JPH0413900A - ニッケルメッキ浴用ニッケル金属の電解溶解方法 - Google Patents
ニッケルメッキ浴用ニッケル金属の電解溶解方法Info
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- JPH0413900A JPH0413900A JP11677190A JP11677190A JPH0413900A JP H0413900 A JPH0413900 A JP H0413900A JP 11677190 A JP11677190 A JP 11677190A JP 11677190 A JP11677190 A JP 11677190A JP H0413900 A JPH0413900 A JP H0413900A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、金属ニッケルの電解溶解方法、詳しくはニッ
ケルメッキ浴中の消耗したニッケル濃度を金属ニッケル
の電解溶解により向上させる方法に関する。
ケルメッキ浴中の消耗したニッケル濃度を金属ニッケル
の電解溶解により向上させる方法に関する。
［従来技術］
ニッケルメッキ又はニッケル合金メッキは各種の工業的
メツキに使用されているが、その浴組成は、例えば硫酸
等の酸濃度５〜３０ｇ／ｌニッケル濃度３０〜８０ｇ／
ｌ 、 ｐＨ０，５〜２．０である。当然のことながら
、メツキ浴はその使用につれてニッケルが消耗し、ニッ
ケル濃度が低下するため、何らかの方法によりニッケル
を補給し、洛中のニッケル濃度を常に所望のレベルに維
持する必要がある。
メツキに使用されているが、その浴組成は、例えば硫酸
等の酸濃度５〜３０ｇ／ｌニッケル濃度３０〜８０ｇ／
ｌ 、 ｐＨ０，５〜２．０である。当然のことながら
、メツキ浴はその使用につれてニッケルが消耗し、ニッ
ケル濃度が低下するため、何らかの方法によりニッケル
を補給し、洛中のニッケル濃度を常に所望のレベルに維
持する必要がある。
ニッケルメッキ浴へのニッケルの補給としては、金属ニ
ッケルを直接これに浸漬し溶解することも考えられるが
、浴の酸濃度は比較的小さく溶解速度が小さいため実際
的ではない。洛中の酸濃度を高めることはその後に酸濃
度の調整の困難さからこれも実用的でない。
ッケルを直接これに浸漬し溶解することも考えられるが
、浴の酸濃度は比較的小さく溶解速度が小さいため実際
的ではない。洛中の酸濃度を高めることはその後に酸濃
度の調整の困難さからこれも実用的でない。
メツキ浴の酸濃度をほぼ所定レベルに維持したままニッ
ケルを補給する方法として、炭酸ニッケル形態にて浴に
添加することも提案されているが、炭酸ニッケルは金属
ニッケルに比較して高価であるばかりでなく、粉体であ
るため、添加時に飛散し、環境を悪化する等の難点があ
る。
ケルを補給する方法として、炭酸ニッケル形態にて浴に
添加することも提案されているが、炭酸ニッケルは金属
ニッケルに比較して高価であるばかりでなく、粉体であ
るため、添加時に飛散し、環境を悪化する等の難点があ
る。
更にメツキ浴の酸濃度を変えずにニッケルを補給する別
の手段として電解溶解により金属ニッケルを浴に溶解す
る方法も考慮されるが、従来の電解溶解方法では、陰極
上にニッケルが析出するとともに、陽極のニッケルも一
部不働態化してしまうため、この方法も未だ実用化され
ていない。
の手段として電解溶解により金属ニッケルを浴に溶解す
る方法も考慮されるが、従来の電解溶解方法では、陰極
上にニッケルが析出するとともに、陽極のニッケルも一
部不働態化してしまうため、この方法も未だ実用化され
ていない。
［発明の解決しようとする問題点］
本発明は、上記の如きニッケルメッキ洛中の消耗するニ
ッケルを電解により溶解する方法として、陰極上に金属
ニッケルが長時間にわたって析出することな（、また付
随する陽極の不働態化等のトラブルを起すことのないニ
ッケル金属電解溶解方法を提供する。
ッケルを電解により溶解する方法として、陰極上に金属
ニッケルが長時間にわたって析出することな（、また付
随する陽極の不働態化等のトラブルを起すことのないニ
ッケル金属電解溶解方法を提供する。
［問題点を解決するための手段］
上記本発明の目的は、本発明者の研究によると、以下の
本発明により解決しうろことが見い出された。
本発明により解決しうろことが見い出された。
即ち、陽極として硫黄含有金属ニッケル、陰極として水
素過電圧が２５０ｍＶ以下の水素過電圧を有する電極を
有する電解槽にニッケル金属が消耗したニッケルメッキ
浴液を供給し、電流密度１〜３０Ａ／ｄｍ２にて通電す
ることによりニッケル濃度を上昇させることを特徴とす
るニッケルメッキ浴用のニッケル金属電解方法を本発明
として提供する。
素過電圧が２５０ｍＶ以下の水素過電圧を有する電極を
有する電解槽にニッケル金属が消耗したニッケルメッキ
浴液を供給し、電流密度１〜３０Ａ／ｄｍ２にて通電す
ることによりニッケル濃度を上昇させることを特徴とす
るニッケルメッキ浴用のニッケル金属電解方法を本発明
として提供する。
本発明において、陰極として水素過電圧が２５０ｍＶ以
下、好ましくは０〜５０ｍＶの電極を使用することが必
要である。ここにおいて、陰極の水素過電圧が上記範囲
外の場合には、陰極でのニッケル金属の析出が急激に増
加し、実質上工業的運転は困難である。これは、特にニ
ッケルメッキ浴のｐＨとして、０〜２．０、特には１．
０〜１．５の酸濃度の場合に顕著である。この場合、酸
濃度は、通常１〜１００ｇ／ｌであり、酸としては、硫
酸が代表的なものであるが、例えば、塩酸、リン酸、硝
酸、有機酸などの他の酸も本発明では適用できる。
下、好ましくは０〜５０ｍＶの電極を使用することが必
要である。ここにおいて、陰極の水素過電圧が上記範囲
外の場合には、陰極でのニッケル金属の析出が急激に増
加し、実質上工業的運転は困難である。これは、特にニ
ッケルメッキ浴のｐＨとして、０〜２．０、特には１．
０〜１．５の酸濃度の場合に顕著である。この場合、酸
濃度は、通常１〜１００ｇ／ｌであり、酸としては、硫
酸が代表的なものであるが、例えば、塩酸、リン酸、硝
酸、有機酸などの他の酸も本発明では適用できる。
上記特定の水素過電圧を有する陰極としては好ましくは
、比表面積が、窒素ガス吸着法による場合、好ましくは
１０００ｍ”ｍ２以上、特には、１万〜１０万ｍ ２７
ｍ ２を有するのが適切である。
、比表面積が、窒素ガス吸着法による場合、好ましくは
１０００ｍ”ｍ２以上、特には、１万〜１０万ｍ ２７
ｍ ２を有するのが適切である。
ステンレスをエツチングしたもの又はラネーニッケルな
どが例示される。
どが例示される。
本発明の陰極としては、炭素からなるもの、特に織布又
は不織布からなるものが耐酸性があり、且つ安価であり
、実用上特に好ましいことが見い出された。炭素の織布
としては、好ましくは１〜１０μのフィラメントを１０
００〜１２０００本束ねた糸を用い、重密度が好ましく
は０，１〜２．０ｇ／ｃｃ 、厚み０．１〜５ｍｍのも
のが好ましい。
は不織布からなるものが耐酸性があり、且つ安価であり
、実用上特に好ましいことが見い出された。炭素の織布
としては、好ましくは１〜１０μのフィラメントを１０
００〜１２０００本束ねた糸を用い、重密度が好ましく
は０，１〜２．０ｇ／ｃｃ 、厚み０．１〜５ｍｍのも
のが好ましい。
また炭素の不織布としては、密度が好ましくは０．０２
〜０．５ｇ／ｃｃのものが使用される。
〜０．５ｇ／ｃｃのものが使用される。
炭素の織布又は不織布の陰極の場合、それ自体が導電性
を有しているので直接通電できるが、好ましくは、チタ
ニウム、ステンレスなどの導性基体上に担持、固定させ
、自立性をもたせて使用するのが好ましい。織布又は不
織布の固定法としては、上記基体に適宜の数の孔をあけ
、炭素の織布又は不織布を炭素系などの導電性糸で縫い
つけるなどの方法が採用される。かくして、担持、固定
された炭素の織布又は不織布の陰極の場合、下記するチ
タン等の基体に白金族金属がメツキされた電極と異なり
、基体が水素脆化しても、担持した被覆物が脱落するこ
とがないので特に有利である。
を有しているので直接通電できるが、好ましくは、チタ
ニウム、ステンレスなどの導性基体上に担持、固定させ
、自立性をもたせて使用するのが好ましい。織布又は不
織布の固定法としては、上記基体に適宜の数の孔をあけ
、炭素の織布又は不織布を炭素系などの導電性糸で縫い
つけるなどの方法が採用される。かくして、担持、固定
された炭素の織布又は不織布の陰極の場合、下記するチ
タン等の基体に白金族金属がメツキされた電極と異なり
、基体が水素脆化しても、担持した被覆物が脱落するこ
とがないので特に有利である。
更にチタンなどのバルブメタルの表面に白金を電気メツ
キしたものも本発明の陰極として使用できるが、種々検
討したところイリジウムをコーティングしたのち焼付固
定したものは前記電気メッキ品と異なり長時間陰極に用
いても剥離しに（＜、極めて好ましいことが判明した。
キしたものも本発明の陰極として使用できるが、種々検
討したところイリジウムをコーティングしたのち焼付固
定したものは前記電気メッキ品と異なり長時間陰極に用
いても剥離しに（＜、極めて好ましいことが判明した。
上記陰極を使用し、溶解すべき金属ニッケルを陽極に使
用した電解槽に、ニッケル金属又はニッケルと亜鉛等の
ニッケル合金のメツキ浴等からとり出した液を供給する
。この際、陽極の金属ニッケルは、陽極としての不働態
化を防止するために硫黄を含有することが必要であり、
硫黄は好ましくは０．００３〜０．５重量％、好ましく
は０．Ｏ１〜０．０５重量％含有せしめられる。過度に
大きい硫黄含有はメツキに影響するため好ましくない。
用した電解槽に、ニッケル金属又はニッケルと亜鉛等の
ニッケル合金のメツキ浴等からとり出した液を供給する
。この際、陽極の金属ニッケルは、陽極としての不働態
化を防止するために硫黄を含有することが必要であり、
硫黄は好ましくは０．００３〜０．５重量％、好ましく
は０．Ｏ１〜０．０５重量％含有せしめられる。過度に
大きい硫黄含有はメツキに影響するため好ましくない。
金属ニッケルの形状は、溶解をしやす（するため好まし
くは、粒状、板状、粉状にせしめ、これをチタンなどの
耐食性金属のバスケットに入れて使用するのが適切であ
る。ニッケルメッキ浴からとり出した液は、上記電解槽
の陽極と陰極間に好ましくは１０〜４０Ｃｍ／５ｅＣ１
特には２０〜４０ ｃｍ／ｓｅｃで供給する。この流速
を選ぶことにより、陰極上にニッケルが析出した場合に
も、陰極上にニッケルは均一に析出し、かかる均一に析
出したニッケルは除去しやすいので好ましい。
くは、粒状、板状、粉状にせしめ、これをチタンなどの
耐食性金属のバスケットに入れて使用するのが適切であ
る。ニッケルメッキ浴からとり出した液は、上記電解槽
の陽極と陰極間に好ましくは１０〜４０Ｃｍ／５ｅＣ１
特には２０〜４０ ｃｍ／ｓｅｃで供給する。この流速
を選ぶことにより、陰極上にニッケルが析出した場合に
も、陰極上にニッケルは均一に析出し、かかる均一に析
出したニッケルは除去しやすいので好ましい。
上記電解槽は、必要により陽極及び陰極間を隔膜で仕切
ることができる。隔膜は、ニッケルイオンの透過を阻止
するため好ましくは陰イオン交換膜が使用できる。しか
し場合により、未溶解の金属ニッケルの微粒子の透過を
防止するため好ましくは６０メツシュ以上好ましくは１
００メツシュ以上の織布又は不織布であってもよい。織
布又は不織布の材料としては、金属炭素質、合成樹脂、
金属などの導電性のものの使用が好ましい。一方陰イオ
ン交換膜としては、強塩基性又は弱塩基性でイオン交換
容量０．２〜４ミリ当量／ｇ乾燥樹脂厚み２０〜１００
０μのものの使用が好ましい。
ることができる。隔膜は、ニッケルイオンの透過を阻止
するため好ましくは陰イオン交換膜が使用できる。しか
し場合により、未溶解の金属ニッケルの微粒子の透過を
防止するため好ましくは６０メツシュ以上好ましくは１
００メツシュ以上の織布又は不織布であってもよい。織
布又は不織布の材料としては、金属炭素質、合成樹脂、
金属などの導電性のものの使用が好ましい。一方陰イオ
ン交換膜としては、強塩基性又は弱塩基性でイオン交換
容量０．２〜４ミリ当量／ｇ乾燥樹脂厚み２０〜１００
０μのものの使用が好ましい。
か（して電解槽にはニッケルメッキ浴液が供給され、好
ましくは、２〜１０ Ａ／ｄｍ２．特には１〜３０ Ａ
／ｄｍ２にて通電することにより、陽極の金属ニッケル
は、電気的に溶解され、供給したニッケルメッキ浴のｐ
Ｈ即ち酸濃度を変えることなく、浴中の金属ニッケルの
濃度は上昇する。この間陰極では、水素イオンが、本発
明では極めて選択的に放電し、水素ガスが放出され、金
属ニッケルの陰極の析出は抑制される。
ましくは、２〜１０ Ａ／ｄｍ２．特には１〜３０ Ａ
／ｄｍ２にて通電することにより、陽極の金属ニッケル
は、電気的に溶解され、供給したニッケルメッキ浴のｐ
Ｈ即ち酸濃度を変えることなく、浴中の金属ニッケルの
濃度は上昇する。この間陰極では、水素イオンが、本発
明では極めて選択的に放電し、水素ガスが放出され、金
属ニッケルの陰極の析出は抑制される。
しかしこのようにして長時間運転を継続した場合本発明
者の知見によると、陰極には僅かながらニッケルが析出
すると同時に、陽極の金属ニッケルが不動態化現象を起
こし、摺電圧が急激に上昇する場合があることが判明し
た。
者の知見によると、陰極には僅かながらニッケルが析出
すると同時に、陽極の金属ニッケルが不動態化現象を起
こし、摺電圧が急激に上昇する場合があることが判明し
た。
上記現象が生じた場合、本発明者の研究によると通電方
向を逆にせしめ、それまでの陰極を陽極にし、陽極を陰
極にせしめて通電した場合には、極めて有効的に上記現
象が解消しうることが判明した。かかる逆通電により、
陽極の金属ニッケルの不動態化は解消し、陰極上に析出
したニッケルが溶解する為と思われる。かかる逆通電は
、逆通電時間／正通電時間が、好ましくは、０．１〜１
％特には０．１〜ｌＯ％にするのが好ましい。
向を逆にせしめ、それまでの陰極を陽極にし、陽極を陰
極にせしめて通電した場合には、極めて有効的に上記現
象が解消しうることが判明した。かかる逆通電により、
陽極の金属ニッケルの不動態化は解消し、陰極上に析出
したニッケルが溶解する為と思われる。かかる逆通電は
、逆通電時間／正通電時間が、好ましくは、０．１〜１
％特には０．１〜ｌＯ％にするのが好ましい。
このようにして、本発明によれば、ニッケルメッキ浴か
らとり出したニッケル濃度の低下した液は、ニッケル液
のｐＨを変えることなしに極めて有効にニッケル濃度の
向上が行なわれ、ニッケル濃度が上昇した液はニッケル
メッキ浴に循環使用される。
らとり出したニッケル濃度の低下した液は、ニッケル液
のｐＨを変えることなしに極めて有効にニッケル濃度の
向上が行なわれ、ニッケル濃度が上昇した液はニッケル
メッキ浴に循環使用される。
以上は、ニッケルメッキ浴について説明したか、ニッケ
ルー亜鉛メツキ浴或はニッケルー亜鉛−コバルトメツキ
浴等のニッケル合金メツキ浴についても亜鉛、コバルト
はニッケルに比べて、本発明の陰極上に析出しにく（、
同様の作用効果が得られる。
ルー亜鉛メツキ浴或はニッケルー亜鉛−コバルトメツキ
浴等のニッケル合金メツキ浴についても亜鉛、コバルト
はニッケルに比べて、本発明の陰極上に析出しにく（、
同様の作用効果が得られる。
実施例１
ニッケルメッキ浴からとり出したＨ２ＳＯ４０，５ＮＮ
ＩＳＯ４２，５Ｎを含む溶液（ｐ＋（＝１．０）中に本
発明に従って金属ニッケルを電解溶解した。電解槽の陽
極として、チタン製バスケットに入れた粒状形状の硫黄
含有量０．０２重量％の金属ニッケル１００ｇを使用し
、陰極として、糸径３μ、布密度０．０７５ｇ／ｃｃ
、厚み０．４ｍｍの炭素繊維の織布をチタン板に縫いつ
け担持した電極（水素過電圧４０ｍＶ）を用いた。
ＩＳＯ４２，５Ｎを含む溶液（ｐ＋（＝１．０）中に本
発明に従って金属ニッケルを電解溶解した。電解槽の陽
極として、チタン製バスケットに入れた粒状形状の硫黄
含有量０．０２重量％の金属ニッケル１００ｇを使用し
、陰極として、糸径３μ、布密度０．０７５ｇ／ｃｃ
、厚み０．４ｍｍの炭素繊維の織布をチタン板に縫いつ
け担持した電極（水素過電圧４０ｍＶ）を用いた。
上記メツキ浴液は、電解槽に対し、２０ｃｍ／ｓｅｃで
供給され、電流密度（陰極板上）３Ａ／ｄｍ２にて通電
した。その結果、陽極でのニッケル溶解は、３．２ ｇ
／時間の速度で溶解した、その電流効率はほぼ１００％
であり、５時間運転したところ陰極へのニッケルの析出
は認められなかった。
供給され、電流密度（陰極板上）３Ａ／ｄｍ２にて通電
した。その結果、陽極でのニッケル溶解は、３．２ ｇ
／時間の速度で溶解した、その電流効率はほぼ１００％
であり、５時間運転したところ陰極へのニッケルの析出
は認められなかった。
比較例１
実施例１の方法において陰極としてステンレスのＳＵＳ
３１６ （水素過電圧２８０ ｍＶ）を使用して同様
の試験を行なった。その結果Ｎｉの溶解は３．２ ｇ／
Ｈｒでほぼ同様な値であったが、 ５ＬＩＳ ３１６に
Ｎｉが析出し突起状となった。Ｎ１が陰極に析出したた
め総合溶解量は５０％以下であった。
３１６ （水素過電圧２８０ ｍＶ）を使用して同様
の試験を行なった。その結果Ｎｉの溶解は３．２ ｇ／
Ｈｒでほぼ同様な値であったが、 ５ＬＩＳ ３１６に
Ｎｉが析出し突起状となった。Ｎ１が陰極に析出したた
め総合溶解量は５０％以下であった。
実施例２
実施例１の方法において陽極バスケットと陰極板の間に
８０メツシユの厚み１ｍｍｍｍポリプロ布を用い、陰極
と陽極間を区切り、ニッケルメッキ液を陽極室に供給し
、陰極室にニッケルメッキ液を満たして電解を行った。
８０メツシユの厚み１ｍｍｍｍポリプロ布を用い、陰極
と陽極間を区切り、ニッケルメッキ液を陽極室に供給し
、陰極室にニッケルメッキ液を満たして電解を行った。
この布を用いることにより、１００時間という長時間運
転したにもかかわらず、未溶解のＮ１粒子が陰極板上に
析出することがなく、陰極板を長期に安定して使うこと
が出来るようになった。
転したにもかかわらず、未溶解のＮ１粒子が陰極板上に
析出することがなく、陰極板を長期に安定して使うこと
が出来るようになった。
実施例３
実施例１の方法において陽極バスケットと陰極板との間
に８０メツシユの布を設けて陰極室内の液を２０ｃｍ／
ｓｅｃの速度で循環した。その結果１．ＯＡ／ｄｍ２ま
で陰極板上への電析が見られず、実施例１の４倍の溶解
速度が得られた。
に８０メツシユの布を設けて陰極室内の液を２０ｃｍ／
ｓｅｃの速度で循環した。その結果１．ＯＡ／ｄｍ２ま
で陰極板上への電析が見られず、実施例１の４倍の溶解
速度が得られた。
実施例４
実施例１において、陰極にＴｉにＩｒをコーティングし
た後、焼付固定したものを用い、電流密度（陰極板上）
３Ａ／ｄｍ２にて通電した、その結果陽極でのニッケ
ル溶解は３．２ｇ／時間の速度で溶解でき、その電流効
率はほぼ１００％であり５時間運転したところ、陰極へ
のニッケルの電析は認められなかった。
た後、焼付固定したものを用い、電流密度（陰極板上）
３Ａ／ｄｍ２にて通電した、その結果陽極でのニッケ
ル溶解は３．２ｇ／時間の速度で溶解でき、その電流効
率はほぼ１００％であり５時間運転したところ、陰極へ
のニッケルの電析は認められなかった。
実施例５
ニッケルー亜鉛合金メツキ浴からとり出したＨ２ＳＯ，
０，３Ｎ、 ＮｉＳＯ４２，５Ｎ、 ＺｎＳ０４２．５
Ｎを含む溶液（ｐＨ＝ １．０）中に本発明に従って金
属ニッケルを電解溶解した。電解槽の陽極として、チタ
ン製バスケットに入れた粒状形状の硫黄含有量００２重
量％の金属ニッケル１００ｇを使用し、陰極として、糸
径３μ、布密度０．０７５ｇ／ｃｃ 、厚み０．４闘の
炭素繊維の織布をチタン板に縫いつけ担持した電極（水
素過電圧４０ｎｔＶ）を用いた。
０，３Ｎ、 ＮｉＳＯ４２，５Ｎ、 ＺｎＳ０４２．５
Ｎを含む溶液（ｐＨ＝ １．０）中に本発明に従って金
属ニッケルを電解溶解した。電解槽の陽極として、チタ
ン製バスケットに入れた粒状形状の硫黄含有量００２重
量％の金属ニッケル１００ｇを使用し、陰極として、糸
径３μ、布密度０．０７５ｇ／ｃｃ 、厚み０．４闘の
炭素繊維の織布をチタン板に縫いつけ担持した電極（水
素過電圧４０ｎｔＶ）を用いた。
上記メツキ浴液は、電解槽に対し、２０ｃｍ／ｓｅｃで
供給され、電流密度（陰極板上） ３ Ａ／ｄｍ２にて
通電した。その結果、陽極でのニッケル溶解は、３．２
ｇ／時間の速度で溶解した、その電流効率はほぼ１００
％であり、５時間運転したところ陰極への亜鉛、ニッケ
ルの析出は認められなかった。
供給され、電流密度（陰極板上） ３ Ａ／ｄｍ２にて
通電した。その結果、陽極でのニッケル溶解は、３．２
ｇ／時間の速度で溶解した、その電流効率はほぼ１００
％であり、５時間運転したところ陰極への亜鉛、ニッケ
ルの析出は認められなかった。
実施例６
実施例５の方法において陽極バスケットと陰極板の間に
８０メツシユの厚み１ｍｍｍｍポリプロ布を用い、陰極
と陽極間を区切り、ニッケル亜鉛合金メツキ液を陽極室
に供給し、陰極室にニッケルー亜鉛合金メツキ液を満た
して電解を行った。この布を用いることにより、１００
時間という長時間運転したにもかかわらず、未溶解のＮ
ｉ粒子が陰極板上に析出することがなく、陰極板を長期
に安定して使うことが出来るようになった。
８０メツシユの厚み１ｍｍｍｍポリプロ布を用い、陰極
と陽極間を区切り、ニッケル亜鉛合金メツキ液を陽極室
に供給し、陰極室にニッケルー亜鉛合金メツキ液を満た
して電解を行った。この布を用いることにより、１００
時間という長時間運転したにもかかわらず、未溶解のＮ
ｉ粒子が陰極板上に析出することがなく、陰極板を長期
に安定して使うことが出来るようになった。
実施例７
実施例５の方法において陽極バスケットと陰極板との間
に８０メツシユの布を設けて陰極室内の液を２０ｃｍ／
ｓｅｃの速度で循環した。その結果１０Ａ／ｄｍ２まで
陰極板上への電析が見られず、実施例５の４倍の溶解速
度が得られた。
に８０メツシユの布を設けて陰極室内の液を２０ｃｍ／
ｓｅｃの速度で循環した。その結果１０Ａ／ｄｍ２まで
陰極板上への電析が見られず、実施例５の４倍の溶解速
度が得られた。
実施例８
実施例５において、陰極にＴｊにＩｒをコーティングし
た後、焼付固定したものを用い、電流密度（陰極板上）
３Ａ／ｄｍ２にて通電した、その結果陽極でのニッケ
ル溶解は３．２ｇ／時間の速度で溶解でき、その電流効
率はほぼ１００％であり５時間運転したところ、陰極へ
の亜鉛ニッケルの電析は認められなかった。
た後、焼付固定したものを用い、電流密度（陰極板上）
３Ａ／ｄｍ２にて通電した、その結果陽極でのニッケ
ル溶解は３．２ｇ／時間の速度で溶解でき、その電流効
率はほぼ１００％であり５時間運転したところ、陰極へ
の亜鉛ニッケルの電析は認められなかった。
実施例９
ニッケルー亜鉛−コバルト合金メツキ浴からとり出した
＋（２ＳＯ４０，３Ｎ、 ＮｉＳＯ４２，５Ｎ、 Ｚｎ
ＳＯ４２，５Ｎ、 ＣＯ３Ｏ４０，ｌＮを含む溶液（ｐ
Ｈ＝１．０）中に本発明に従って金属ニッケルを電解溶
解した。電解槽の陽極として、チタン製バスケットに入
れた粒状形状の硫黄含有量０．０２重量％の金属ニッケ
ル１００ｇを使用し、陰極として、糸径３μ、重密度０
．０７５ｇ／ｃｃ 、厚み０．４ｍｍの炭素繊維の織布
をチタン板に縫いつけ担持した電極（水素過電圧４０ｍ
Ｖ）を用いた。
＋（２ＳＯ４０，３Ｎ、 ＮｉＳＯ４２，５Ｎ、 Ｚｎ
ＳＯ４２，５Ｎ、 ＣＯ３Ｏ４０，ｌＮを含む溶液（ｐ
Ｈ＝１．０）中に本発明に従って金属ニッケルを電解溶
解した。電解槽の陽極として、チタン製バスケットに入
れた粒状形状の硫黄含有量０．０２重量％の金属ニッケ
ル１００ｇを使用し、陰極として、糸径３μ、重密度０
．０７５ｇ／ｃｃ 、厚み０．４ｍｍの炭素繊維の織布
をチタン板に縫いつけ担持した電極（水素過電圧４０ｍ
Ｖ）を用いた。
上記メツキ浴液は、電解槽に対し、２０ｃｍ／ｓｅｃで
供給され、電流密度（陰極板上）３Ａ／ｄｍ２にて通電
した。その結果、陽極でのニッケル溶解は、３．２ｇ／
時間の速度で溶解した、その電流効率はほぼ１００％で
あり、５時間運転したところ陰極への亜鉛、コバルト、
ニッケルの析出は認められなかった。
供給され、電流密度（陰極板上）３Ａ／ｄｍ２にて通電
した。その結果、陽極でのニッケル溶解は、３．２ｇ／
時間の速度で溶解した、その電流効率はほぼ１００％で
あり、５時間運転したところ陰極への亜鉛、コバルト、
ニッケルの析出は認められなかった。
実施例１０
実施例９の方法において陽極バスケットと陰極板の間に
８０メツシユの厚み１ｍｍｍｍポリプロ布を用い、陰極
と陽極間を区切り、ニッケルー亜鉛−コバルト合金メツ
キ液を陽極室に供給し、陰極室にニッケルー亜鉛−コバ
ルト合金メツキ液を満たして電解を行った。この布を用
いることにより、１００時間という長時間運転したにも
かかわらず、未溶解のＮｉ粒子が陰極板上に析出するこ
とがなく、陰極板を長期に安定して使うことが出来るよ
うになった。
８０メツシユの厚み１ｍｍｍｍポリプロ布を用い、陰極
と陽極間を区切り、ニッケルー亜鉛−コバルト合金メツ
キ液を陽極室に供給し、陰極室にニッケルー亜鉛−コバ
ルト合金メツキ液を満たして電解を行った。この布を用
いることにより、１００時間という長時間運転したにも
かかわらず、未溶解のＮｉ粒子が陰極板上に析出するこ
とがなく、陰極板を長期に安定して使うことが出来るよ
うになった。
実施例１１
実施例９の方法において陽極バスケットと陰極板との間
に８０メツシユの布を設けて陰極室内の液を２０ｃｍ／
ｓｅｃの速度で循環した。その結果１０Ａ／ｄｍ２まで
陰極板上への電析が見られず、実施例９の４倍の溶解速
度が得られた。
に８０メツシユの布を設けて陰極室内の液を２０ｃｍ／
ｓｅｃの速度で循環した。その結果１０Ａ／ｄｍ２まで
陰極板上への電析が見られず、実施例９の４倍の溶解速
度が得られた。
実施例１２
実施例９において、陰極にＴ１にＩｒをコーティングし
た後、焼付固定したものを用い、電流密度（陰極板上）
３Ａ／ｄｍ２にて通電した、その結果陽極でのニッケ
ル溶解は３．２ｇ／時間の速度で溶解でき、その電流効
率はほぼ１００％であり５時間運転したところ、陰極へ
の亜鉛、コバルト、ニッケルの電析は認められなかった
。
た後、焼付固定したものを用い、電流密度（陰極板上）
３Ａ／ｄｍ２にて通電した、その結果陽極でのニッケ
ル溶解は３．２ｇ／時間の速度で溶解でき、その電流効
率はほぼ１００％であり５時間運転したところ、陰極へ
の亜鉛、コバルト、ニッケルの電析は認められなかった
。
Claims (6)
- （１）陽極として硫黄含有金属ニッケル、陰極として水
素過電圧が２５０ｍＶ以下の水素過電圧を有する電極を
有する電解槽にニッケル金属が消耗したニッケルメッキ
浴液を供給し、電流密度１〜３０Ａ／ｄｍ＾２にて通電
し、ニッケル濃度を上昇させることを特徴とするニッケ
ルメッキ浴用ニッケル金属の電解溶解方法。 - （２）消耗したニッケルメッキ浴液が、酸濃度１〜１０
０ｇ／ｌ、ニッケル濃度１〜１００ｇ／ｌ、ｐＨ０〜２
である請求項（１）の方法。 - （３）陰極の窒素ガス吸着法による比表面積が、１００
０ｍ＾２／ｍ＾２以上である請求項（１）又は（２）の
方法。 - （４）陰極がチタン上に担持された炭素の織布又は不織
布である請求項（１）、（２）又は（３）の方法。 - （５）陰極がチタン上にＩｒ又はＩｒ合金をコーティン
グ後焼きつけを行なった請求項（１）又は（２）の方法
。 - （６）陰極が硫黄を０．００３〜０．５％を含むニッケ
ルである請求項（１）、（２）、（３）、（４）又は（
５）の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11677190A JPH0413900A (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | ニッケルメッキ浴用ニッケル金属の電解溶解方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11677190A JPH0413900A (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | ニッケルメッキ浴用ニッケル金属の電解溶解方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0413900A true JPH0413900A (ja) | 1992-01-17 |
Family
ID=14695321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11677190A Pending JPH0413900A (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | ニッケルメッキ浴用ニッケル金属の電解溶解方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0413900A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0915190A3 (en) * | 1997-10-30 | 1999-07-28 | Daiki Engineering Co., Ltd. | Process and apparatus for supplying metal ions to alloy electroplating bath |
| CN103160868A (zh) * | 2011-12-17 | 2013-06-19 | 鞍钢重型机械有限责任公司 | 一种用于生产含硫活性镍的电解液及其使用方法 |
| JP2013543062A (ja) * | 2010-11-16 | 2013-11-28 | マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド | クロム電極からのクロムの電解溶解 |
| EP2606163A4 (en) * | 2010-08-18 | 2015-10-07 | Macdermid Inc | METHOD AND DEVICE FOR ADJUSTING THE PH-VALUE OF NICKEL |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5621074A (en) * | 1979-07-28 | 1981-02-27 | Mitsubishi Electric Corp | Dc leak current measuring device |
| JPS6233798A (ja) * | 1985-08-05 | 1987-02-13 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 硫黄含有電解ニツケルピ−スの製造方法 |
| JPS63114989A (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-19 | Asahi Glass Co Ltd | メツキ液の処理方法 |
| JPH01234598A (ja) * | 1988-03-15 | 1989-09-19 | Nkk Corp | 電気めっきにおけるＮｉイオンの調製方法 |
-
1990
- 1990-05-08 JP JP11677190A patent/JPH0413900A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5621074A (en) * | 1979-07-28 | 1981-02-27 | Mitsubishi Electric Corp | Dc leak current measuring device |
| JPS6233798A (ja) * | 1985-08-05 | 1987-02-13 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 硫黄含有電解ニツケルピ−スの製造方法 |
| JPS63114989A (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-19 | Asahi Glass Co Ltd | メツキ液の処理方法 |
| JPH01234598A (ja) * | 1988-03-15 | 1989-09-19 | Nkk Corp | 電気めっきにおけるＮｉイオンの調製方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0915190A3 (en) * | 1997-10-30 | 1999-07-28 | Daiki Engineering Co., Ltd. | Process and apparatus for supplying metal ions to alloy electroplating bath |
| EP2606163A4 (en) * | 2010-08-18 | 2015-10-07 | Macdermid Inc | METHOD AND DEVICE FOR ADJUSTING THE PH-VALUE OF NICKEL |
| JP2013543062A (ja) * | 2010-11-16 | 2013-11-28 | マクダーミッド アキューメン インコーポレーテッド | クロム電極からのクロムの電解溶解 |
| CN103160868A (zh) * | 2011-12-17 | 2013-06-19 | 鞍钢重型机械有限责任公司 | 一种用于生产含硫活性镍的电解液及其使用方法 |
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