斜した磁場分布の
傾斜方向が交互に逆向きに現れ、第1図aに示す構成と
同様の作用効果を奏する。
第1図aに示す構成と同様の技術手段からなり、磁界方
向が交互に変化する同様のパターンを有する磁石列(1
0)において、磁化方向がY方向の2種類の磁石(15
aX15b)は、農政磁石(15aX15b)間に配列
される他磁石(11aX11b)と同様に長さ(X方向
)及び幅(2方向)か°一定であるが、厚み(Y方向)
が長さ(X方向)に変化しており、Z方向から見れば台
形を形成した同一形状寸法からなり、配列に際して磁化
方向の±Y力方向交互に逆になるようにしてあり、2方
向にみれば、X方向の一方端へ高く傾斜した磁場分布の
傾斜方向が交互に逆向きに現れ、第1図aに示す構成と
同様の作用効果を奏する。
構成3
第1図Cに示すこの発明による磁石列の構成は、前述の
第5図に示す磁石列と全く同様であるが、磁化方向がY
方向の磁石(16aX16b)に、磁石内部の粒子配向
をX方向−万端部は通常配向で、他方端部は故意に配向
を乱して磁場分布が第2図。、bと同様となるよう構成
してあり、2方向にみれば、X方向の一方端へ高く傾斜
した磁場分布の傾斜方向が交互に逆向きに現れ、第1図
aに示す構成と同様の作用効果を奏する。
第5図に示す磁石列と全く同様であるが、磁化方向がY
方向の磁石(16aX16b)に、磁石内部の粒子配向
をX方向−万端部は通常配向で、他方端部は故意に配向
を乱して磁場分布が第2図。、bと同様となるよう構成
してあり、2方向にみれば、X方向の一方端へ高く傾斜
した磁場分布の傾斜方向が交互に逆向きに現れ、第1図
aに示す構成と同様の作用効果を奏する。
上述の何れの構成においても、各々上述の磁石列を有す
る一対の磁石保持板を昇降可能に水平支持して対向距離
(空隙)を調整する機械的機構には、磁石列を装着した
支持ビームを直動型軸受を介在させて垂直支柱に当接さ
せるが、所要形状の垂直支柱を内挿した構成、あるいは
ボールスクリューを用いた公知の構成などを採用するこ
とができる。
る一対の磁石保持板を昇降可能に水平支持して対向距離
(空隙)を調整する機械的機構には、磁石列を装着した
支持ビームを直動型軸受を介在させて垂直支柱に当接さ
せるが、所要形状の垂直支柱を内挿した構成、あるいは
ボールスクリューを用いた公知の構成などを採用するこ
とができる。
あるいは、立設された支柱に一対の水平ビームを昇降ブ
ラケットを介して昇降可能に支持し、水平ビームに磁石
列を支持させ、昇降ブラケットを位相調整機構を有する
カップリングで1本となした相互に逆ねじが螺刻された
1対のスクリューシャフトに螺合させて、相対向させた
一対の磁石列のキャップを極めて高精度かつ高平行度で
調整位置決めできる偏光発生装置(特願平1−2573
37号)としたり、さらに昇降支持機構に、昇降ブラケ
ットの垂直摺動面をテーパー面となしてこれと逆テーパ
ー面の低摩擦係数スライダ一部材を用い、支柱垂直面と
昇降ブラケットの当該所定面との間の隙間をなくするな
ど、μm単位の変位を取り扱う高精度の機械的機構を採
用することができる。
ラケットを介して昇降可能に支持し、水平ビームに磁石
列を支持させ、昇降ブラケットを位相調整機構を有する
カップリングで1本となした相互に逆ねじが螺刻された
1対のスクリューシャフトに螺合させて、相対向させた
一対の磁石列のキャップを極めて高精度かつ高平行度で
調整位置決めできる偏光発生装置(特願平1−2573
37号)としたり、さらに昇降支持機構に、昇降ブラケ
ットの垂直摺動面をテーパー面となしてこれと逆テーパ
ー面の低摩擦係数スライダ一部材を用い、支柱垂直面と
昇降ブラケットの当該所定面との間の隙間をなくするな
ど、μm単位の変位を取り扱う高精度の機械的機構を採
用することができる。
実施例
第1図に示すこの発明による磁石列の構成において、
磁石材料にNd−B−Fe系永久磁石を用い、磁化方向
がY方向の磁石寸法を、輻=4mm(−万端)、8mm
(他方端)、厚み=15mm、長さ=80mmの上面を
台形状とし、磁化方向が2方向の磁石寸法を、幅=4m
m、厚み=15mm、長さ=80mmの上面を平行四辺
形状として、 磁石列全長を1800mmに設定し、上面がらみた下磁
石列が第3図すに示す如きウィグラーを作製した。
がY方向の磁石寸法を、輻=4mm(−万端)、8mm
(他方端)、厚み=15mm、長さ=80mmの上面を
台形状とし、磁化方向が2方向の磁石寸法を、幅=4m
m、厚み=15mm、長さ=80mmの上面を平行四辺
形状として、 磁石列全長を1800mmに設定し、上面がらみた下磁
石列が第3図すに示す如きウィグラーを作製した。
また、比較のため、上記条件で全磁石寸法を同一の4m
m(幅)X15mm(厚み)X80mm(長さ)にした
第5図に示す磁石列で、第7図に示す四重極を配設した
ウィグラーを作製した。
m(幅)X15mm(厚み)X80mm(長さ)にした
第5図に示す磁石列で、第7図に示す四重極を配設した
ウィグラーを作製した。
得られたこの発明によるウィグラーのビーム入口から出
口のX=0位置における磁場強度を測定したところ、第
3図aに示す結果を得た。
口のX=0位置における磁場強度を測定したところ、第
3図aに示す結果を得た。
また、第4図すに示す如<X=20mmの位置における
磁場強度を測定したところ、第4図aに示す結果を得た
。
磁場強度を測定したところ、第4図aに示す結果を得た
。
この発明によるウィグラーでは、第4図aに示すとおり
X=0での磁場強度よりもX=20のほうが磁場強度が
高く、X方向へ向かう電子ビームを収束させ、電子ビー
ムの拡散及びビームエネルギーのロスを防ぐことができ
、四重極を配設したウィグラーと比較しても同等であっ
た。
X=0での磁場強度よりもX=20のほうが磁場強度が
高く、X方向へ向かう電子ビームを収束させ、電子ビー
ムの拡散及びビームエネルギーのロスを防ぐことができ
、四重極を配設したウィグラーと比較しても同等であっ
た。
発明の効果
この発明による偏光発生装置は、各磁石列の±Y方向に
磁化方向を有する磁石のX方向の磁場分布を、土X方向
の一方に高くなるようにして2方向に交互に配置するこ
とにより、装置を複雑かつ大型化することなく通過電子
ビームを収束させてビームエネルギーを低下させること
がない。
磁化方向を有する磁石のX方向の磁場分布を、土X方向
の一方に高くなるようにして2方向に交互に配置するこ
とにより、装置を複雑かつ大型化することなく通過電子
ビームを収束させてビームエネルギーを低下させること
がない。
第1図a、b、cはこの発明による偏光発生装置の磁石
列の構成を示す斜視説明図であり、いずれも下側磁石列
を示すが上側も同様構成である。 第2図a、bはこの発明による磁石列のX方向の磁場分
布を示す説明図ある。 第3図a、b、第4図a、bはこの発明による偏光発生
装置の電子ビーム入口から出口における磁界強度分布図
と上面からみた下磁石列の説明図である。 第5図は従来の偏光発生装置の磁石列の構成を示す斜視
説明図である。 第6図は従来の磁石列のX方向の磁場分布を示す説明図
ある。 第7図は従来の偏光発生装置の磁石列の構成を示す説明
図である。 1.10・・・磁石列、 2a、2b、3a、3b、lla、llb、12a、1
2b−磁石、13aJ3b、14a、14b、15aJ
5b、16a、16b磁石。
列の構成を示す斜視説明図であり、いずれも下側磁石列
を示すが上側も同様構成である。 第2図a、bはこの発明による磁石列のX方向の磁場分
布を示す説明図ある。 第3図a、b、第4図a、bはこの発明による偏光発生
装置の電子ビーム入口から出口における磁界強度分布図
と上面からみた下磁石列の説明図である。 第5図は従来の偏光発生装置の磁石列の構成を示す斜視
説明図である。 第6図は従来の磁石列のX方向の磁場分布を示す説明図
ある。 第7図は従来の偏光発生装置の磁石列の構成を示す説明
図である。 1.10・・・磁石列、 2a、2b、3a、3b、lla、llb、12a、1
2b−磁石、13aJ3b、14a、14b、15aJ
5b、16a、16b磁石。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 磁化方向が異なる複数の磁石を所要パターンで水平配列
した一対の磁石列を相対向して、磁石列間に所要ギャッ
プを形成し、該ギャップ内を通過する電子に磁界を作用
させる偏光発生装置において、 電子の通過するギャップ中心の水平方向をZ方向、Z方
向に直交する水平方向を±X方向、Z方向に直交する垂
直方向を±Y方向とした場合、各磁石列の±Y方向に磁
化方向を有する磁石が、X方向の磁場分布がX方向の一
方端へ高く傾斜した特性を有し、 該特性を有する磁石をZ方向に配列するに際し、X方向
の磁場分布のピークがZ方向にX方向の+方向、−方向
と交互に現れるよう配置したことを特徴とする偏光発生
装置。 2 各磁石列の±Y方向に磁化方向を有する磁石が、X方向
に大きさを変化させてX方向の一方端へ高く傾斜したX
方向の磁場分布を持たせたことを特徴とする請求項1記
載の偏光発生装置。 3 各磁石列の±Y方向に磁化方向を有する磁石が、Y方向
に大きさを変化させてX方向の一方端へ高く傾斜したX
方向の磁場分布を持たせたことを特徴とする請求項1記
載の偏光発生装置。 4 各磁石列の±Y方向に磁化方向を有する磁石が、粒子配
向を変化させてX方向の一方端へ高く傾斜したX方向の
磁場分布を持たせたことを特徴とする請求項1記載の偏
光発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25825890A JP2769914B2 (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | 偏光発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25825890A JP2769914B2 (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | 偏光発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04134300A true JPH04134300A (ja) | 1992-05-08 |
| JP2769914B2 JP2769914B2 (ja) | 1998-06-25 |
Family
ID=17317734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25825890A Expired - Fee Related JP2769914B2 (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | 偏光発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2769914B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08155683A (ja) * | 1994-12-02 | 1996-06-18 | Nisshinbo Ind Inc | 液圧プレス装置 |
-
1990
- 1990-09-26 JP JP25825890A patent/JP2769914B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08155683A (ja) * | 1994-12-02 | 1996-06-18 | Nisshinbo Ind Inc | 液圧プレス装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2769914B2 (ja) | 1998-06-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5383049A (en) | Elliptically polarizing adjustable phase insertion device | |
| EP0473097B1 (en) | System for irradiating a surface with atomic and molecular ions using two dimensional magnetic scanning | |
| KR100926398B1 (ko) | 리본 모양의 주입기 이온 빔의 특성 제어 | |
| JP2667832B2 (ja) | 偏向マグネット | |
| US4800353A (en) | Micropole undulator | |
| US4631743A (en) | X-ray generating apparatus | |
| US5596304A (en) | Permanent magnet edge-field quadrupole | |
| JPH0547494A (ja) | 多極ウイグラ | |
| JPH04134300A (ja) | 偏光発生装置 | |
| US5565747A (en) | Magnetic field generator for use with insertion device | |
| JP6393929B1 (ja) | アンジュレータ用磁石、アンジュレータおよび、放射光発生装置 | |
| JP2006351312A (ja) | イオン注入装置 | |
| JP3204920B2 (ja) | 永久磁石型偏向磁石装置および電子蓄積リング | |
| JPH04134299A (ja) | 偏光発生装置 | |
| DE19608192B4 (de) | Verfahren zum Betreiben eines Geräts, das ein periodisches Magnetfeld erzeugt | |
| JP5427235B2 (ja) | 挿入光源 | |
| JP4106500B2 (ja) | 挿入型偏光発生装置 | |
| JPH04269700A (ja) | 挿入光源用磁気回路の磁場強度調整方法 | |
| JP3995358B2 (ja) | 挿入型偏光発生装置 | |
| JPH04242196A (ja) | 挿入光源用磁気回路の磁場強度調整方法 | |
| JPH0660998A (ja) | 収束型多極アンジュレータ | |
| US12207387B2 (en) | Force neutral adjustable phase undulator | |
| JP2700687B2 (ja) | ウィグラー装置 | |
| JP3164771B2 (ja) | 平面型可変偏光アンジュレータの磁場調整方法 | |
| JPH04198800A (ja) | ハイブリッドウィグラー |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |