JPH04139034A - 磁気記録媒体用ガラス基板表面に凹凸を形成する方法 - Google Patents
磁気記録媒体用ガラス基板表面に凹凸を形成する方法Info
- Publication number
- JPH04139034A JPH04139034A JP25991890A JP25991890A JPH04139034A JP H04139034 A JPH04139034 A JP H04139034A JP 25991890 A JP25991890 A JP 25991890A JP 25991890 A JP25991890 A JP 25991890A JP H04139034 A JPH04139034 A JP H04139034A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- molten salt
- monovalent
- magnetic recording
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 5
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- -1 cation carbonate Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 22
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 3
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 2
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001422 barium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001417 caesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001427 strontium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、ガラス基板の表面に微細な凹凸を形成する方
法に関し、とりわけ磁気記録ディスクの基板として使用
するのに適したガラス基板を製造する方法に関する。
法に関し、とりわけ磁気記録ディスクの基板として使用
するのに適したガラス基板を製造する方法に関する。
「従来の技術」
磁気ディスク用基板と、その上に形成した磁性膜および
保護膜からなる構成体は磁気記録媒体と呼ばれ、磁気記
録装置は磁気記録媒体と記録再生用の磁気ヘッドを主構
成部とする。この磁気記録装置は操作開始時には磁気記
録媒体と磁気ヘッドとは接触状態にあり、磁気記録媒体
に所要の回転を与えることにより、磁気記録媒体と磁気
記録へノドとの間に空気層をからなる空間をつくり、こ
の状態で記録再生を行う。そして操作終了時には磁気記
録媒体の回転を停止し操作開始時と同じ状態になる。操
作の開始時および停止時には磁気ディスクと磁気ヘッド
との間には、接触摩擦力が生じ、磁気記録媒体と磁気へ
ノドの接触面が摩耗して磁気特性の劣化原因となる。
(この一連の動作方式をフンタクト・スタート・スト、
プ略してCSSと称している。) ところで、湿分がある雰囲気中で磁気記録媒体を放置し
ておくと、磁気記録媒体表面に水分が吸着する。この状
態では、磁気へノドは磁気記録媒体表面にくっついてし
まい、操作開始時に大きな抵抗力が生じて磁気へノドの
損傷や磁気記録媒体の破壊を招くという問題がある。
保護膜からなる構成体は磁気記録媒体と呼ばれ、磁気記
録装置は磁気記録媒体と記録再生用の磁気ヘッドを主構
成部とする。この磁気記録装置は操作開始時には磁気記
録媒体と磁気ヘッドとは接触状態にあり、磁気記録媒体
に所要の回転を与えることにより、磁気記録媒体と磁気
記録へノドとの間に空気層をからなる空間をつくり、こ
の状態で記録再生を行う。そして操作終了時には磁気記
録媒体の回転を停止し操作開始時と同じ状態になる。操
作の開始時および停止時には磁気ディスクと磁気ヘッド
との間には、接触摩擦力が生じ、磁気記録媒体と磁気へ
ノドの接触面が摩耗して磁気特性の劣化原因となる。
(この一連の動作方式をフンタクト・スタート・スト、
プ略してCSSと称している。) ところで、湿分がある雰囲気中で磁気記録媒体を放置し
ておくと、磁気記録媒体表面に水分が吸着する。この状
態では、磁気へノドは磁気記録媒体表面にくっついてし
まい、操作開始時に大きな抵抗力が生じて磁気へノドの
損傷や磁気記録媒体の破壊を招くという問題がある。
ガラス基板は平滑性が優れて高密度記録を行う上では良
好な基板であるが、上記の耐C8S性が良くないという
問題がある。かかるガラス基板が有する問題点を解決す
るために基板表面に凹凸を形成したガラス基板が考えら
れ、表面に凹凸を形成する方法としては、たとえば機械
的手段で微小な凹凸を形成する方法(特開昭53−12
3906号公報)や、酸水溶液によりガラス表面をエツ
チングして表面に凹凸を形成する方法(特開昭60−1
36035号公報)や、両者を組み合わせた方法(特開
昭63−160010)が開示されている。
好な基板であるが、上記の耐C8S性が良くないという
問題がある。かかるガラス基板が有する問題点を解決す
るために基板表面に凹凸を形成したガラス基板が考えら
れ、表面に凹凸を形成する方法としては、たとえば機械
的手段で微小な凹凸を形成する方法(特開昭53−12
3906号公報)や、酸水溶液によりガラス表面をエツ
チングして表面に凹凸を形成する方法(特開昭60−1
36035号公報)や、両者を組み合わせた方法(特開
昭63−160010)が開示されている。
「発明が解決しようとする課題」
上記機械的方法では、ガラス基板表面に微小クラックが
発生してガラスの強度が低下したり、クラックに汚れが
入り込み磁気特性を劣化せせるという問題があり、これ
らの問題の発生を少なくするためには粒度の小さい砥粒
で長時間研磨しなければならないという問題があった。
発生してガラスの強度が低下したり、クラックに汚れが
入り込み磁気特性を劣化せせるという問題があり、これ
らの問題の発生を少なくするためには粒度の小さい砥粒
で長時間研磨しなければならないという問題があった。
また、上記の酸溶液を用いる方法では、あらかじめ金属
層を形成し熱処理をする必要があり、工程が複雑である
という問題点があった。
層を形成し熱処理をする必要があり、工程が複雑である
という問題点があった。
さらに両者を組み合わせる上記の方法では、工程が複数
になり、さらに弗化水素酸濃度を厳密に管理せねばなら
ず表面凹凸形成の再現性がよくないという問題点があっ
た。
になり、さらに弗化水素酸濃度を厳密に管理せねばなら
ず表面凹凸形成の再現性がよくないという問題点があっ
た。
本発明の目的は、上記の従来の方法が有する問題点を解
決し、磁気記録用のガラス基板に適した凹凸をガラス表
面に形成する方法を提供するものである。
決し、磁気記録用のガラス基板に適した凹凸をガラス表
面に形成する方法を提供するものである。
「課題を解決するための手段J
本発明は、1価の陽イオ/の硝酸塩、2価の陽イオ/の
硝酸塩、1価の陽イオンの硫酸塩、2価の陽イオンの硫
a!塩の少なくとも一つを含むアルカリ性の溶融塩にガ
ラス表面を接触させ、前記ガラス表面をエツチングする
ことより、ガラス表面に凹凸を形成する方法である。
硝酸塩、1価の陽イオンの硫酸塩、2価の陽イオンの硫
a!塩の少なくとも一つを含むアルカリ性の溶融塩にガ
ラス表面を接触させ、前記ガラス表面をエツチングする
ことより、ガラス表面に凹凸を形成する方法である。
本発明にかかる溶融塩としては、1価の陽イオンの硝酸
塩、2価の陽イオンの硝酸塩、1価の陽イオンの硫酸塩
、2価の陽イオンの硫酸塩の少なくとも一つを含み、か
つ、加熱されて溶融状態にあるアルカリ性を呈する塩で
ある。1価の陽イオンとしてはLlイオン、Naイオン
、Kイオン。
塩、2価の陽イオンの硝酸塩、1価の陽イオンの硫酸塩
、2価の陽イオンの硫酸塩の少なくとも一つを含み、か
つ、加熱されて溶融状態にあるアルカリ性を呈する塩で
ある。1価の陽イオンとしてはLlイオン、Naイオン
、Kイオン。
Csイオン、TIイオンが例示でき、2価の陽イオンと
してはMgイオン、Caイオン、Baイオン、Srイオ
ン、Pbイオン、Cuイオンが例示できる。なかでもガ
ラスを早くエツチングし凹凸を形成する時間を短くする
上で、Naイオンやにイオンの硝酸塩が好ましい。
してはMgイオン、Caイオン、Baイオン、Srイオ
ン、Pbイオン、Cuイオンが例示できる。なかでもガ
ラスを早くエツチングし凹凸を形成する時間を短くする
上で、Naイオンやにイオンの硝酸塩が好ましい。
また、本発明の溶融塩は、ガラス表面と接触してガラス
をエツチングすることによりガラス表面に凹凸を形成す
るためにアルカリ性であることが必要である。溶融塩を
アルカリ性にするためには、1価または2価の陽イオ/
の水酸化物、2価または2価の陽イオンの炭酸塩、1価
または2価の陽イオンの重炭酸塩の少なくとも一つを溶
融塩に添加することができる。また溶融塩を熱分解して
アルカリ性にするカーボン粉末や炭化珪素粉末などの炭
素含有物を添加することもできる。とりわけ水酸化カリ
ウムや水酸化ナトリウムは、ガラスの表面に残りかすを
呈することなく清浄な表面が得られるので好ましい。
をエツチングすることによりガラス表面に凹凸を形成す
るためにアルカリ性であることが必要である。溶融塩を
アルカリ性にするためには、1価または2価の陽イオ/
の水酸化物、2価または2価の陽イオンの炭酸塩、1価
または2価の陽イオンの重炭酸塩の少なくとも一つを溶
融塩に添加することができる。また溶融塩を熱分解して
アルカリ性にするカーボン粉末や炭化珪素粉末などの炭
素含有物を添加することもできる。とりわけ水酸化カリ
ウムや水酸化ナトリウムは、ガラスの表面に残りかすを
呈することなく清浄な表面が得られるので好ましい。
本発明の溶融塩のアルカリ性の強さは、冷却した溶融塩
3gを水100m1に溶かした水溶液のpHが10以上
であることが、凹凸の形成を短時間でおこなう上で好ま
しく、さらには11以上であることがさらに好ましい。
3gを水100m1に溶かした水溶液のpHが10以上
であることが、凹凸の形成を短時間でおこなう上で好ま
しく、さらには11以上であることがさらに好ましい。
アルカリ性の強さの上限は、ガラス基板を大きく侵食し
ない範囲で定められ、その上限はガラスの組成により異
なり、−a的に定めることは困難である。
ない範囲で定められ、その上限はガラスの組成により異
なり、−a的に定めることは困難である。
溶融塩の加熱温度は、使用する溶融塩の組成により異な
るが、通常350〜600℃でおこなわれる。
るが、通常350〜600℃でおこなわれる。
磁気ディスク用のガラス基板に要求される表面凹凸とす
るには、硝酸カリウムに1価の水酸化物を添加した溶融
塩を用いるのがもっとも好ましい。
るには、硝酸カリウムに1価の水酸化物を添加した溶融
塩を用いるのがもっとも好ましい。
このとき溶融塩と空気中の炭酸ガスとの接触を避けて水
酸化物が経時的に変質するのを防止することが好ましい
。
酸化物が経時的に変質するのを防止することが好ましい
。
溶融塩とガラス表面とを接触する方法はとくに限定され
ないが、溶融塩中にガラス基板を漬ける方法やガラス基
板の上に塩を塗布し、その後ガラス基板を加熱する方法
などを用いることができる。
ないが、溶融塩中にガラス基板を漬ける方法やガラス基
板の上に塩を塗布し、その後ガラス基板を加熱する方法
などを用いることができる。
また、溶融塩中に含まれる陽イオンのイオン半径をガラ
ス中のアルカリイオンのイオン半径よりも大きく選ぶこ
とにより、エツチングによる表面凹凸の形成と同時に、
表面近傍に圧縮応力層を形成して機械的強度を大きくす
ることができる。
ス中のアルカリイオンのイオン半径よりも大きく選ぶこ
とにより、エツチングによる表面凹凸の形成と同時に、
表面近傍に圧縮応力層を形成して機械的強度を大きくす
ることができる。
本発明に用いられるガラス基板としては、とくにその組
成が限定されない。ソーダライム組成のフロートガラス
や硼珪酸組成のガラスを用いることができる。
成が限定されない。ソーダライム組成のフロートガラス
や硼珪酸組成のガラスを用いることができる。
本発明の方法は、太陽電池用用のガラス基板表面の微細
凹凸の形成や無反射ガラスとするための表面の凹凸の形
成にも用いることができる。
凹凸の形成や無反射ガラスとするための表面の凹凸の形
成にも用いることができる。
「作用J
本発明にかかる溶融塩中に含まれるアルカリ性゛成分は
、溶融塩が接触するガラス表面を迅速にエツチングする
。これによりに表面凹凸が形成される。
、溶融塩が接触するガラス表面を迅速にエツチングする
。これによりに表面凹凸が形成される。
「実施例」
以下に実施例に基づいて本発明を説明する。第1図は、
本発明の実施により得られたガラス表面の電子顕微鏡観
察から、ガラス表面の形状を模式的に表した図で、策1
図(a)はガラス基板の表面を上からみた図、第1図(
b)はガラス基板の断面図である。
本発明の実施により得られたガラス表面の電子顕微鏡観
察から、ガラス表面の形状を模式的に表した図で、策1
図(a)はガラス基板の表面を上からみた図、第1図(
b)はガラス基板の断面図である。
実施例
ソーダライム組成のフロートガラス板を円盤状に切断し
、ガラス表面を微小の酸化セリウム粉末を@濁したう、
ピング液により平滑にし、さらにエツジ部分を面取り加
工をして円盤ガラスとした。
、ガラス表面を微小の酸化セリウム粉末を@濁したう、
ピング液により平滑にし、さらにエツジ部分を面取り加
工をして円盤ガラスとした。
この円盤ガラスを、窒素ガス雰囲気中で420℃に加熱
した1重量%の水酸化カリウムを含む硝酸カリウムの溶
融塩に3分間漬けて、その後取り出した。この溶融塩を
冷却しその3gを採取し、 100m1の水に溶かして
溶液をつくった。この溶液のpHを測定したところ12
.5であった。得られた円盤ガラスを洗浄して走査型電
子顕微鏡でガラス表面を観察した結果、直径が0. 1
〜1μmの凹部が多数形成され、それにより形成された
表面の凹凸を走査型電子顕微鏡により中心線平均平方根
粗さR1で評価したところ約4OAであった。
した1重量%の水酸化カリウムを含む硝酸カリウムの溶
融塩に3分間漬けて、その後取り出した。この溶融塩を
冷却しその3gを採取し、 100m1の水に溶かして
溶液をつくった。この溶液のpHを測定したところ12
.5であった。得られた円盤ガラスを洗浄して走査型電
子顕微鏡でガラス表面を観察した結果、直径が0. 1
〜1μmの凹部が多数形成され、それにより形成された
表面の凹凸を走査型電子顕微鏡により中心線平均平方根
粗さR1で評価したところ約4OAであった。
ガラス表面は、模式的に第1図(a)、 (b)に示す
ように磁気記録媒体のガラス基板として好ましい、すな
わち突起部分がない形状を呈していた。
ように磁気記録媒体のガラス基板として好ましい、すな
わち突起部分がない形状を呈していた。
この円盤ガラスにスパッタリング法により150nmの
Crの下地膜および50nmのCo系磁性膜を順次形成
し、最後に38nmの厚みのカーボンの保護膜を形成し
た。このようにして得た磁気記録媒体について、耐C8
Sテストを実施したところ、3万回以上のC8Sテスト
後も磁気出力は初期値の90%以上であった。
Crの下地膜および50nmのCo系磁性膜を順次形成
し、最後に38nmの厚みのカーボンの保護膜を形成し
た。このようにして得た磁気記録媒体について、耐C8
Sテストを実施したところ、3万回以上のC8Sテスト
後も磁気出力は初期値の90%以上であった。
比較例
実施例と同じようにしてソーダライム組成のフロートガ
ラス板を円盤状に切断し、ガラス表面を微小の酸化セリ
ウム粉末をl!A濁したう、ピッグ液によりガラス表面
を平滑にし、さらに工、ジ部分を面取り加工して円盤ガ
ラスとした。
ラス板を円盤状に切断し、ガラス表面を微小の酸化セリ
ウム粉末をl!A濁したう、ピッグ液によりガラス表面
を平滑にし、さらに工、ジ部分を面取り加工して円盤ガ
ラスとした。
この円盤ガラスに実施例と同じ方法で150nmのCr
の下地膜および50nmのCo系磁性膜を順次形成し、
最後に38nmの厚みのカーボンの保護膜を形成した。
の下地膜および50nmのCo系磁性膜を順次形成し、
最後に38nmの厚みのカーボンの保護膜を形成した。
このようにして得た磁気記録媒体について、耐C8Sテ
ストを実施したところ、3千回でC5Sテスト後も磁気
出力は初期値より太き(低下した。
ストを実施したところ、3千回でC5Sテスト後も磁気
出力は初期値より太き(低下した。
「発明の効果」
本発明によれば磁気記録媒体用のガラス基板に適した表
面凹凸を単一工程でかつ短時間にガラス表面に形成する
ことができる。また本方法は大量処理が可能で、かつ、
弗酸の液を用いないので酸廃液処理設備を必要とせず経
済性が優れている。
面凹凸を単一工程でかつ短時間にガラス表面に形成する
ことができる。また本方法は大量処理が可能で、かつ、
弗酸の液を用いないので酸廃液処理設備を必要とせず経
済性が優れている。
第1図は本発明の実施により得られるガラス基板の表面
形状を説明するための図で、第1図(a)は平面図、第
1図(1))は断面図である。 特許 出願人 日本板硝子株式会社(a) 第 図 平成3年2月8日
形状を説明するための図で、第1図(a)は平面図、第
1図(1))は断面図である。 特許 出願人 日本板硝子株式会社(a) 第 図 平成3年2月8日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)1価の陽イオンの硝酸塩、2価の陽イオンの硝酸塩
、1価の陽イオンの硫酸塩、2価の陽イオンの硫酸塩の
少なくとも一つを含むアルカリ性の溶融塩にガラス表面
を接触させ、前記ガラス表面をエッチングすることより
、ガラス表面に凹凸を形成する方法。 2)前記溶融塩は、1価または2価の陽イオンの水酸化
物、1価または2価の陽イオンの炭酸塩、1価または2
価の陽イオンの重炭酸塩の群からなる塩の少なくと一つ
が添加されてアルカリ性に調整されていることを特徴と
する特許請求範囲第1項に記載のガラス表面に凹凸を形
成する方法。 3)前記溶融塩のアルカリ性が、前記溶融塩を3%水溶
液としたときに、pHが10以上であることを特徴とす
る特許請求範囲第1項または第2項に記載のガラス表面
に凹凸を形成する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2259918A JP2917480B2 (ja) | 1990-09-29 | 1990-09-29 | 磁気記録媒体用ガラス基板表面に凹凸を形成する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2259918A JP2917480B2 (ja) | 1990-09-29 | 1990-09-29 | 磁気記録媒体用ガラス基板表面に凹凸を形成する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04139034A true JPH04139034A (ja) | 1992-05-13 |
| JP2917480B2 JP2917480B2 (ja) | 1999-07-12 |
Family
ID=17340740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2259918A Expired - Lifetime JP2917480B2 (ja) | 1990-09-29 | 1990-09-29 | 磁気記録媒体用ガラス基板表面に凹凸を形成する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2917480B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012528775A (ja) * | 2009-06-03 | 2012-11-15 | エージーシー グラス ユーロップ | ガラス処理方法 |
| JP2013512179A (ja) * | 2009-12-01 | 2013-04-11 | サン−ゴバン グラス フランス | 反応性イオンビームエッチングによる表面構造化方法、構造化した表面及び利用 |
| US9371250B2 (en) | 2009-12-01 | 2016-06-21 | Saint-Gobain Glass France | Method for structuring a surface by means of ion-beam etching, structured surface and uses |
| CN109803938A (zh) * | 2016-09-30 | 2019-05-24 | Agc株式会社 | 化学强化玻璃的制造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11629095B2 (en) | 2019-05-31 | 2023-04-18 | Corning Incorporated | Etching glass and glass ceramic materials in hydroxide containing molten salt |
-
1990
- 1990-09-29 JP JP2259918A patent/JP2917480B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012528775A (ja) * | 2009-06-03 | 2012-11-15 | エージーシー グラス ユーロップ | ガラス処理方法 |
| JP2013512179A (ja) * | 2009-12-01 | 2013-04-11 | サン−ゴバン グラス フランス | 反応性イオンビームエッチングによる表面構造化方法、構造化した表面及び利用 |
| US9371250B2 (en) | 2009-12-01 | 2016-06-21 | Saint-Gobain Glass France | Method for structuring a surface by means of ion-beam etching, structured surface and uses |
| CN109803938A (zh) * | 2016-09-30 | 2019-05-24 | Agc株式会社 | 化学强化玻璃的制造方法 |
| CN109803938B (zh) * | 2016-09-30 | 2022-07-12 | Agc株式会社 | 化学强化玻璃的制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2917480B2 (ja) | 1999-07-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7727407B2 (en) | Amorphous material processing method | |
| JP4185266B2 (ja) | 情報記録媒体用基板の製造方法 | |
| US5654057A (en) | Sheet glass flattening method, method of manufacturing glass substrate for an information recording disk using flattened glass, method of manufacturing a magnetic recording disk using glass substrate, and magnetic recording medium | |
| US6134918A (en) | Method of fabricating glass substrate for magnetic disk and method of fabricating magnetic disk | |
| US6550278B2 (en) | Method of manufacturing glass substrate for use as information recording medium | |
| JP5326941B2 (ja) | ガラス表面の微細加工方法 | |
| JP2002251716A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法およびそれを用いて得られる磁気記録媒体用ガラス基板 | |
| JPH07223845A (ja) | 化学強化ガラスの製造方法 | |
| WO2020032146A1 (ja) | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク | |
| JPH07169048A (ja) | 磁性記憶装置のディスク用基体およびその製造方法 | |
| JP3023429B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び情報記録媒体の製造方法 | |
| JP3078281B2 (ja) | 情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体 | |
| JP2917480B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板表面に凹凸を形成する方法 | |
| JP2998949B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JP2000311336A (ja) | 磁気ディスク用基板の作製方法、その方法により得られた磁気ディスク用基板及び磁気記録媒体 | |
| JPS63225919A (ja) | 磁気デイスク用基板と製造法 | |
| JP2947131B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板、その製造方法及び磁気記録媒体 | |
| KR100532159B1 (ko) | 자기 기록 매체용 글라스 기판의 제조 방법 | |
| JP2951571B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JP3113828B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| JP2998953B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
| EP0968975A1 (en) | Process for producing glass substrate for information recording medium and information recording medium containing glass substrate produced by the process | |
| JPS63160013A (ja) | 磁気デイスク用基板の製造法 | |
| JPH11322374A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
| JP3164212B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の洗浄方法 |