JPH04139735A - Ic搭載用可撓性回路基板の製造法 - Google Patents
Ic搭載用可撓性回路基板の製造法Info
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- JPH04139735A JPH04139735A JP2261133A JP26113390A JPH04139735A JP H04139735 A JPH04139735 A JP H04139735A JP 2261133 A JP2261133 A JP 2261133A JP 26113390 A JP26113390 A JP 26113390A JP H04139735 A JPH04139735 A JP H04139735A
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0393—Flexible materials
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4007—Surface contacts, e.g. bumps
Landscapes
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
回路基板及びその製造法に関する。
の回路配線パターン2の所要部位に上記絶縁基材lを貫
通して電気的に接合された導電性部材3を設け、この導
電性部材3が上記絶縁基材の他面から突出してICボン
ディングのためのバンプ4を形成するIC搭載用可撓性
回路基板に於いては、先ず、絶縁基材1を貫通する孔5
を穿設し、該孔5に銅メツキ等からなる充填・付着処理
を施して導電性部材3及びバンプ4を形成するという手
法がある。この場合、絶縁基材1を薄くできればメツキ
処理時間を短縮できるという効果があるが、絶縁基材l
を薄くすると、回路基板全体の取扱い性、ハンドリング
性が低下する問題がある。
路配線パターンの所要部位に上記絶縁基材を貫通して電
気的に接合された導電性部材を設け、この導電性部材が
上記絶縁基材の他面から突出してICボンディングのた
めのバンプを形成するIC搭載用可撓性回路基板に於い
て、前記バンプを形成した絶縁基材に、IC搭載域に対
応してIC搭載用陥部を設けたことを特徴とするIC搭
載用可撓性回路基板を提供するものである。
性絶縁基材の一方面に所要の回路配線パターンを形成す
ると共に該基材の他方面に対して上記回路配線パターン
との関連で露出孔を設けマスクメタルパターンを形成し
、該マスクメタルパターン伸1にエキシマレーザによる
フォトアプレーション加工を施して上記露出孔の部位の
上記絶縁基材に中間孔を形成し、上記マスクメタルパタ
ーンの表面に搭載すべきICの設置域に対応する部位を
除いてフォトレジスト膜を形成し、次いで上記IC設置
域に位置するマスクメタルパターン部分を除去した後、
エキシマレーザによるフォトアプレーション処理を加え
て上記中間孔から上記回路配線パターンに達する穿孔と
上記IC設置域に位置する部位に陥部を形成し、最後に
上記穿孔に導電性部材を設けて上記回路配線パターンと
接続されて突出形成絶されるバンプを形成する工程を備
える手法が採用される。
形成した可撓性絶縁基材に、IC搭載域に対応してIC
搭載用陥部を設けることにより、IC搭載用の可撓性回
路基板の全体としての厚さを変えないで、ハンドリング
性を損なう虞なく、また、バンプを形成するために絶縁
基材に穿設した孔の深さを浅く形成できるのでメツキ処
理時間を短縮できると共に、搭載するICを陥部によっ
て位置決めすることができる作用がある。
撓性回路基板を詳細に説明すると、第1図に於いて、1
1は、ポリイミド、ポリエステル、ガラスエポキシ等の
絶縁シート材からなる絶縁基材で、その−面に銅箔、ア
ルミ箔等の金属箔膜からなる回路配線パターン12が設
けである0回路配線パターン12の所要部位に対応する
絶縁基材11の他面には、IC搭載用の陥部lOが設け
てあり、該陥部lO内の所要位置に絶縁基材11を貫通
する孔15を設け、該孔15に金、銅、錫、鉛、錫合金
等からなる導電性メツキ部材を充填処理して、回路パタ
ーン12と導通接続する導電性部材13と、上記絶縁基
材11の他面から突出してICボンディングの為のバン
プ14とが形成しである。
性回路基板造工程を、第2図の(1)〜(5)に順次に
示しである。同図(1)に於いて、可撓性絶縁基材11
の一面には回路配線パターン12が、他面には所定の穿
孔部位に露出孔17を有するマスクメタルパターン16
が常法のパターンニング処理手段により同時的番ピ構成
される0次いで、同図(2)に於いて、絶縁基材11の
マスクメタルパターン16側にエキシマレーザAによる
フォトアプレーション加工が施され、前記露出孔17部
位に中間孔18が穿設される。ここで、図の(3)にお
いて、前記マスクメタルパターン16の表面に、搭載す
べきICの設置域に対応するIC設置孔20を有するフ
ォトレジスト膜19を被膜処理し、更に、同図(4)に
て、先ず、化学的処理によりIC設置孔2o内のマスク
メタルパターン16を除去し、次にエキシマレーザBに
よるフォトアプレーションにより前記中間孔18の部位
に穿孔15と、その周囲に中間孔18の深さに相当する
IC搭載用陥部10とを穿設する。
レジスト11119を除去した後、穿孔15へのメツキ
充填と付着処理加工により、導電性部材13とバンプ1
4を設けることにより、本発明に係るIC搭載用可撓性
回路基板が完成する。
両面無接着銅張板等からなる両面無接着剤可撓性導電積
層板を素材として構成しであるから、結果として、中央
の絶縁基材11と回路配線パターン12との間に接着剤
層が存在しないが、回路配線パターン12と絶縁基材1
1の間に接着剤層が存在するものを採用しても本発明の
構成及び効果に変わりはなく、この場合も本発明の手法
を同様に適用することが可能である。
によれば、絶縁基材の一面に形成した所定の回路配線パ
ターンの所要部位に上記絶縁基材を貫通して電気的に接
合された導電性部材を設けこの導電性部材が上記絶縁基
材の他面から突出してICボンディングのためのバンプ
を形成するIC搭載用可撓性回路基板に於いて、前記バ
ンプを形成した絶縁基材に、IC搭載域に対応してIC
搭載用陥部な設けた構成を有するから、IC搭載用陥部
を設けることによって、バンプを形成するために絶縁基
材に穿設した孔の深さを浅く形成でき、従ってバンプ形
成のためのメツキ処理時間を短縮できる。
できる効果があると共に、IC搭載用の陥部は1回路基
板の一部に形成するにすぎないから全体の絶縁基材の厚
さと強度には影響はなく。
い。
施例の要部を概念的に示す断面構成図、第2図(1)〜
(5)はその実施例の一製造工程図であり、そして、 第3図は本発明が解決しようとする問題点を含む技術例
を示す断面構成図である。 10:I C搭載用凹溝 l l :絶 縁 基 材12:回路配線
パターン 13 :導 電 性 部 材 14:バ ン ブ 15:穿 孔 16:メタルマスクパターン 17:露 出 孔 18:中 間 孔 19:フォトレジスト膜 第1 図 第3図
Claims (2)
- (1)絶縁基材の一面に形成した所定の回路配線パター
ンの所要部位に上記絶縁基材を貫通して電気的に接合さ
れた導電性部材を設け、この導電性部材が上記絶縁性基
材の他面から突出してICボンディングのためのバンプ
を形成するIC搭載用可撓性回路基板に於いて、前記バ
ンプを形成した絶縁基材に、IC搭載域に対応してIC
搭載用陥部を設けたことを特徴とするIC搭載用可撓性
回路基板。 - (2)可撓性絶縁基材の一方面に所要の回路配線パター
ンを形成すると共に該基材の他方面に対して上記回路配
線パターンとの関連で露出孔を設けマスクメタルパター
ンを形成し、該マスクメタルパターン側にエキシマレー
ザによるフォトアプレーション加工を施して上記露出孔
の部位の上記絶縁基材に中間孔を形成し、上記マスクメ
タルパターンの表面に搭載すべきICの設置域に対応す
る部位を除いてフォトレジスト膜を形成し、次いで上記
IC設置域に位置するマスクメタルパターン部分を除去
した後、エキシマレーザによるフォトアプレーション処
理を加えて上記中間孔から上記回路配線パターンに達す
る穿孔と上記IC設置域に位置する部位に陥部を形成し
、最後に上記穿孔に導電性部材を設けて上記回路配線パ
ターンと接続されて突出形成されるバンプを形成する工
程を備えるIC搭載用可撓性回路基板の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2261133A JPH0734445B2 (ja) | 1990-09-29 | 1990-09-29 | Ic搭載用可撓性回路基板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2261133A JPH0734445B2 (ja) | 1990-09-29 | 1990-09-29 | Ic搭載用可撓性回路基板の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04139735A true JPH04139735A (ja) | 1992-05-13 |
| JPH0734445B2 JPH0734445B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=17357553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2261133A Expired - Fee Related JPH0734445B2 (ja) | 1990-09-29 | 1990-09-29 | Ic搭載用可撓性回路基板の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0734445B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8946891B1 (en) | 2012-09-04 | 2015-02-03 | Amkor Technology, Inc. | Mushroom shaped bump on repassivation |
| CN105097574A (zh) * | 2014-05-12 | 2015-11-25 | 丰田自动车株式会社 | 半导体装置的制造方法以及半导体装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5010476A (ja) * | 1973-05-31 | 1975-02-03 | ||
| JPS5471568A (en) * | 1977-11-18 | 1979-06-08 | Hitachi Ltd | Semiconductor chip package |
| JPS62216297A (ja) * | 1986-03-17 | 1987-09-22 | 富士通株式会社 | 多層プリント板の孔加工法 |
-
1990
- 1990-09-29 JP JP2261133A patent/JPH0734445B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5010476A (ja) * | 1973-05-31 | 1975-02-03 | ||
| JPS5471568A (en) * | 1977-11-18 | 1979-06-08 | Hitachi Ltd | Semiconductor chip package |
| JPS62216297A (ja) * | 1986-03-17 | 1987-09-22 | 富士通株式会社 | 多層プリント板の孔加工法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8946891B1 (en) | 2012-09-04 | 2015-02-03 | Amkor Technology, Inc. | Mushroom shaped bump on repassivation |
| CN105097574A (zh) * | 2014-05-12 | 2015-11-25 | 丰田自动车株式会社 | 半导体装置的制造方法以及半导体装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0734445B2 (ja) | 1995-04-12 |
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