JPH04134300A - 偏光発生装置 - Google Patents

偏光発生装置

Info

Publication number
JPH04134300A
JPH04134300A JP25825890A JP25825890A JPH04134300A JP H04134300 A JPH04134300 A JP H04134300A JP 25825890 A JP25825890 A JP 25825890A JP 25825890 A JP25825890 A JP 25825890A JP H04134300 A JPH04134300 A JP H04134300A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnets
magnet
magnetic field
field distribution
polarized light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP25825890A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2769914B2 (ja
Inventor
Hirobumi Takabayashi
博文 高林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Proterial Ltd
Original Assignee
Sumitomo Special Metals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Special Metals Co Ltd filed Critical Sumitomo Special Metals Co Ltd
Priority to JP25825890A priority Critical patent/JP2769914B2/ja
Publication of JPH04134300A publication Critical patent/JPH04134300A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2769914B2 publication Critical patent/JP2769914B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Particle Accelerators (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、挿入型光源や自由電子レーザーに用いられ
るウィグラーまたはアンジュレータ−と呼ばれる偏光発
生装置の改良に係り、各磁石列の±YX方向磁化方向を
有する磁石のX方向の磁場分布を、±X方向の一方に高
くなるようにしてZ方向に交互に配置することにより、
通過電子ビームを収束させてエネルギーロスを低減した
偏光発生装置に関する。
従来の技術 光速に近い電子ビームが磁界中を通過すると電磁波、す
なわちシンクロトロン放射光を発生ずるが、異磁極磁石
を交互に配置して磁界方向が交互に変化する磁界中にこ
の電子ビームを通過させると、相互に干渉し合いより輝
度の高い光が得られる。(特開昭61−19100号公
報)かかる干渉性放射光発生装置は挿入型光源と呼ばれ
、例えば、電子蓄積リングに用いられ、偏光特性の違い
から、磁界の周波数(N)の2N倍の光が得られるタイ
プがウィグラー、これより磁界が弱く電子軌道の振幅が
極めて小さいがN2の強度の光が得られるタイプがアン
ジュレータ−と呼ばれている。
偏光発生装置の構成は、所要寸法の多数個の磁化方向が
異なる磁石を、磁界方向が交互に変化するように所要パ
ターンで配列ニーだ一月の磁石列を、垂直支柱に種々の
機械的支持機構を用いて相対向させてあり、所要の高輝
度放射光を得るためには磁界強度を変化させる必要があ
り、この磁石列間を所要のギャップ(Lg)寸法に調整
位置決めできるように構成しである。
発明が解決しようとする課題 例えば、磁場の強度及び周期を変えることにより発振波
長を連続的に変化させることができる自由電子レーザー
に用いられるウィグラーの磁気回路の構成には、第5図
に示す如く、所要寸法の多数個の磁化方向が異なる磁石 (2a、bX3a、bXlla、bX12a、b)を、
電子の通過するギャップ中心の水平方向を2方向、2方
向に直交する水平方向を±X方向、2方向に直交する垂
直方向を±YX方向した場合、磁界方向が交互に変化す
るように所要パターンで2方向に配列した一対の磁石列
(IXIO)を、ギャップ調整可能に機織的支持機構を
用いて相対向させた構成がある。
かかる磁石列の構成において、ビームが拡赦しビームエ
ネルギーが低下して目的とする自由電子レー廿−が得ら
れない問題があった。
そこで、ビームの収束度を高めてビームエネルギーロス
を防ぐため、第7図に示す如く、一対の磁石列(IXI
O)の周囲にギャップ中心方向に磁化方向を有する八重
極磁石(20)を配置した磁気回路を製作したが、回路
が複雑かつ大型化になると共に製作費用が高くつく問題
があった。
この発明は、電子ビームを収束させてビームエ、ネルギ
ーの低下が少ない構成からなる偏光発生装置の提供を目
的としている。
課題を解決するための手段 この発明は、 磁化方向が異なる複数の磁石を所要パターンで水平配列
した一対の磁石列を相対向して、磁石列間に所要ギャッ
プを形成し、該ギャップ内を通過する電子に磁界を作用
させる偏光発生装置において、 電子の通過するギャップ中心の水平方向を2方向、2方
向に直交する水平方向を±X方向、2万同に直交する垂
直方向を±YX方向しまた場合、各磁石列の±YX方向
磁化方向を有する磁石が、X方向の磁場分布がX方向の
一方端へ高く傾斜した特性を有し、 該特性を有する磁石を2方向に配列するに際し、X方向
の磁場分布のピークが2方向にX方向の子方向、一方向
と交互に現れるよう配置したことを特徴とする偏光発生
装置である。
作  用 この発明は、偏光発生装置において、電子ビム収束度を
向上させ得る構成を目的に磁石列について種々検討した
結果、前述した第5図の磁石列の構成において、X方向
の磁場分布を測定すると、第6図に示す如く、空隙幅方
向の中心(X = 0)でB(磁場強度)が最大となり
、中心からずれるにしたがって磁場強度は低下しており
、電子ビームを2軸方向へ流すと電子ビームは蛇行しな
がら進もか、中心以外は磁場強度が低いためビームか拡
赦しエネルギーロスが大きくなることに着目し、各磁石
列の±Y力方向磁化方向を有する磁石のX方向の磁場分
布を、±X方向の一方に高くなるようにしてZ方向に交
互に配置することにより、通過電子ビームを収束させて
エネルギーロスを低減できることを知見し、この発明を
完成したものである。
この発明において、各磁石列の±Y力方向磁化方向を有
する磁石のX方向の磁場分布をX方向の一方端へ高く傾
斜した特性とする手段には、後述する如く、X方向に大
きさを変化させたり、またはY方向に大きさを変化させ
てX方向の一方端へ高く傾斜したX方向の該磁場分布特
性を持たせるか、あるいは配向方向をX方向−万端部は
通常配向で、他方端部は故意に配向を乱して変化させる
手段がある。
図面に基づく開示 第1図a、b、cは二の発明による偏光発生装置の磁石
列の構成を示す斜視説明図であり、いずれも下側磁石列
を示すが上側も同様構成である。
第2図a、bはX方向の磁場分布を示す説明図である。
構成1 第1図aに示すこの発明による磁石列の構成は、昇降可
能に水平支持されて対向路#(空隙)を調整できる一対
の磁石保持板(図示せず)にそれぞれ磁石を配列するも
のであるが、下側磁石列(10)で明らかなように、磁
界方向が交互に変化するように所要パターンで2方向に
各種寸法及び磁化方向の磁石(13a、bX14a、b
)が配列しである。
詳述すると、磁石列(10)を構成する磁化方向がY方
向の2種類の磁石(14aX14b)は、他磁石(13
aX13b)と同様に厚み(Y方向)及び長さ(X方向
)が一定であるが、幅(Z方向)が長さ(X方向)に変
化しており、上面(Y方向)から見れば台形を形成した
同一形状寸法からなり、配列に際して磁化方向の±Y力
方向交互に逆になるようにしてあり、当該磁石(14a
X 14b)間に上面(Y方向)から見れば平行四辺形
を形成し磁化方向か±2方向の磁石(13aX13b)
を配設して、磁界方向が交互に変化する所要パターンを
形成しである。
すなわち、磁化方向が−Y力方向磁石 (14a)は+X方向に大きくなっているため、X方向
の磁場分布は第2図aに示す如く、+X方向端へ高く傾
斜した特性となり、また、磁化方向が+Y力方向磁石(
14b)は−X方向に大きくなっているため、X方向の
磁場分布は第2図すに示す如く、−X方向端へ高く傾斜
した特性となる。
かかる構成からなる上下一対の磁石列間に電子ビームが
通過すると、2方向にみれば、X方向の一方端へ高く傾
斜した磁場分布の傾斜方向が交互に逆向きに現れるため
、電子ビームの拡散が防止されて電子ビームが収束し、
ビームエネルギーのロスを低減できる。
第2図に示すX方向の一方端へ高く傾斜した磁場分布の
傾斜度合いは、要求される電子ビームの収束度に応じて
適宜選定され、磁石形状、寸法も磁石特性と該要求に応
じて適宜選定される。
構成2 第1図すに示すこの発明による磁石列の構成は、前述の
第1図aに示す構成と同様の技術手段からなり、磁界方
向が交互に変化する同様のパターンを有する磁石列(1
0)において、磁化方向がY方向の2種類の磁石(15
aX15b)は、農政磁石(15aX15b)間に配列
される他磁石(11aX11b)と同様に長さ(X方向
)及び幅(2方向)か°一定であるが、厚み(Y方向)
が長さ(X方向)に変化しており、Z方向から見れば台
形を形成した同一形状寸法からなり、配列に際して磁化
方向の±Y力方向交互に逆になるようにしてあり、2方
向にみれば、X方向の一方端へ高く傾斜した磁場分布の
傾斜方向が交互に逆向きに現れ、第1図aに示す構成と
同様の作用効果を奏する。
構成3 第1図Cに示すこの発明による磁石列の構成は、前述の
第5図に示す磁石列と全く同様であるが、磁化方向がY
方向の磁石(16aX16b)に、磁石内部の粒子配向
をX方向−万端部は通常配向で、他方端部は故意に配向
を乱して磁場分布が第2図。、bと同様となるよう構成
してあり、2方向にみれば、X方向の一方端へ高く傾斜
した磁場分布の傾斜方向が交互に逆向きに現れ、第1図
aに示す構成と同様の作用効果を奏する。
上述の何れの構成においても、各々上述の磁石列を有す
る一対の磁石保持板を昇降可能に水平支持して対向距離
(空隙)を調整する機械的機構には、磁石列を装着した
支持ビームを直動型軸受を介在させて垂直支柱に当接さ
せるが、所要形状の垂直支柱を内挿した構成、あるいは
ボールスクリューを用いた公知の構成などを採用するこ
とができる。
あるいは、立設された支柱に一対の水平ビームを昇降ブ
ラケットを介して昇降可能に支持し、水平ビームに磁石
列を支持させ、昇降ブラケットを位相調整機構を有する
カップリングで1本となした相互に逆ねじが螺刻された
1対のスクリューシャフトに螺合させて、相対向させた
一対の磁石列のキャップを極めて高精度かつ高平行度で
調整位置決めできる偏光発生装置(特願平1−2573
37号)としたり、さらに昇降支持機構に、昇降ブラケ
ットの垂直摺動面をテーパー面となしてこれと逆テーパ
ー面の低摩擦係数スライダ一部材を用い、支柱垂直面と
昇降ブラケットの当該所定面との間の隙間をなくするな
ど、μm単位の変位を取り扱う高精度の機械的機構を採
用することができる。
実施例 第1図に示すこの発明による磁石列の構成において、 磁石材料にNd−B−Fe系永久磁石を用い、磁化方向
がY方向の磁石寸法を、輻=4mm(−万端)、8mm
(他方端)、厚み=15mm、長さ=80mmの上面を
台形状とし、磁化方向が2方向の磁石寸法を、幅=4m
m、厚み=15mm、長さ=80mmの上面を平行四辺
形状として、 磁石列全長を1800mmに設定し、上面がらみた下磁
石列が第3図すに示す如きウィグラーを作製した。
また、比較のため、上記条件で全磁石寸法を同一の4m
m(幅)X15mm(厚み)X80mm(長さ)にした
第5図に示す磁石列で、第7図に示す四重極を配設した
ウィグラーを作製した。
得られたこの発明によるウィグラーのビーム入口から出
口のX=0位置における磁場強度を測定したところ、第
3図aに示す結果を得た。
また、第4図すに示す如<X=20mmの位置における
磁場強度を測定したところ、第4図aに示す結果を得た
この発明によるウィグラーでは、第4図aに示すとおり
X=0での磁場強度よりもX=20のほうが磁場強度が
高く、X方向へ向かう電子ビームを収束させ、電子ビー
ムの拡散及びビームエネルギーのロスを防ぐことができ
、四重極を配設したウィグラーと比較しても同等であっ
た。
発明の効果 この発明による偏光発生装置は、各磁石列の±Y方向に
磁化方向を有する磁石のX方向の磁場分布を、土X方向
の一方に高くなるようにして2方向に交互に配置するこ
とにより、装置を複雑かつ大型化することなく通過電子
ビームを収束させてビームエネルギーを低下させること
がない。
【図面の簡単な説明】
第1図a、b、cはこの発明による偏光発生装置の磁石
列の構成を示す斜視説明図であり、いずれも下側磁石列
を示すが上側も同様構成である。 第2図a、bはこの発明による磁石列のX方向の磁場分
布を示す説明図ある。 第3図a、b、第4図a、bはこの発明による偏光発生
装置の電子ビーム入口から出口における磁界強度分布図
と上面からみた下磁石列の説明図である。 第5図は従来の偏光発生装置の磁石列の構成を示す斜視
説明図である。 第6図は従来の磁石列のX方向の磁場分布を示す説明図
ある。 第7図は従来の偏光発生装置の磁石列の構成を示す説明
図である。 1.10・・・磁石列、 2a、2b、3a、3b、lla、llb、12a、1
2b−磁石、13aJ3b、14a、14b、15aJ
5b、16a、16b磁石。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 磁化方向が異なる複数の磁石を所要パターンで水平配列
    した一対の磁石列を相対向して、磁石列間に所要ギャッ
    プを形成し、該ギャップ内を通過する電子に磁界を作用
    させる偏光発生装置において、 電子の通過するギャップ中心の水平方向をZ方向、Z方
    向に直交する水平方向を±X方向、Z方向に直交する垂
    直方向を±Y方向とした場合、各磁石列の±Y方向に磁
    化方向を有する磁石が、X方向の磁場分布がX方向の一
    方端へ高く傾斜した特性を有し、 該特性を有する磁石をZ方向に配列するに際し、X方向
    の磁場分布のピークがZ方向にX方向の+方向、−方向
    と交互に現れるよう配置したことを特徴とする偏光発生
    装置。 2 各磁石列の±Y方向に磁化方向を有する磁石が、X方向
    に大きさを変化させてX方向の一方端へ高く傾斜したX
    方向の磁場分布を持たせたことを特徴とする請求項1記
    載の偏光発生装置。 3 各磁石列の±Y方向に磁化方向を有する磁石が、Y方向
    に大きさを変化させてX方向の一方端へ高く傾斜したX
    方向の磁場分布を持たせたことを特徴とする請求項1記
    載の偏光発生装置。 4 各磁石列の±Y方向に磁化方向を有する磁石が、粒子配
    向を変化させてX方向の一方端へ高く傾斜したX方向の
    磁場分布を持たせたことを特徴とする請求項1記載の偏
    光発生装置。
JP25825890A 1990-09-26 1990-09-26 偏光発生装置 Expired - Fee Related JP2769914B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25825890A JP2769914B2 (ja) 1990-09-26 1990-09-26 偏光発生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25825890A JP2769914B2 (ja) 1990-09-26 1990-09-26 偏光発生装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04134300A true JPH04134300A (ja) 1992-05-08
JP2769914B2 JP2769914B2 (ja) 1998-06-25

Family

ID=17317734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25825890A Expired - Fee Related JP2769914B2 (ja) 1990-09-26 1990-09-26 偏光発生装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2769914B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08155683A (ja) * 1994-12-02 1996-06-18 Nisshinbo Ind Inc 液圧プレス装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08155683A (ja) * 1994-12-02 1996-06-18 Nisshinbo Ind Inc 液圧プレス装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2769914B2 (ja) 1998-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5383049A (en) Elliptically polarizing adjustable phase insertion device
EP0473097B1 (en) System for irradiating a surface with atomic and molecular ions using two dimensional magnetic scanning
KR100926398B1 (ko) 리본 모양의 주입기 이온 빔의 특성 제어
JP2667832B2 (ja) 偏向マグネット
US4800353A (en) Micropole undulator
US4631743A (en) X-ray generating apparatus
US5596304A (en) Permanent magnet edge-field quadrupole
JPH0547494A (ja) 多極ウイグラ
JPH04134300A (ja) 偏光発生装置
US5565747A (en) Magnetic field generator for use with insertion device
JP6393929B1 (ja) アンジュレータ用磁石、アンジュレータおよび、放射光発生装置
JP2006351312A (ja) イオン注入装置
JP3204920B2 (ja) 永久磁石型偏向磁石装置および電子蓄積リング
JPH04134299A (ja) 偏光発生装置
DE19608192B4 (de) Verfahren zum Betreiben eines Geräts, das ein periodisches Magnetfeld erzeugt
JP5427235B2 (ja) 挿入光源
JP4106500B2 (ja) 挿入型偏光発生装置
JPH04269700A (ja) 挿入光源用磁気回路の磁場強度調整方法
JP3995358B2 (ja) 挿入型偏光発生装置
JPH04242196A (ja) 挿入光源用磁気回路の磁場強度調整方法
JPH0660998A (ja) 収束型多極アンジュレータ
US12207387B2 (en) Force neutral adjustable phase undulator
JP2700687B2 (ja) ウィグラー装置
JP3164771B2 (ja) 平面型可変偏光アンジュレータの磁場調整方法
JPH04198800A (ja) ハイブリッドウィグラー

Legal Events

Date Code Title Description
S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees