JPH04137783A - Super luminescent diode apparatus - Google Patents

Super luminescent diode apparatus

Info

Publication number
JPH04137783A
JPH04137783A JP2261043A JP26104390A JPH04137783A JP H04137783 A JPH04137783 A JP H04137783A JP 2261043 A JP2261043 A JP 2261043A JP 26104390 A JP26104390 A JP 26104390A JP H04137783 A JPH04137783 A JP H04137783A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
width
region
active layer
active
spot size
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2261043A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kimio Shigihara
君男 鴫原
Toshitaka Aoyanagi
利隆 青柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2261043A priority Critical patent/JPH04137783A/en
Publication of JPH04137783A publication Critical patent/JPH04137783A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To minimize a spot size of guided beam and maximize diffraction effect of the beam to an window region from an active region in order to realize super low reflectivity by narrowing or widening the width of active layer in the area near the end part of window region. CONSTITUTION:A window region 5 is formed on an element obtained by sequentially forming a lower clad layer 2, an active layer 3 and an upper clad layer 4 on a GaAs substrate 1 by the epitaxial growth method. Moreover, anti- reflection coat films 6a, 6b are provided at both front and rear end faces. A GaAs contact layer 7 is formed thereon and moreover rear surface electrode 8a and front surface electrode 8b are also formed. When the width 2T1 of the active region 9c in the vicinity of the window region 5a is set to give minimized spot size of guided beam in the cross-sectional view indicating the refraction index and width of the area in the vicinity of the active layer in the case where such diode is given the dimensional structure using the equivalent refraction index method, the beam diverging angle becomes large, making small the reflectivity. Namely, since optical damage can be prevented by widening the width of active region 9a, high output operation can be achieved easily.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は光フアイバジャイロ等に利用される、高出力
かつ広スペクトル幅を有するスーパールミネッセントダ
イオード装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a superluminescent diode device having high output and wide spectral width, which is used in optical fiber gyros and the like.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第11図は例えば1989年(平成元年)秋季第50回
応用物理学会学術講演会講演予稿集27ρ−ZG−16
に示された従来のウィンドウ型スーパールミネッセント
ダイオード装置を示す断面図で、図において、(1)は
GaAs基板、(2)はAlGaAs下クラッド層りA
I組成比X)、(3)はへ1GaAs活性層(AI組成
比2)、(4)はAlGaAs上クラッド層(AI組成
比X)、(5)は^lGaAsウィンド領域(AI&l
l成比yly7Z)、(6a)及び(6b)はそれぞれ
前端面および後端面ARコート膜である。
Figure 11 shows, for example, the proceedings of the 50th Japan Society of Applied Physics Academic Conference in the fall of 1989 (Heisei 1), 27ρ-ZG-16.
2 is a cross-sectional view showing the conventional window type superluminescent diode device shown in FIG.
I composition ratio X), (3) is the 1GaAs active layer (AI composition ratio 2), (4) is the AlGaAs upper cladding layer (AI composition ratio
(6a) and (6b) are AR coating films on the front end surface and the rear end surface, respectively.

次に動作について説明する。GaAs基板f基板上ll
上ラッド層(2)、活性層(3)、上クラフト層(4)
を順次エピタキシャル成長をした素子に、ウェットエツ
チングもしくはドライエツチング等でウィンド領域(5
)を形成し、更に前・後両端面に無反射コート(以下A
Rコートと呼ぶ)膜(6a)、 (6b)を設けたもの
である。スーパールミネッセントダイオードは活性領域
(3)中に光がフィードバックする量を小さくすること
、つまりいかにして反射率を小さくするかが重要な点で
ある。前端面および後端面ARコート膜(6a)、 (
6b)だけでは不十分なため、活性層(3)の一部を破
壊してウィンド領域(5)を設けることによって更に反
射率を低下させている。活性層(3)からウィンド領域
(5)に入った光は回折を受けて広がり、後端面で一部
反射して再び活性層(3)中に入る。ウィンド領域(5
)で光が回折を受は拡がるため、活性層(3)中に再び
戻る光量は小さくなり、反射率が低下することムこなる
Next, the operation will be explained. GaAs substrate f substrate ll
Upper rad layer (2), active layer (3), upper kraft layer (4)
Wind regions (5
), and further anti-reflective coating (hereinafter referred to as A) is formed on both the front and rear end surfaces.
(referred to as R coat) films (6a) and (6b) are provided. In a superluminescent diode, it is important to reduce the amount of light that feeds back into the active region (3), that is, how to reduce the reflectance. Front end face and rear end face AR coating film (6a), (
Since 6b) alone is insufficient, a part of the active layer (3) is destroyed to provide a window region (5) to further reduce the reflectance. The light that enters the window region (5) from the active layer (3) is diffracted and spread, is partially reflected at the rear end face, and enters the active layer (3) again. Wind area (5
), the light is diffracted and spread, so the amount of light that returns to the active layer (3) becomes smaller and the reflectance decreases.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

従来のスーパールミネッセントダイオード装置は以上の
ように構成されていたが、またその反射率の低下が不十
分であり、広いスペクトル幅を得ることができないとい
う問題点があった。
Although the conventional superluminescent diode device was constructed as described above, there was a problem in that the reflectance was insufficiently reduced and a wide spectral width could not be obtained.

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、光の帰還を十分に小さ(し更にその反射率を
低下させて、スペクトル線幅が十分に広いスーパールミ
ネッセントダイオード装置を得ることを目的とする。
This invention was made to solve the above-mentioned problems, and it is possible to create a superluminescent diode device with a sufficiently wide spectral linewidth by sufficiently reducing the feedback of light (and further reducing its reflectance). The purpose is to obtain.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

この発明に係るスーパールミネッセントダイオード装置
は、活性層幅をウィンド領域端部付近で狭くもしくは広
くすることによって導波光のスポットサイズを最少にし
、活性領域からウィンドiff域への光の回折効果を最
大にし、超低反射率を実現したものである。
The superluminescent diode device according to the present invention minimizes the spot size of guided light by narrowing or widening the active layer width near the edge of the window region, thereby reducing the diffraction effect of light from the active region to the window IF region. This achieves ultra-low reflectance.

〔作用〕[Effect]

この発明におけるウィンド領域端部付近の狭い幅の活性
層もしくは広い幅の活性層は、活性層中を伝搬する導波
光のスポットサイズを最少にする作用があり、また、更
に、活性層幅が十分に広く導波モードが複数許容される
場合には、ウィンド領域端部付近の狭い幅の活性層は横
基本モードのみを許容するモードフィルタとして働き、
高出力動作を可能にする。
In this invention, the active layer with a narrow width or the active layer with a wide width near the edge of the window region has the effect of minimizing the spot size of the guided light propagating in the active layer, and furthermore, the active layer width is sufficient. When multiple waveguide modes are allowed in a wide area, the narrow active layer near the edge of the wind region acts as a mode filter that only allows the transverse fundamental mode.
Enables high output operation.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図において、(7)はGaAsコンタクト層、(8a)
および(8b)はそれぞれ裏面電極および表面電極であ
る。第2図は、前記第1図で示したスーパールミネッセ
ントダイオード装置を等偏屈折率法を用いて2次元構造
としたときの活性層近傍の屈折率と幅を示す断面図で図
において、(5a)は屈折率ncのウィンド領域(9a
)は幅2To屈折率n1の活性領域、(9b)は屈折率
n、の活性領域のテーバ部、(9c)は幅2T、屈折率
n、のウィンド領域端部近傍の活性領域、OIは屈折率
n、のクラッド領域で、各々の屈折率の間には、次(1
)式の関係が成り立っている。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1st
In the figure, (7) is a GaAs contact layer, (8a)
and (8b) are a back electrode and a front electrode, respectively. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the refractive index and width near the active layer when the superluminescent diode device shown in FIG. 1 is made into a two-dimensional structure using the equipolarized refractive index method. (5a) is a window region (9a) with refractive index nc
) is the active region with width 2To refractive index n1, (9b) is the tapered part of the active region with refractive index n, (9c) is the active region near the edge of the window region with width 2T and refractive index n, and OI is the refraction region. In the cladding region with index n, there is the following (1
) holds true.

第3図は、スーパールミネッセントダイオード中の導波
構造を簡略化して、3層スラブ導波路と置き換えた構造
であり、屈折率n1で幅2Tのコア領域が、屈折率n、
のクラフト領域で挾まれた構造になっている。この3層
スラブ導波路のTE波の基本モードは次(2)〜(4)
式の様に表わせる。
Figure 3 shows a structure in which the waveguide structure in a superluminescent diode is simplified and replaced with a three-layer slab waveguide, in which a core region with a refractive index of n1 and a width of 2T has a refractive index of n1,
It has a structure that is intertwined with the craft area. The fundamental modes of the TE wave in this three-layer slab waveguide are as follows (2) to (4)
It can be expressed as the formula.

2 π u”+w”=  ()”T2(n+”   nz”)−
−(31λ 御=u+anu 基本モードのスポットサイズを−。とすると、このスポ
ットサイズ匈。と基本モードの界分布とは第4図のよう
に表わせる。この図より次(5) +61式の関係が成
り立つ。
2 π u”+w”= ()”T2(n+”nz”)−
-(31λ control=u+anu If the spot size of the fundamental mode is -.), this spot size and the field distribution of the fundamental mode can be expressed as shown in Figure 4. From this figure, the following relationship is expressed by equation (5) +61. holds true.

これらの式を変形することにより、スポットサイズ−0
は次(71+81式のように表わせる。
By transforming these equations, the spot size −0
can be expressed as the following equation (71+81).

波長λ、ココア域幅2T、コア領域の屈折率nおよびク
ラッド領域の屈折率n2が与えられると、前記(3)式
(4)式(7)式および(8)式からスポットサイズが
求められる。第5図はその一例として波長0.86μm
、コア領域の屈折率nt=3.60. クラッド領域の
屈折率nt = 3.55の時のスポットサイズ(−0
)とコア顛域幅2Tの関係曲線図を示す。あるコア領域
幅2Tのところで、スポットサイズ讐。が最少になるこ
とが判る。ここでは、コア領域幅2 T =0.49μ
−の時、スポットサイズー。−0,46μmと最少にな
っている。
Given the wavelength λ, the cocoa bandwidth 2T, the refractive index n of the core region and the refractive index n2 of the cladding region, the spot size can be found from the above equations (3), (4), (7) and (8). . Figure 5 shows an example of a wavelength of 0.86 μm.
, refractive index of the core region nt=3.60. Spot size (-0
) and the core area width 2T. At a certain core region width of 2T, the spot size is . It turns out that is the minimum. Here, core region width 2 T =0.49μ
- When -, spot size. -0.46 μm, which is the minimum.

導波光の電界分布をガウス波と仮定した時、スポットサ
イズ−0とビーム広がり角θ。との間には、次(9)式
の関係が成り立つ。
When the electric field distribution of the guided light is assumed to be a Gaussian wave, the spot size -0 and the beam spread angle θ. The following relationship (9) holds true between .

ノ これはスポットサイズ−0が小さい程ビーム広がり角θ
。が大きくなることを表わしている。
This means that the smaller the spot size -0, the more the beam spread angle θ
. This means that it becomes larger.

そこで、第2図に示す様に、ウィンド領域(5a)近傍
の活性領域(9c)の幅2T、をスポットサイズ(Wo
)が最少になる様にしてやると、ビーム拡がり角が大き
くなり反射率が小さくなる。
Therefore, as shown in FIG. 2, the width 2T of the active region (9c) near the window region (5a) is set to the spot size (Wo
) is minimized, the beam divergence angle increases and the reflectance decreases.

更に、スボ7)サイズが最少となる活性領域(2T)で
は、一般に基本モードしか許容されないので、活性領域
(9a)の幅が多数の高次モードが許容されるほど広く
ても、全体として基本モードで発振(光が前後端面間を
往復)することになる。活性領域(9a)の幅を広くす
ることで、光学損傷(COD)を防止することができる
ので高出力動作が容易に得られる。
Furthermore, in the active region (2T) where subbo 7) size is the smallest, generally only the fundamental mode is allowed, so even if the width of the active region (9a) is wide enough to allow many higher-order modes, the fundamental mode as a whole is mode (light travels back and forth between the front and rear end surfaces). By widening the width of the active region (9a), optical damage (COD) can be prevented and high output operation can be easily obtained.

第6図はこの発明の他の実施例である屈折率と幅の関係
を示す断面図で、活性領域(9a)の幅2丁をスポット
サイズ−0が最少になる様に設計しかつ前端面からウィ
ンド領域まで前記活性領域幅を一定にしたスーパールミ
ネッセントダイオードである。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the relationship between the refractive index and the width of another embodiment of the present invention, in which the width of the active region (9a) is designed to minimize the spot size -0, and the front end surface is This is a superluminescent diode in which the width of the active region is constant from the to the window region.

また、第7図はこの発明のもう1つの他の実施例である
屈折率と幅の関係を示す断面図で、活性領域(9e)の
幅が最少スポットサイズとなる幅2T+よりも小さな輻
(2rz)である場合のスーパールミネッセントダイオ
ードである。この場合も活性領域(9e)中で光のスポ
ットサイズが大きくなるので、CODが防げる。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing the relationship between refractive index and width according to another embodiment of the present invention, in which the width of the active region (9e) is smaller than the width 2T+ which is the minimum spot size ( 2rz). In this case as well, the spot size of the light increases in the active region (9e), so COD can be prevented.

また、第8図はこの発明の更にもう1つの他の実施例で
ある屈折率と幅の関係を示す断面図で、結晶の積層方向
のスポットサイズを最少にする場合である。ウィンド領
域部(5b)近傍の活性層厚2U1を積層方向のスポッ
トサイズが最少になるようにしている。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the relationship between the refractive index and the width of yet another embodiment of the present invention, in which the spot size in the crystal lamination direction is minimized. The active layer thickness 2U1 near the window region (5b) is set so that the spot size in the stacking direction is minimized.

また、第9図はこの発明の更にもう1つの他の実施例で
ある屈折率と幅の関係を示す断面図で、活性層(3d)
の厚さ2U+をスポットサイズ−0が最少になる碌に設
計しかつ前端面からウィンド領域まで前記活性層(3d
)の厚さを一定にしたスーパールミネッセントダイオー
ドである。
Moreover, FIG. 9 is a cross-sectional view showing the relationship between the refractive index and the width, which is still another embodiment of the present invention, in which the active layer (3d)
The active layer (3d
) is a superluminescent diode with a constant thickness.

また、第10図はこの発明の更にもう1つの他の実施例
である屈折率と幅の関係を示す断面図で、前端面付近の
活性層厚(20K)が最少スポットサイズとなる厚さ(
2II) よりも厚い場合のスーパールミネッセントダ
イオードである。
Moreover, FIG. 10 is a cross-sectional view showing the relationship between the refractive index and the width according to yet another embodiment of the present invention, in which the active layer thickness (20K) near the front end surface is the thickness (20K) that provides the minimum spot size.
2II) is a superluminescent diode when the thickness is thicker than .

なお、上記能の実施例(第8図、第9図、第10図)と
、本発明の一実施例(第2図)および他の実施例(第6
図、第7図)を組合わせると、より低反射率が実現でき
る。
In addition, the above-mentioned Noh embodiments (Fig. 8, 9, and 10), one embodiment of the present invention (Fig. 2), and other embodiments (Fig. 6)
7), an even lower reflectance can be achieved.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のようにこの発明によれば、スーパールミネッセン
トダイオードにおいて結晶成長の積層方向あるいは積層
方向に垂直な方向あるいは、それら両者の方向に、スポ
ットサイズが最少となる機構を具備したので、超低反射
率が簡単に実現でき、広いスペクトル幅を有しかつ高出
力なスーパールミネッセントダイオード装置が容易に得
られるという効果がある。
As described above, according to the present invention, a superluminescent diode is provided with a mechanism in which the spot size is minimized in the stacking direction of crystal growth, in the direction perpendicular to the stacking direction, or in both directions. This has the effect that a superluminescent diode device with high reflectance, wide spectral width, and high output can be easily obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例であるスーパールミネッセ
ントダイオード装置の斜視図、第2図は第1図のスーパ
ールミネッセントダイオードの構造を等偏屈折率法で2
次元構造とした時の屈折率と幅の関係を示す断面図、第
3図はスーパールミネッセントダイオード中の光の導波
機構を簡略化して3層スラブ導波路とした時の構造図、
第4図は基本モードの電界分布とスポットサイズの関係
を示す波形図、第5図はスボ7)サイズとコア領域幅の
関係を示す波形図、第6図〜第10図はこの発明の他の
実施例であるスーパールミネッセントダイオード装置の
屈折率と幅の関係を示す断面図、第11図は従来のスー
パールミネンセントダイオード装置の断面図である。 図において、fl+はGaAs基板、(2)はAIMG
al−x As下クラッド層、(3)はAft Ga1
−z As活性層、(3a)は活性層(屈折率na、厚
さ2Uo) 、(3b)は活性層のテーパ部、(3C)
はウィンド端部近傍の活性層(屈折率na、厚さ2Ul
> 、(3cl)は活性層(屈折率na厚さ2tl+)
 、(3e)は最少スポットサイズとなる厚さ2U+よ
りも厚い層厚(2[1,)を有する活性層、(4)は^
l、 Ga1−XAs上クラッド層、(51はAI、 
Ga、−。 AsウィンドfrI域(3’ / 2 ) 、 (5a
)、 (5b)はウィンド領域部(屈折率n c ) 
、 (6a)は前端面ARコート膜、(6h)は後端面
ARコート膜、(7)はGaAs:17タクト層、(8
a)は裏面電極、(8b)は表面電極、(9aンは活性
領域(輻2丁。、屈折率na)、 <9b)は活性領域
のテーパ部、(9c)はウィンド領域端部近傍の活性領
域(幅2T1.  M折率na)、(9d)はコア領域
(輻2丁、屈折率n+)、 (9e)は最少スポットサ
イズとなる輻2TIよりも狭い幅(272)を有する活
性層、aOtはクランド領域(屈折率nb)、<10a
)  はクラッド領域(屈折率nz)を示す。 なお、 間中、 同一符号は同一、 又は相当部分を 示す。
FIG. 1 is a perspective view of a superluminescent diode device which is an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows the structure of the superluminescent diode shown in FIG.
A cross-sectional view showing the relationship between refractive index and width when a dimensional structure is used. Figure 3 is a structural diagram when the optical waveguide mechanism in a superluminescent diode is simplified to form a three-layer slab waveguide.
Fig. 4 is a waveform diagram showing the relationship between the fundamental mode electric field distribution and spot size, Fig. 5 is a waveform diagram showing the relationship between subbo 7) size and core region width, and Figs. FIG. 11 is a cross-sectional view showing the relationship between refractive index and width of a superluminescent diode device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a cross-sectional view of a conventional superluminescent diode device. In the figure, fl+ is a GaAs substrate, (2) is an AIMG
al-x As lower cladding layer, (3) is Aft Ga1
-z As active layer, (3a) is the active layer (refractive index na, thickness 2Uo), (3b) is the tapered part of the active layer, (3C)
is the active layer near the window edge (refractive index na, thickness 2Ul)
>, (3cl) is the active layer (refractive index na thickness 2tl+)
, (3e) is an active layer having a layer thickness (2[1,) thicker than the thickness 2U+ that gives the minimum spot size, and (4) is ^
l, Ga1-XAs upper cladding layer, (51 is AI,
Ga, -. As window frI area (3'/2), (5a
), (5b) is the window region (refractive index n c )
, (6a) is the front end surface AR coating film, (6h) is the rear end surface AR coating film, (7) is the GaAs:17 tact layer, (8
a) is the back electrode, (8b) is the front electrode, (9a is the active region (radius 2, refractive index na), <9b) is the tapered part of the active region, and (9c) is the area near the edge of the window region. Active region (width 2T1. M refractive index na), (9d) is the core region (radius 2, refractive index n+), (9e) is the active layer having a width (272) narrower than the minimum spot size, radial 2TI. , aOt is the crund region (refractive index nb), <10a
) indicates the cladding region (refractive index nz). In addition, the same reference numerals indicate the same or equivalent parts throughout.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1対の共振器端面を有しかつ内部に光の導波機構を有し
かつ前記光の導波機構の一部が前記共振器内部で途切れ
ている構造において、前記途切れている近傍の光導波路
から出射される光の回折角を大きくするように、前記途
切れている近傍の導波路中を伝搬する光の電磁界を他の
導波路中を伝送する光の電磁界よりも小さくもしくは等
しく、あるいは前記途切れている近傍の導波路中を伝搬
する光の電磁界を最少に絞り込んだことを特徴とするス
ーパールミネッセントダイオード装置。
In a structure that has a pair of resonator end faces and has an optical waveguide mechanism inside, and a part of the optical waveguide mechanism is interrupted inside the resonator, an optical waveguide in the vicinity of the disconnection. The electromagnetic field of the light propagating in the adjacent waveguide is made smaller or equal to the electromagnetic field of the light propagating in the other waveguides so as to increase the diffraction angle of the light emitted from the waveguide, or A superluminescent diode device characterized in that the electromagnetic field of light propagating in the waveguide near the interruption is minimized.
JP2261043A 1990-09-28 1990-09-28 Super luminescent diode apparatus Pending JPH04137783A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2261043A JPH04137783A (en) 1990-09-28 1990-09-28 Super luminescent diode apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2261043A JPH04137783A (en) 1990-09-28 1990-09-28 Super luminescent diode apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04137783A true JPH04137783A (en) 1992-05-12

Family

ID=17356264

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2261043A Pending JPH04137783A (en) 1990-09-28 1990-09-28 Super luminescent diode apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04137783A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006269781A (en) * 2005-03-24 2006-10-05 Anritsu Corp Semiconductor light emitting device
JP2014236161A (en) * 2013-06-04 2014-12-15 古河電気工業株式会社 Semiconductor optical element, method for manufacturing the same, and integrated semiconductor optical element

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006269781A (en) * 2005-03-24 2006-10-05 Anritsu Corp Semiconductor light emitting device
JP2014236161A (en) * 2013-06-04 2014-12-15 古河電気工業株式会社 Semiconductor optical element, method for manufacturing the same, and integrated semiconductor optical element

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5710847A (en) Semiconductor optical functional device
EP0546743A1 (en) Distributed phase shift semiconductor laser
JP2008113041A (en) Waveguide
US20040179256A1 (en) Ferromagnetic-semiconductor composite isolator and method
JPH02195309A (en) Optical coupling element
US7106773B1 (en) Large modal volume semiconductor laser system with spatial mode filter
US5173914A (en) Semiconductor laser device
JPH04137783A (en) Super luminescent diode apparatus
JPH042188A (en) Laser element and manufacture thereof
JPS6114787A (en) Distributed feedback type semiconductor laser
JPH0720359A (en) Optical device
JPH05142435A (en) Waveguide type beam conversion element and production thereof
JP2641296B2 (en) Semiconductor laser with optical isolator
JPS6232680A (en) Integrated type semiconductor laser
JPH03110885A (en) Distributed feedback semiconductor laser
Boo-Gyoun Kim et al. Improved extinction ratio in ultra short directional couplers using asymmetric structures
JPS61135184A (en) Semiconductor laser device
JPS5911690A (en) semiconductor laser equipment
JP2002014247A (en) Distributed reflection optical waveguide and optical device including the same
JP3368607B2 (en) Distributed feedback semiconductor laser
JPH04291780A (en) Semiconductor light emitting apparatus
JPH04255270A (en) Optical integrated device
JPS6320888A (en) Semoconductor light-emitting device
JPH05196825A (en) Input/output structure of light guide
JP2546366B2 (en) Semiconductor light emitting device