JPH04134843A - ウェーハキャリアの検査方法 - Google Patents
ウェーハキャリアの検査方法Info
- Publication number
- JPH04134843A JPH04134843A JP25793090A JP25793090A JPH04134843A JP H04134843 A JPH04134843 A JP H04134843A JP 25793090 A JP25793090 A JP 25793090A JP 25793090 A JP25793090 A JP 25793090A JP H04134843 A JPH04134843 A JP H04134843A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer carrier
- wafer
- fluorine
- chemical
- cleaning
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
ウェーハキャリア、特にウェーハ処理等に使用する弗素
樹脂製ウェーハキャリアの検査方法に関し、 ウェーハキャリアに吸収された薬品がそのウェーハキャ
リアに収容中のウェーハ表面を変質させることによる歩
留り低下を防止することを目的とし、 つ二一ハキャリアを洗浄液中で超音波洗浄し、該洗浄液
中に溶出した特定物質の濃度を測定し、該測定結果に基
づいて該ウェーハキャリアの使用可否を判定するように
構成する。
樹脂製ウェーハキャリアの検査方法に関し、 ウェーハキャリアに吸収された薬品がそのウェーハキャ
リアに収容中のウェーハ表面を変質させることによる歩
留り低下を防止することを目的とし、 つ二一ハキャリアを洗浄液中で超音波洗浄し、該洗浄液
中に溶出した特定物質の濃度を測定し、該測定結果に基
づいて該ウェーハキャリアの使用可否を判定するように
構成する。
本発明は、ウェーハキャリア、特にウェーハ処理等に使
用する弗素樹脂製ウェーハキャリアの検査方法に関する
。
用する弗素樹脂製ウェーハキャリアの検査方法に関する
。
半導体装置の製造工程にあっては、ウェーハの洗浄、乾
燥、搬送、保管等の目的でウェーハキャリアが大量に使
用されている。その形状や材質はその使用目的に応じて
異なっている。近年、ウェーハ処理工程の自動化が進み
、ウェーハの移し換え頻度を減らすために、多目的の使
用が可能なつ工−ハキャリアが望まれている。この要求
に応えることが可能な材料として、弗素樹脂、特にＰＦ
Ａと呼ばれる種類のものがある。このＰＦＡはテトラフ
ルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテル
との共重合体であり、耐薬品性、耐熱性が優れており、
しかも成形性も悪くない。従って、薬液洗浄とその後の
加熱乾燥を含む多目的ウェーハキャリアとして広く使用
されるようになって来た。
燥、搬送、保管等の目的でウェーハキャリアが大量に使
用されている。その形状や材質はその使用目的に応じて
異なっている。近年、ウェーハ処理工程の自動化が進み
、ウェーハの移し換え頻度を減らすために、多目的の使
用が可能なつ工−ハキャリアが望まれている。この要求
に応えることが可能な材料として、弗素樹脂、特にＰＦ
Ａと呼ばれる種類のものがある。このＰＦＡはテトラフ
ルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテル
との共重合体であり、耐薬品性、耐熱性が優れており、
しかも成形性も悪くない。従って、薬液洗浄とその後の
加熱乾燥を含む多目的ウェーハキャリアとして広く使用
されるようになって来た。
ところがこの樹脂には他の樹脂と同様、薬液の浸透性が
ある。それは僅かなものであるが蓄積性があるため、浸
透した薬液が後でガスとして放出され、収容しているウ
ェーハの表面を変質させることがあり、その対策が必要
である。
ある。それは僅かなものであるが蓄積性があるため、浸
透した薬液が後でガスとして放出され、収容しているウ
ェーハの表面を変質させることがあり、その対策が必要
である。
ＰＦＡ製のウェーハキャリアには上述のように薬液の浸
透性があり、しかも繰り返し薬液に曝されているうちに
吸収量が増加し、やがて収容しているウェーハの表面を
変質させるようになる。これを防ぐために、従来はＰＦ
Ａ製のウェーハキャリアを、経験的に定めた周期（例え
ば１週間）で定期的に純水洗浄とベーキング（例えば２
００°Ｃ１３０分）を行っていた。
透性があり、しかも繰り返し薬液に曝されているうちに
吸収量が増加し、やがて収容しているウェーハの表面を
変質させるようになる。これを防ぐために、従来はＰＦ
Ａ製のウェーハキャリアを、経験的に定めた周期（例え
ば１週間）で定期的に純水洗浄とベーキング（例えば２
００°Ｃ１３０分）を行っていた。
ところが、ウェーハの薬液洗浄に使用したウェーハキャ
リアをこのような方法で水洗、ベーキングを実施しても
、充分に吸収薬液が除去されているとは限らず、その後
の使用でウエーノ凡の表面を変質させることがあり、特
に微細構造の素子を有するウェーハの処理工程では歩留
りを低下させる、という問題があった。
リアをこのような方法で水洗、ベーキングを実施しても
、充分に吸収薬液が除去されているとは限らず、その後
の使用でウエーノ凡の表面を変質させることがあり、特
に微細構造の素子を有するウェーハの処理工程では歩留
りを低下させる、という問題があった。
本発明は、このような問題を解決して、ウニ・−ハキャ
リアに吸収された薬品がそのウェーハキャリアに収容中
のウェーハ表面を変質させることによる歩留り低下を防
止することを目的とする。
リアに吸収された薬品がそのウェーハキャリアに収容中
のウェーハ表面を変質させることによる歩留り低下を防
止することを目的とする。
この目的は、本発明によれば、ウェーハキャリアを洗浄
液中で超音波洗浄し、該洗浄液中に溶出した特定物質の
濃度を測定し、該測定結果に基づいて該ウェーハキャリ
アの使用可否を判定するすることを特徴とするウェーハ
キャリアの検査方法とすることで、達成される。
液中で超音波洗浄し、該洗浄液中に溶出した特定物質の
濃度を測定し、該測定結果に基づいて該ウェーハキャリ
アの使用可否を判定するすることを特徴とするウェーハ
キャリアの検査方法とすることで、達成される。
シリコン・ウェーハの薬液洗浄には弗酸等、弗素を含む
薬液を使用することが多く、又、ウェーハ表面が弗素の
影響を受は易い状態にあることが多いから、使用中のウ
ェーハキャリアに弗素がどの程度吸収されているかを知
ることにより、そのウェーハキャリアの使用継続の可否
を判定することは有効である。
薬液を使用することが多く、又、ウェーハ表面が弗素の
影響を受は易い状態にあることが多いから、使用中のウ
ェーハキャリアに弗素がどの程度吸収されているかを知
ることにより、そのウェーハキャリアの使用継続の可否
を判定することは有効である。
一定条件でウェーハキャリアから純水に溶出する弗素イ
オンの濃度を測定することにより、つ工−ハキャリアに
弗素がどの程度吸収されているがを知ることが出来る。
オンの濃度を測定することにより、つ工−ハキャリアに
弗素がどの程度吸収されているがを知ることが出来る。
弗素イオンの濃度は、ランタン・アリザリンコンブレク
ラン吸光光度法により測定する。即ち、試料液にアルフ
ッソン試薬を加え、これに波長６２Ｏｎｍ付近の光を照
射して試料液の吸光度を測定する。これは、この試薬に
含まれるランタンとアリサリンコンブレクソンとの錯体
が試料液中の弗素イオンと反応して生ずる青色の複合錯
体の量に応じて、この試料液の６２０ ｎｍ付近での吸
光度が変化すること利用したものである。
ラン吸光光度法により測定する。即ち、試料液にアルフ
ッソン試薬を加え、これに波長６２Ｏｎｍ付近の光を照
射して試料液の吸光度を測定する。これは、この試薬に
含まれるランタンとアリサリンコンブレクソンとの錯体
が試料液中の弗素イオンと反応して生ずる青色の複合錯
体の量に応じて、この試料液の６２０ ｎｍ付近での吸
光度が変化すること利用したものである。
本発明に基づくウェーハキャリアの検査方法の実施例を
説明する。先ず被検査物のウェーハキャリアを超音波洗
浄する。洗浄液には純水を用いる。
説明する。先ず被検査物のウェーハキャリアを超音波洗
浄する。洗浄液には純水を用いる。
液量、超音波の周波数、洗浄時間等の洗浄条件は一定と
する。次に洗浄液を一定量採取してこれを試料液とする
。この試料液に一定量のアルフッソン試薬を滴下する。
する。次に洗浄液を一定量採取してこれを試料液とする
。この試料液に一定量のアルフッソン試薬を滴下する。
試料液に弗素イオンが溶出している場合には、試料液は
青紫色を呈する。その後この試料液の一部を所定の小容
器に入れ、吸光光度計でこの試料液の６２０ ｎｍにお
ける吸光度を測定する。その測定結果によりそのウェー
ハキャリアの使用継続の可否を判定する。
青紫色を呈する。その後この試料液の一部を所定の小容
器に入れ、吸光光度計でこの試料液の６２０ ｎｍにお
ける吸光度を測定する。その測定結果によりそのウェー
ハキャリアの使用継続の可否を判定する。
以上の方法により本発明者が実験的にウェーハキャリア
から溶出させた弗素イオン濃度を測定した結果を記す。
から溶出させた弗素イオン濃度を測定した結果を記す。
実験は次のように行った。先ず未使用のＰＦＡ製ウェー
ハキャリア（５インチ・ウェーハ用）２個を準備し、こ
れらをそれぞれ２回純水洗浄しくいずれも室温、１０分
）、次に加熱乾燥した（１１０°Ｃ，１５分）。次にこ
れらを１０％弗化水素酸（液温は２０〜２５°Ｃ）に浸
漬した。浸漬時間は第一のウェーハキャリア（以下、■
と記す）が４週間、第二のウェーハキャリア（以下、■
と記す）が６週間である。浸漬期間終了後、これらを純
水洗浄しく室温、１０分）、その後これらをそれぞれ２
Ｉ！の純水中で超音波洗浄した（４１ ＫＨｚ、 ２
時間）。洗浄後の純水をそれぞれ試料液として採取し、
上述の方法で弗素イオン濃度を測定した結果を第１図に
示す。同図から明らかなように、いずれの場合にも弗素
イオンが検出されており、且つ■と■に濃度の差が出て
いる。
ハキャリア（５インチ・ウェーハ用）２個を準備し、こ
れらをそれぞれ２回純水洗浄しくいずれも室温、１０分
）、次に加熱乾燥した（１１０°Ｃ，１５分）。次にこ
れらを１０％弗化水素酸（液温は２０〜２５°Ｃ）に浸
漬した。浸漬時間は第一のウェーハキャリア（以下、■
と記す）が４週間、第二のウェーハキャリア（以下、■
と記す）が６週間である。浸漬期間終了後、これらを純
水洗浄しく室温、１０分）、その後これらをそれぞれ２
Ｉ！の純水中で超音波洗浄した（４１ ＫＨｚ、 ２
時間）。洗浄後の純水をそれぞれ試料液として採取し、
上述の方法で弗素イオン濃度を測定した結果を第１図に
示す。同図から明らかなように、いずれの場合にも弗素
イオンが検出されており、且つ■と■に濃度の差が出て
いる。
本発明は以上の実施例に限定されることなく、更に種々
変形して実施出来る。
変形して実施出来る。
よる歩留り低下を防止するウェーハキャリアの検査方法
を提供することが出来る。
を提供することが出来る。
第１図はウェーハキャリアから溶出した弗素イオン濃度
の測定例を示すグラフ、である。 図中、■は１０％弗化水素酸への浸漬時間４週間のウェ
ーハキャリアのデータ、 ■は１０％弗化水素酸への浸漬時間６週間のウェーハキ
ャリアのデータ、である。 〔発明の効果〕
の測定例を示すグラフ、である。 図中、■は１０％弗化水素酸への浸漬時間４週間のウェ
ーハキャリアのデータ、 ■は１０％弗化水素酸への浸漬時間６週間のウェーハキ
ャリアのデータ、である。 〔発明の効果〕
Claims (1)
- ウェーハキャリアを洗浄液中で超音波洗浄し、該洗浄
液中に溶出した特定物質の濃度を測定し、該測定結果に
基づいて該ウェーハキャリアの使用可否を判定すること
を特徴とするウェーハキャリアの検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25793090A JPH04134843A (ja) | 1990-09-27 | 1990-09-27 | ウェーハキャリアの検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25793090A JPH04134843A (ja) | 1990-09-27 | 1990-09-27 | ウェーハキャリアの検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04134843A true JPH04134843A (ja) | 1992-05-08 |
Family
ID=17313175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25793090A Pending JPH04134843A (ja) | 1990-09-27 | 1990-09-27 | ウェーハキャリアの検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04134843A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5896874A (en) * | 1996-07-02 | 1999-04-27 | Hirama Rika Kenkyujo Ltd. | Apparatus for controlling resist stripping solution |
| WO2014032143A1 (pt) * | 2012-08-27 | 2014-03-06 | União Brasileira De Educação E Assistência - Mantenedora Da Pucrs | Processo de limpeza superficial com ataque isotrópico para lâminas de silício texturadas |
-
1990
- 1990-09-27 JP JP25793090A patent/JPH04134843A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5896874A (en) * | 1996-07-02 | 1999-04-27 | Hirama Rika Kenkyujo Ltd. | Apparatus for controlling resist stripping solution |
| WO2014032143A1 (pt) * | 2012-08-27 | 2014-03-06 | União Brasileira De Educação E Assistência - Mantenedora Da Pucrs | Processo de limpeza superficial com ataque isotrópico para lâminas de silício texturadas |
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