JPH0413532A - 回転並進ステージ - Google Patents
回転並進ステージInfo
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- JPH0413532A JPH0413532A JP2114613A JP11461390A JPH0413532A JP H0413532 A JPH0413532 A JP H0413532A JP 2114613 A JP2114613 A JP 2114613A JP 11461390 A JP11461390 A JP 11461390A JP H0413532 A JPH0413532 A JP H0413532A
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- motor
- rotor
- boss
- rotation
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、加工対象物を位置決めする装置に関し、特に
並進と並進方向の周囲の回転の２つの自由度の位置決め
を行なうための装置に関する。
並進と並進方向の周囲の回転の２つの自由度の位置決め
を行なうための装置に関する。
［従来の技術］
半導体製造装置、たとえばステップ露光装！においては
、加工すべき半導体ウェハをチャックプレート等に受渡
し、チャックで吸着すること等で半導体ウェハを固定し
、種々の作業、たとえばステップ露光やホンディング等
を行なう。
、加工すべき半導体ウェハをチャックプレート等に受渡
し、チャックで吸着すること等で半導体ウェハを固定し
、種々の作業、たとえばステップ露光やホンディング等
を行なう。
半導体ウェハの受渡し時には回転誤差か生じる。
すなわちオリエンテーションフラットか所定方向から、
たとえば１度弱程度傾く。
たとえば１度弱程度傾く。
また半導体ウェハは厚み方向に規格によるばらつきと規
格内のばらつきを持つ、後者は数十μｍ程度、前者は主
に径により４００μｍ位から８００μｍ位までのばらつ
きである。
格内のばらつきを持つ、後者は数十μｍ程度、前者は主
に径により４００μｍ位から８００μｍ位までのばらつ
きである。
半導体露光装置やイオン注入装置のステージは、−船釣
にチップ毎または複数チップ毎に作業を行なうために半
導体ウェハを移動させるための粗動機構と、各作業位置
での微調整を行なうための微動機構を有する。
にチップ毎または複数チップ毎に作業を行なうために半
導体ウェハを移動させるための粗動機構と、各作業位置
での微調整を行なうための微動機構を有する。
上述の半導体ウェハの受渡し時の角度誤差および厚さの
ばらつきは、微動機構で調整するには値か大きすぎる。
ばらつきは、微動機構で調整するには値か大きすぎる。
微動機構の調節可能範囲を拡大すれば精度が低下してし
まう、そこで、ステージ等に適当な精度のθ方向とＺ方
向の調整機構が必要となる。
まう、そこで、ステージ等に適当な精度のθ方向とＺ方
向の調整機構が必要となる。
なお、この半導体ウェハ受渡しの際の誤差は、１度修正
すればその半導体ウェハについては再度修正する必要は
ないものである。
すればその半導体ウェハについては再度修正する必要は
ないものである。
第２図（Ａ）、（Ｂ）、＜Ｃ＞に従来技術によるθ２調
整機構の例を示す、第２図（Ａ）が縮方向の断面図を示
し、第２図（Ｂ）はθ方向の調整を行なうθステージの
平面図、第２図（Ｃ）はＺ方向の調整を行なうための清
心カム機構を示す。
整機構の例を示す、第２図（Ａ）が縮方向の断面図を示
し、第２図（Ｂ）はθ方向の調整を行なうθステージの
平面図、第２図（Ｃ）はＺ方向の調整を行なうための清
心カム機構を示す。
第２図（Ａ）において、チャックプレート５１は半導体
ウェハを真空、静電力等で吸着する。このチャックプレ
ート５１は３つの偏心カム５３によって２方向位置を調
整されている。偏心カム機構は第２図（Ｃ）に拡大して
示されるように、たとえば平面形状が卵形の偏心カム５
３をサーボモータ５２で回転させるものである。清心カ
ム５３の回転角度によって偏心カム５３の上端の高さが
変化する。３つの偏心カム５３の回転角度を変化させれ
ば、あおりの調整も行なえる。
ウェハを真空、静電力等で吸着する。このチャックプレ
ート５１は３つの偏心カム５３によって２方向位置を調
整されている。偏心カム機構は第２図（Ｃ）に拡大して
示されるように、たとえば平面形状が卵形の偏心カム５
３をサーボモータ５２で回転させるものである。清心カ
ム５３の回転角度によって偏心カム５３の上端の高さが
変化する。３つの偏心カム５３の回転角度を変化させれ
ば、あおりの調整も行なえる。
偏心カム５３とサーボモータ５２からなる傷心カム機構
はθステージ５５の上に配置されている。
はθステージ５５の上に配置されている。
チャックプレート５１とθステージ５５との間にはスプ
リング５４か取り付けられ、チャックプレート５工に復
帰力を与えてている。このスズリング５４は水平ステー
ジの時には省略することもできるか、垂直ステージの場
合は省略することはできない。
リング５４か取り付けられ、チャックプレート５工に復
帰力を与えてている。このスズリング５４は水平ステー
ジの時には省略することもできるか、垂直ステージの場
合は省略することはできない。
θステージ５５には第２図（Ｂ）に示すようにアーム５
７か取り付けられており、このアーム５７を押すように
直交方向にリニアモータ５６が設けられている。リニア
モータ５６は、たとえばモータの回転をネジ等で直線運
動に変換したもので構成できる。θステージ５５に復帰
力を与えるためアーム５７はバネ５８で引張られている
。
７か取り付けられており、このアーム５７を押すように
直交方向にリニアモータ５６が設けられている。リニア
モータ５６は、たとえばモータの回転をネジ等で直線運
動に変換したもので構成できる。θステージ５５に復帰
力を与えるためアーム５７はバネ５８で引張られている
。
θステージ５５はベアリング５９を介してベース６０の
上に回転可能に支持されている。固定されたベース６０
に対してθステージ５５が面内回転を行ない、θステー
ジ５５に対してチャックプレート５１が高さ方向の変位
を行なう、このようにしてθＺ力方向運動が行なえる。
上に回転可能に支持されている。固定されたベース６０
に対してθステージ５５が面内回転を行ない、θステー
ジ５５に対してチャックプレート５１が高さ方向の変位
を行なう、このようにしてθＺ力方向運動が行なえる。
［発明か解決しようとする課題Ｊ
第２図に示した従来技術においては、θステージの上に
２ステージとなるチャックグレートか配置されており、
２段隣の構成となっている。また、各ステージの駆動は
部品間の牽擦を含むものである。このため構造が複雑と
なり、精度を高くすることか難しい、また垂直型ステー
ジを構成しようとすると、さらに他のガイドや駆動機構
を必要とする。
２ステージとなるチャックグレートか配置されており、
２段隣の構成となっている。また、各ステージの駆動は
部品間の牽擦を含むものである。このため構造が複雑と
なり、精度を高くすることか難しい、また垂直型ステー
ジを構成しようとすると、さらに他のガイドや駆動機構
を必要とする。
本発明の目的は、コンパクトな構造で高精度を実現でき
、かつ垂直ステージにも適した回転並進ステージを提供
することである。
、かつ垂直ステージにも適した回転並進ステージを提供
することである。
［課題を解決するための手段］
本発明によれば、回転並進の２つの自由度をもつ運動を
１段構成のステージで実施する。ステージに直接モータ
のロータを取り付け、ステータに対して直接ロータを駆
動することによって回転運動を行なう、また、ロータを
取り付けたステージを複数の平行板バネ部材で支持し、
モータの軸方向の変位を可能とし、ステージ部材を軸方
向に駆動する駆動手段を備えて、軸方向変位を行なおせ
る。
１段構成のステージで実施する。ステージに直接モータ
のロータを取り付け、ステータに対して直接ロータを駆
動することによって回転運動を行なう、また、ロータを
取り付けたステージを複数の平行板バネ部材で支持し、
モータの軸方向の変位を可能とし、ステージ部材を軸方
向に駆動する駆動手段を備えて、軸方向変位を行なおせ
る。
［作用］
一体構造のステージに回転駆動機構と並進駆動機構とが
結合され、１段の構成で２つの自由度の運動を行なうこ
とができる１回転は減速機を介さずダイレクトドライブ
モータ方式によって行なわれるので、摩擦が少なくさら
に減速機構部のバラクラシュ等のカスがなく、高い精度
を実現できる。
結合され、１段の構成で２つの自由度の運動を行なうこ
とができる１回転は減速機を介さずダイレクトドライブ
モータ方式によって行なわれるので、摩擦が少なくさら
に減速機構部のバラクラシュ等のカスがなく、高い精度
を実現できる。
また、平行板バネ部材によって支持されたステージ部材
をモータの軸方向に駆動するため、ステージは垂直ステ
ージ構造にも適し、並進運動の精度も高くしやすい。
をモータの軸方向に駆動するため、ステージは垂直ステ
ージ構造にも適し、並進運動の精度も高くしやすい。
［実施例コ
第１図に本発明の実施例による回転並進装置を示す。
チャックプレート１はその上面に半導体ウェハを載置す
るためのものであり、図示の２方向とθ方向に運動する
ことができる。チャックプレート１の下面にはホス１０
が固定されている。このホス１０は２枚の平行なダイヤ
フラム２．３によって支持されており、２枚の平行なタ
イヤフラム２．３はベアリング６の内側部材６ａに固定
されている。ベアリング６は外側部材６ｂと内側部材６
ａおよびボールベアリング６Ｃを含み、図示しない機構
で高さ方向変位は拘束され、回転方向の自由度のみを有
する。ベアリングの外側部材６ｂはハウジング７に固定
されている。なお、下側のダイヤフラム３には対称的な
位置に開口か設けられており２この開口を通ってモータ
のステータ５を支持する固定脚１１が配置されている。
るためのものであり、図示の２方向とθ方向に運動する
ことができる。チャックプレート１の下面にはホス１０
が固定されている。このホス１０は２枚の平行なダイヤ
フラム２．３によって支持されており、２枚の平行なタ
イヤフラム２．３はベアリング６の内側部材６ａに固定
されている。ベアリング６は外側部材６ｂと内側部材６
ａおよびボールベアリング６Ｃを含み、図示しない機構
で高さ方向変位は拘束され、回転方向の自由度のみを有
する。ベアリングの外側部材６ｂはハウジング７に固定
されている。なお、下側のダイヤフラム３には対称的な
位置に開口か設けられており２この開口を通ってモータ
のステータ５を支持する固定脚１１が配置されている。
ステータ５と対向するようにモータのロータ４がボス１
０上に取り付けられている。たとえばステータ５は永久
磁石で構成され、ロータ４はコイルで構成される。この
構成の場合には、整流子をボス１０上に設け、コイル４
にｔ流を供給する。逆にロータ４を永久磁石とし、ステ
ータ５をコイルとすることもできる。この構成の場合に
は、ホール素子をロータ４の近傍に設け、ロータ４の永
久磁石の回転角度を検出して制御した位相の電流をステ
ータコイル５に供給する。このようにして回転力を与え
られると、チャックプレート１はハウジング７に対して
θ方向の運動を行なう、なお、θ方向の運動はたとえば
±１度程度に限定されており、下側ダイヤフラム３に設
けた開口内で固定脚１１か位置を変イヒできる範囲にさ
れている。なお、モータとダイヤフラムを別々の所に配
置すれば回転角度は大きくできる。ハウジング７の下部
にはカス供給穴が設けられ、その上にベローズ８が取り
付けられている。すなわち、開口からガスを供給するこ
とにより、ベローズ８を伸ばすと、ボス１０を下側から
押し上げることができる構造となっている。なお、ベロ
ーズ８とボス１０の間には球状の回転ヒンジ９が配置さ
れている。このためボス１０はベローズ８に対して回転
運動を行なうことができる。なお、球状の回転ヒンジの
代わりに滑り軸受は等を用いてもよい、ベローズ８か回
転ヒンジ９を介してボス１０を押し上げると、タイヤフ
ラム２−３は２方向に対しては剛性が低いなめ、弾性変
形を行なってボス１０は２方向に変位する。
０上に取り付けられている。たとえばステータ５は永久
磁石で構成され、ロータ４はコイルで構成される。この
構成の場合には、整流子をボス１０上に設け、コイル４
にｔ流を供給する。逆にロータ４を永久磁石とし、ステ
ータ５をコイルとすることもできる。この構成の場合に
は、ホール素子をロータ４の近傍に設け、ロータ４の永
久磁石の回転角度を検出して制御した位相の電流をステ
ータコイル５に供給する。このようにして回転力を与え
られると、チャックプレート１はハウジング７に対して
θ方向の運動を行なう、なお、θ方向の運動はたとえば
±１度程度に限定されており、下側ダイヤフラム３に設
けた開口内で固定脚１１か位置を変イヒできる範囲にさ
れている。なお、モータとダイヤフラムを別々の所に配
置すれば回転角度は大きくできる。ハウジング７の下部
にはカス供給穴が設けられ、その上にベローズ８が取り
付けられている。すなわち、開口からガスを供給するこ
とにより、ベローズ８を伸ばすと、ボス１０を下側から
押し上げることができる構造となっている。なお、ベロ
ーズ８とボス１０の間には球状の回転ヒンジ９が配置さ
れている。このためボス１０はベローズ８に対して回転
運動を行なうことができる。なお、球状の回転ヒンジの
代わりに滑り軸受は等を用いてもよい、ベローズ８か回
転ヒンジ９を介してボス１０を押し上げると、タイヤフ
ラム２−３は２方向に対しては剛性が低いなめ、弾性変
形を行なってボス１０は２方向に変位する。
すなわち、平行なタイヤフラム２．３は平行リンクの役
割を果たす、なお、円盤状のタイヤフラムを用いる代わ
りに、十字状、星状等の放射状の板バネを用いることも
できる。また、ホス１０およびタイヤフラム２．３の回
転を許容させるための軸受けは、ボールベアリングの他
どのようなものでもよい、たとえば、ハウジング７と内
側部材６ａの間を半径方向に接続する板バネによって構
成することもできる。
割を果たす、なお、円盤状のタイヤフラムを用いる代わ
りに、十字状、星状等の放射状の板バネを用いることも
できる。また、ホス１０およびタイヤフラム２．３の回
転を許容させるための軸受けは、ボールベアリングの他
どのようなものでもよい、たとえば、ハウジング７と内
側部材６ａの間を半径方向に接続する板バネによって構
成することもできる。
チャックプレート１ｔこはアーム１２．１４が取り付け
られ、外側に突出している。アーム１２と対向するよう
にθ方向の変位検出器１３か配置されており、またアー
ム１４の下面と対向するように２方向の変位検出器１５
が配置されている。これらの変位検出器は、たとえば静
電容量型−ｒｊｉ気型等である。
られ、外側に突出している。アーム１２と対向するよう
にθ方向の変位検出器１３か配置されており、またアー
ム１４の下面と対向するように２方向の変位検出器１５
が配置されている。これらの変位検出器は、たとえば静
電容量型−ｒｊｉ気型等である。
第１図に示した回転並進装置は、ステージ１を直接２方
向およびθ方向（こ駆動する＃Ｉ造であり、コンパクト
な構造となっている。また、Ｚ方向、θ方向の運動を行
なう際、滑り摩擦を起こす場所か少なく、精度を高くし
やすい。
向およびθ方向（こ駆動する＃Ｉ造であり、コンパクト
な構造となっている。また、Ｚ方向、θ方向の運動を行
なう際、滑り摩擦を起こす場所か少なく、精度を高くし
やすい。
第３図は、第１図に示す回転並進装置の制御系の例を示
すブロック図である。
すブロック図である。
２方向の変位を検出し、制御を行なう場合で説明する。
カス源２１から供給された高圧ガスは、フィルター２２
およびレギュレータ２３を介して中圧カスとされ、電空
レギュレータ２４によって所望の圧力のガスとされる。
およびレギュレータ２３を介して中圧カスとされ、電空
レギュレータ２４によって所望の圧力のガスとされる。
このガスがベローズ８に供給されてチャックプレートの
２方向駆動を行なう、チャックプレートのＺ方向変位は
位置検出器２５によって検出され、センサーアンプ２６
を介して制御装置２７の比較器２８に供給される。
２方向駆動を行なう、チャックプレートのＺ方向変位は
位置検出器２５によって検出され、センサーアンプ２６
を介して制御装置２７の比較器２８に供給される。
制御装置２７内では所望の２方向位置か設定されており
、この設定値と測定したセンサーアンプ２６からの測定
値とか比較器２８で比較される。比較結果に基づきカス
圧をどのように変化させるかの制御信号かアンプ２９に
供給され、アンプ２つからの信号か電空レギュレータ２
４を制御して、ガス圧を変化させ〜チャックプレートの
Ｚ方向位置を修正する。
、この設定値と測定したセンサーアンプ２６からの測定
値とか比較器２８で比較される。比較結果に基づきカス
圧をどのように変化させるかの制御信号かアンプ２９に
供給され、アンプ２つからの信号か電空レギュレータ２
４を制御して、ガス圧を変化させ〜チャックプレートの
Ｚ方向位置を修正する。
なお、２方向位置の制御の場合で説明したか、θ方向の
制御も同様に行なうことかできる。この場合、位置検出
器はθ方向付置く角度）を検出し、制御信号はモータの
コイルに流す電流を制御する。
制御も同様に行なうことかできる。この場合、位置検出
器はθ方向付置く角度）を検出し、制御信号はモータの
コイルに流す電流を制御する。
第４図は本発明の他の実施例による回転並進装置を示す
４本実施例においては、ボス１０の下に３つのベローズ
８ａ、８ｂ、８ｃか配置され、それぞれ球状の回転ヒン
ジ９ａ、９ｂ、９ｃによってボス１０の下面を押してい
る。その他の構成は第１図の実施例と同様である。
４本実施例においては、ボス１０の下に３つのベローズ
８ａ、８ｂ、８ｃか配置され、それぞれ球状の回転ヒン
ジ９ａ、９ｂ、９ｃによってボス１０の下面を押してい
る。その他の構成は第１図の実施例と同様である。
第４図の実施例においては、３つのベローズ８ａ、８ｂ
、８ｃに供給するカス圧を制御することにより、チャッ
クプレート１のあおり調整を行なうこともできる。
、８ｃに供給するカス圧を制御することにより、チャッ
クプレート１のあおり調整を行なうこともできる。
第５図は本発明の他の実施例による回転並進装置を示す
。
。
本実施例においては、ボス１０の下面に、ピストン部材
３０か取り付けられ、ハウジング７の底面にシリンダ部
材３２か形成されている。さらに、ピストン部材３０の
一部にＯリング３１か取り付けられ、ピストン部材３０
とシリンダ部材３２の間に気密封止を形成している。ハ
ウジング７の下面からガスをシリンダ部材３２内に供給
することにより、ピストン部材３０は上方に押し上げら
れる。このようにして２方向の駆動を行なう。
３０か取り付けられ、ハウジング７の底面にシリンダ部
材３２か形成されている。さらに、ピストン部材３０の
一部にＯリング３１か取り付けられ、ピストン部材３０
とシリンダ部材３２の間に気密封止を形成している。ハ
ウジング７の下面からガスをシリンダ部材３２内に供給
することにより、ピストン部材３０は上方に押し上げら
れる。このようにして２方向の駆動を行なう。
第６図は本発明の他の実施例による回転並進装置を示す
。
。
本実施例においては、第５図の実施例における０リング
３１か除去されている。すなわち、シリンダ部材３２と
ピストン部材３０との間に隙間か形成されており、下部
空間３３の空気はこの隙間を介して上部へ逃げる。すな
わち、ピストン部材３０とシリンダ部材３２によりエア
ーベアリング３４か形成されている。その他の点は第１
図の実施例と同様である。
３１か除去されている。すなわち、シリンダ部材３２と
ピストン部材３０との間に隙間か形成されており、下部
空間３３の空気はこの隙間を介して上部へ逃げる。すな
わち、ピストン部材３０とシリンダ部材３２によりエア
ーベアリング３４か形成されている。その他の点は第１
図の実施例と同様である。
本実施例においては、第５図の実施例の場合のＯリング
による滑りｒ！Ｊ擦か排除されているため、高精度を実
現しやすい。たたし、気密構造ではないため−１部空間
を真空等にすることはできない。
による滑りｒ！Ｊ擦か排除されているため、高精度を実
現しやすい。たたし、気密構造ではないため−１部空間
を真空等にすることはできない。
以上説明した実施例においては、並進および回転を行な
うことかできるか、チャンクプレートを適正な位置に位
置決めした後、作業が終了するまでサーボをかけている
必要かある。この場合、ダイレクトドライブモータ等の
アクチュエータに発熱が生じ、ステージの位置決め精度
に悪影響をおよぼす可能性かある。また、カス圧を用い
たアクチュエータは、その同性かあまり高くはできない
。
うことかできるか、チャンクプレートを適正な位置に位
置決めした後、作業が終了するまでサーボをかけている
必要かある。この場合、ダイレクトドライブモータ等の
アクチュエータに発熱が生じ、ステージの位置決め精度
に悪影響をおよぼす可能性かある。また、カス圧を用い
たアクチュエータは、その同性かあまり高くはできない
。
第７図は本発明の他の実施例による回転並進ロック装置
を示す。
を示す。
第７図（Ａ）はその構成を示す、チャックプレート１は
、その下にロック機構１６を備え、ロック機構１６の下
にボス１０を取り付けている。ロック機構１６は第７図
（Ｂ）にその一部を拡大して示すように、圧電アクチュ
エータ３５か一端を支持部材３７に保持され、他端をハ
ウジング側に向け、平行リンク３６によって支持された
ロック用シュー３８を押圧する。平行リンク３６は平行
な弾性部材３６ａ、３６ｂを有し、矢印方向の力に対し
て弾性変形する。圧電アクチュエータ３５か矢印方向に
伸びると、平行リンク３６が弾性変形し、ロック用シュ
ー３８がハウジング７の内壁に当接する。圧電アクチュ
エータ３５の発生する力が十分高くなると、ロック用シ
ュー３８はハウジング７の内壁に強く当接し、牽擦によ
ってロックを行なう、ロック機構１６中にはこのような
圧電アクチュエータが複数個対称的な位置に設けられて
おり、位置決め後、チャックプレート１をその位置にロ
ックする。その他の構成は第１図の構成と同等である。
、その下にロック機構１６を備え、ロック機構１６の下
にボス１０を取り付けている。ロック機構１６は第７図
（Ｂ）にその一部を拡大して示すように、圧電アクチュ
エータ３５か一端を支持部材３７に保持され、他端をハ
ウジング側に向け、平行リンク３６によって支持された
ロック用シュー３８を押圧する。平行リンク３６は平行
な弾性部材３６ａ、３６ｂを有し、矢印方向の力に対し
て弾性変形する。圧電アクチュエータ３５か矢印方向に
伸びると、平行リンク３６が弾性変形し、ロック用シュ
ー３８がハウジング７の内壁に当接する。圧電アクチュ
エータ３５の発生する力が十分高くなると、ロック用シ
ュー３８はハウジング７の内壁に強く当接し、牽擦によ
ってロックを行なう、ロック機構１６中にはこのような
圧電アクチュエータが複数個対称的な位置に設けられて
おり、位置決め後、チャックプレート１をその位置にロ
ックする。その他の構成は第１図の構成と同等である。
なお、チャックプレート１として円盤状のものを用いる
場合を説明したが、チャックプレート１の形状は円状に
限らない。
場合を説明したが、チャックプレート１の形状は円状に
限らない。
第８図は本発明の他の実施例による回転並進装置を概略
的に示す平面図である。
的に示す平面図である。
本実施例においては、チャックプレート１およびハウジ
ング７が矩形断面を有する。チャックプレート１の下部
を支えるポス１０も、矩形断面を有し、十字状の平行板
バネ４２によって中間部材４４に接続される。ボス１０
および中間部材４４は紙面垂直方向に長さを有し、板バ
ネ４２は複数枚重ねて配置されて、平行リンク構造を構
成している。また、中間部材４４とハウジング７の間は
、紙面垂直方向に伸びる板バネ部材４６によって支持さ
れる。すなわち、板バネ４６が回転運動を許し、板バネ
４２が並進運動を許す構造である。駆動方法は第１図等
と同機に行なえばよい。
ング７が矩形断面を有する。チャックプレート１の下部
を支えるポス１０も、矩形断面を有し、十字状の平行板
バネ４２によって中間部材４４に接続される。ボス１０
および中間部材４４は紙面垂直方向に長さを有し、板バ
ネ４２は複数枚重ねて配置されて、平行リンク構造を構
成している。また、中間部材４４とハウジング７の間は
、紙面垂直方向に伸びる板バネ部材４６によって支持さ
れる。すなわち、板バネ４６が回転運動を許し、板バネ
４２が並進運動を許す構造である。駆動方法は第１図等
と同機に行なえばよい。
以上実施例に沿って本発明を説明したか、本発明はこれ
らに制限されるものではない、たとえば、種々の変更、
改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろ
う。
らに制限されるものではない、たとえば、種々の変更、
改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろ
う。
［発明の効果］
本発明によればチャックグレート等のステージが、直接
２方向およびθ方向に駆動され、コンパクトな構造で２
軸方向の運動を達成している３また、滑り係合する部分
か少なく高精度を達成しやすい。
２方向およびθ方向に駆動され、コンパクトな構造で２
軸方向の運動を達成している３また、滑り係合する部分
か少なく高精度を達成しやすい。
第１図は本発明の実施例による回転並進装置を示す断面
図、 第２図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は従来技術の例を示し、
第２図（Ａ）は継断面図、第２図（Ｂ）はθステージの
概略平面図、第２図（Ｃ）は偏心カムを示す正面図と側
面図、 第３図は第１図の実施例の制御系の例を示すブロック図
、 第４図、第５図、第６図はそれぞれ本発明の他の実施例
を示す断面図、 第７図（Ａ）、（Ｂ）は本発明の他の実施例を示し、第
７図（Ａ）は構成を示す断面図、第７図（Ｂ）はその部
分拡大図、 第８図は本発明の他の実施例を示す概略平面図である。 図において、 ２．３ １２．１４ １３．１５ チャックプレート タイヤフラム ロータ ステータ ベアリンク ハウジング ベローズ 回転ヒンジ ボ ス 固定脚 アーム 変位検出器 ロック機構 ガス源 フィルタ レギュレータ 電空レギュレータ 位置検出器 センサーアンプ 制御装置 比較器 アンプ ピストン部材 ０リング シリンダ部材 下部空間 エアーベアリング 圧電アクチュエータ 平行リンク 支持部材 ロック用シュー 平行板バネ部材 中間部材 板バネ部材 特許出願人 住友重機械工業株式会社復代理人 弁理
士 高橋 敬四部 （Ａ）ｍ断面 （Ｂ）θステージ （Ｃ）偏心カム 従来技術の例 第２図 く − 第４図 ３３：下部空間 ３４：エアーベアリング １６：ロック機構 （Ａ）構成 （Ｂ）部分拡大図 他の実施例 笛７Ｐ；Ａ
図、 第２図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は従来技術の例を示し、
第２図（Ａ）は継断面図、第２図（Ｂ）はθステージの
概略平面図、第２図（Ｃ）は偏心カムを示す正面図と側
面図、 第３図は第１図の実施例の制御系の例を示すブロック図
、 第４図、第５図、第６図はそれぞれ本発明の他の実施例
を示す断面図、 第７図（Ａ）、（Ｂ）は本発明の他の実施例を示し、第
７図（Ａ）は構成を示す断面図、第７図（Ｂ）はその部
分拡大図、 第８図は本発明の他の実施例を示す概略平面図である。 図において、 ２．３ １２．１４ １３．１５ チャックプレート タイヤフラム ロータ ステータ ベアリンク ハウジング ベローズ 回転ヒンジ ボ ス 固定脚 アーム 変位検出器 ロック機構 ガス源 フィルタ レギュレータ 電空レギュレータ 位置検出器 センサーアンプ 制御装置 比較器 アンプ ピストン部材 ０リング シリンダ部材 下部空間 エアーベアリング 圧電アクチュエータ 平行リンク 支持部材 ロック用シュー 平行板バネ部材 中間部材 板バネ部材 特許出願人 住友重機械工業株式会社復代理人 弁理
士 高橋 敬四部 （Ａ）ｍ断面 （Ｂ）θステージ （Ｃ）偏心カム 従来技術の例 第２図 く − 第４図 ３３：下部空間 ３４：エアーベアリング １６：ロック機構 （Ａ）構成 （Ｂ）部分拡大図 他の実施例 笛７Ｐ；Ａ
Claims (4)
- （１）、対象物を載置するためのステージ部材と、前記
ステージ部材に取り付けられたモータのロータと、 前記ロータと対向して配置されたモータのステータと、 前記ステージ部材に取り付けられ、前記モータの軸方向
の変位を許す複数の平行板バネ部材と、 前記平行板バネ部材を回転可能に支持するベアリング部
材と、 前記ステージ部材を前記モータの軸方向に駆動する並進
駆動手段と を有する回転並進ステージ。 - （２）、さらに、前記ステージ部材に１端が固定され、
他端が印加電圧によって移動する複数の圧電アクチュエ
ータと、前記圧電アクチュエータの他端と対向する固定
部材とを含むロック機構を有する請求項１記載の回転並
進ステージ。 - （３）、前記並進駆動手段は、軸方向に伸縮するベロー
ズとベローズ内に気体を供給する手段を含む請求項１ま
たは２記載の回転並進ステージ。 - （４）、前記並進駆動手段は、軸方向に相対運動可能な
シリンダ部材とピストン部材およびシリンダ部材とピス
トン部材の作る空間内に気体を供給する手段を含む請求
項１または２記載の回転並進ステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11461390A JP3073218B2 (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 回転並進ステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11461390A JP3073218B2 (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 回転並進ステージ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0413532A true JPH0413532A (ja) | 1992-01-17 |
| JP3073218B2 JP3073218B2 (ja) | 2000-08-07 |
Family
ID=14642241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11461390A Expired - Fee Related JP3073218B2 (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 回転並進ステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3073218B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002057099A (ja) * | 2000-04-24 | 2002-02-22 | Nikon Corp | 平面モータと磁気浮上微動ステージとを有するウエハ位置決め装置 |
| JP2010050114A (ja) * | 2008-08-19 | 2010-03-04 | Yaskawa Electric Corp | 精密微動位置決めユニット及びそれを備えたステージ装置 |
| CN113681485A (zh) * | 2021-09-17 | 2021-11-23 | 奥瑞视（北京）科技有限公司 | 一种超声波水浸检测用转台 |
| CN113927302A (zh) * | 2021-10-13 | 2022-01-14 | 江西东涵科技协同创新有限公司 | 一种永磁电机壳体的连续钻扩孔设备 |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP11461390A patent/JP3073218B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002057099A (ja) * | 2000-04-24 | 2002-02-22 | Nikon Corp | 平面モータと磁気浮上微動ステージとを有するウエハ位置決め装置 |
| JP2010050114A (ja) * | 2008-08-19 | 2010-03-04 | Yaskawa Electric Corp | 精密微動位置決めユニット及びそれを備えたステージ装置 |
| CN113681485A (zh) * | 2021-09-17 | 2021-11-23 | 奥瑞视（北京）科技有限公司 | 一种超声波水浸检测用转台 |
| CN113681485B (zh) * | 2021-09-17 | 2023-02-10 | 奥瑞视（北京）科技有限公司 | 一种超声波水浸检测用转台 |
| CN113927302A (zh) * | 2021-10-13 | 2022-01-14 | 江西东涵科技协同创新有限公司 | 一种永磁电机壳体的连续钻扩孔设备 |
| CN113927302B (zh) * | 2021-10-13 | 2024-02-27 | 江西东涵科技协同创新有限公司 | 一种永磁电机壳体的连续钻扩孔设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3073218B2 (ja) | 2000-08-07 |
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