JPH0414318B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0414318B2 JPH0414318B2 JP59044611A JP4461184A JPH0414318B2 JP H0414318 B2 JPH0414318 B2 JP H0414318B2 JP 59044611 A JP59044611 A JP 59044611A JP 4461184 A JP4461184 A JP 4461184A JP H0414318 B2 JPH0414318 B2 JP H0414318B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- concentration
- pcv
- analyzer
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/30—Nuclear fission reactors
Landscapes
- Monitoring And Testing Of Nuclear Reactors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
本発明は、ガス成分濃度を測定して例えば原子
炉系の異常等を監視するガス濃度測定装置に関す
る。
炉系の異常等を監視するガス濃度測定装置に関す
る。
［発明の技術的背景およびその問題点］
原子炉の運転中に冷却材喪失事故が発生した場
合、原子炉格納容器（以下、PCVと指称する）
内にはH2ガスとO2ガスが増加してくる。従つて、
原子炉の安全管理の面からガス濃度の測定は不可
欠なものである。
合、原子炉格納容器（以下、PCVと指称する）
内にはH2ガスとO2ガスが増加してくる。従つて、
原子炉の安全管理の面からガス濃度の測定は不可
欠なものである。
ところで、従来の沸騰水形原子炉（以下、
BWRと指称する）等では、ガス濃度の測定手段
として、隔膜ガルバニ電池式検出器を採用し、か
つ、当該検出器の大半はPCV内に直接設置して
いる。この隔膜ガルバニ電池式検出器は、第１図
に示すように検出基体１の前面側凹部にガスを透
過する樹脂製隔膜２を挟むように押え蓋３が装着
され、この押え蓋３は測定対象ガスＧを前記隔膜
２側へ導入するガス導入口４を有し、また検出基
体１の内部側には検知電極５、電解質液６および
対極７が配置されている。なお、樹脂製隔膜２
は、Ｏリング等のシール部材を介して検出基体１
に装着され、電解質液６がガス導入口４側に漏れ
出ない構造となつている。
BWRと指称する）等では、ガス濃度の測定手段
として、隔膜ガルバニ電池式検出器を採用し、か
つ、当該検出器の大半はPCV内に直接設置して
いる。この隔膜ガルバニ電池式検出器は、第１図
に示すように検出基体１の前面側凹部にガスを透
過する樹脂製隔膜２を挟むように押え蓋３が装着
され、この押え蓋３は測定対象ガスＧを前記隔膜
２側へ導入するガス導入口４を有し、また検出基
体１の内部側には検知電極５、電解質液６および
対極７が配置されている。なお、樹脂製隔膜２
は、Ｏリング等のシール部材を介して検出基体１
に装着され、電解質液６がガス導入口４側に漏れ
出ない構造となつている。
しかして、以上のような検出器を測定対象ガス
雰囲気内に設置すると、その測定対象ガス成分
は、そのガス雰囲気内分圧に比例して隔膜２を透
過した後、内部において酸化或いは還元反応を起
こし、これにより検出器の検知電極５および対極
７間から測定対象成分の濃度に応じた電流を取り
出すことができる。
雰囲気内に設置すると、その測定対象ガス成分
は、そのガス雰囲気内分圧に比例して隔膜２を透
過した後、内部において酸化或いは還元反応を起
こし、これにより検出器の検知電極５および対極
７間から測定対象成分の濃度に応じた電流を取り
出すことができる。
しかし、実際上、冷却材喪失事故が発生した場
合、PCV内の雰囲気としては高温（約170℃）、
高圧（4.5Kg／cm2・ゲージ圧）、高湿（水蒸気過飽
和）の状態となるほか、放射能レベルも高くなる
ことが予想されている。
合、PCV内の雰囲気としては高温（約170℃）、
高圧（4.5Kg／cm2・ゲージ圧）、高湿（水蒸気過飽
和）の状態となるほか、放射能レベルも高くなる
ことが予想されている。
従つて、隔膜ガルバニ電池式検出器はPCV内
のかかる雰囲気によつて直接曝されると、吸湿に
よる寿命の低下、内部の液の放射能分解による指
示誤差の発生および応答速度の遅れなどが発生す
る。
のかかる雰囲気によつて直接曝されると、吸湿に
よる寿命の低下、内部の液の放射能分解による指
示誤差の発生および応答速度の遅れなどが発生す
る。
そこで、以上のような不具合を除去するため
に、従来、PCV内から測定対象ガスを取り出し
て冷却器にて冷却除湿した後、酸素濃度および水
素濃度を測定してPCV内に返送する一方、この
冷却除湿されたドレンをそのままドレン受け、つ
まり排水口に流す方式か、或いはPCVの遮蔽壁
に貫通孔を開けてサンプリングガス収集部とする
とともに、このサンプリングガス収集部に冷却管
を配設することにより、PCV内の測定対象ガス
を該冷却管で冷却除湿した後、PCV外部に取り
出して酸素濃度および水素濃度を測定する方式が
ある（特開昭56−160694号公報）。
に、従来、PCV内から測定対象ガスを取り出し
て冷却器にて冷却除湿した後、酸素濃度および水
素濃度を測定してPCV内に返送する一方、この
冷却除湿されたドレンをそのままドレン受け、つ
まり排水口に流す方式か、或いはPCVの遮蔽壁
に貫通孔を開けてサンプリングガス収集部とする
とともに、このサンプリングガス収集部に冷却管
を配設することにより、PCV内の測定対象ガス
を該冷却管で冷却除湿した後、PCV外部に取り
出して酸素濃度および水素濃度を測定する方式が
ある（特開昭56−160694号公報）。
従つて、以上のような装置によれば、PCV内
の雰囲気を直接受けることがないので、以上のよ
うな不具合を除去することができるものの、特に
前者のものは冷却除湿されたドレンを排水口に流
す方式であるので、放射能の濃度が高いとき排水
口の下流を汚染する問題があり、また後者の場合
には冷却除湿されたドレンを自然流下方式で
PCV内へ戻すようにしているので、PCV内の圧
力によつてドレンの自重だけでなかなか戻りにく
いこと、またサンプリングガス収集部の気密性に
十分な注意を払う必要がある。
の雰囲気を直接受けることがないので、以上のよ
うな不具合を除去することができるものの、特に
前者のものは冷却除湿されたドレンを排水口に流
す方式であるので、放射能の濃度が高いとき排水
口の下流を汚染する問題があり、また後者の場合
には冷却除湿されたドレンを自然流下方式で
PCV内へ戻すようにしているので、PCV内の圧
力によつてドレンの自重だけでなかなか戻りにく
いこと、またサンプリングガス収集部の気密性に
十分な注意を払う必要がある。
［発明の目的］
本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、隔
膜ガルバニ電池方式を用いずにPCV外部で所要
とする測定条件の下に適切にガス成分濃度を測定
でき、冷却除湿されたドレンをPCV内へ確実に
戻すことができ、かつ、気密性の問題を少なくし
うるガス濃度測定装置を提供することにある。
膜ガルバニ電池方式を用いずにPCV外部で所要
とする測定条件の下に適切にガス成分濃度を測定
でき、冷却除湿されたドレンをPCV内へ確実に
戻すことができ、かつ、気密性の問題を少なくし
うるガス濃度測定装置を提供することにある。
［発明の概要］
本発明は、PCV内に存在するガスを例えばサ
ンプルポンプ等で外部に取り出すとともに、その
ガスを冷却器で冷却除湿し、その冷却除湿した後
のガスを分析計の入力条件を満たすように調整
（例えば温度、流量、圧力）し、ここで調整され
たガスを分析計に供給してガス成分濃度を測定で
きるようにし、また濃度測定後のガスをPCVへ
返送する返送ポンプの吐出圧を利用して、前記冷
却除湿されたドレンも同時に前記PCVへ返送す
ることにより、上記目的を達成せんとするガス濃
度測定装置である。
ンプルポンプ等で外部に取り出すとともに、その
ガスを冷却器で冷却除湿し、その冷却除湿した後
のガスを分析計の入力条件を満たすように調整
（例えば温度、流量、圧力）し、ここで調整され
たガスを分析計に供給してガス成分濃度を測定で
きるようにし、また濃度測定後のガスをPCVへ
返送する返送ポンプの吐出圧を利用して、前記冷
却除湿されたドレンも同時に前記PCVへ返送す
ることにより、上記目的を達成せんとするガス濃
度測定装置である。
［発明の実施例］
以下、本発明の一実施例について第２図を参照
して説明する。校正用ガスまたは測定対象ガス
は、それぞれ電磁弁１１，１２を経て１次フイル
タ１３に供給され、ここで粗いごみが取り除かれ
る。１４は１次フイルタ１３を経て入力されたガ
スを冷却水によつて冷却除湿する冷却器である。
１５は測定対象ガスをサンプリングするために吸
引するサンプルポンプであり、このポンプ１５の
両端には電磁弁１６を設けたバイパスライン１７
が接続されている。このサンプルポンプ１５の出
力ラインには、微細なごみを取り除く２次フイル
タ１８、ガスを後述の分析計の測定条件を満たす
ように調整するための調圧弁１９、圧力計２０お
よび分析計として機能するための酸素（O2）計
２１、水素（H2）計２２が順次配置されている。
２３は分析計を通過した測定対象ガスの流量を測
定する流量計、２４は分析計の測定条件を満足す
るようにガス条件を調整する調圧弁、２５は測定
後のガスを再びPCV内に返送する返送ポンプ、
２６はストツプ弁である。２７はドレンポツトで
あつて、これは冷却器１４で除湿されたガス中の
水分を補集し前記返送ポンプ２５の吐出圧を利用
してPCV内へ返送するためのものである。この
ドレンポツト２７の出入口部には電磁弁２８，２
９が設けられている。３０はレベル計、３１は電
磁弁、３２〜３４はストツプ弁である。
して説明する。校正用ガスまたは測定対象ガス
は、それぞれ電磁弁１１，１２を経て１次フイル
タ１３に供給され、ここで粗いごみが取り除かれ
る。１４は１次フイルタ１３を経て入力されたガ
スを冷却水によつて冷却除湿する冷却器である。
１５は測定対象ガスをサンプリングするために吸
引するサンプルポンプであり、このポンプ１５の
両端には電磁弁１６を設けたバイパスライン１７
が接続されている。このサンプルポンプ１５の出
力ラインには、微細なごみを取り除く２次フイル
タ１８、ガスを後述の分析計の測定条件を満たす
ように調整するための調圧弁１９、圧力計２０お
よび分析計として機能するための酸素（O2）計
２１、水素（H2）計２２が順次配置されている。
２３は分析計を通過した測定対象ガスの流量を測
定する流量計、２４は分析計の測定条件を満足す
るようにガス条件を調整する調圧弁、２５は測定
後のガスを再びPCV内に返送する返送ポンプ、
２６はストツプ弁である。２７はドレンポツトで
あつて、これは冷却器１４で除湿されたガス中の
水分を補集し前記返送ポンプ２５の吐出圧を利用
してPCV内へ返送するためのものである。この
ドレンポツト２７の出入口部には電磁弁２８，２
９が設けられている。３０はレベル計、３１は電
磁弁、３２〜３４はストツプ弁である。
次に、以上のように構成されたガス濃度測定装
置の作用を説明する。先ず、測定対象ガスを採集
する場合について述べる。この場合、ストツプ弁
３４を開いた後、サンプルポンプ１５を稼働して
サンプルガスを吸引すると、測定対象ガスはスト
ツプ弁３４および電磁弁１２を通つて１次フイル
タ１３に入り、ここでごみが取り除かれた後、冷
却器１４により冷却除湿され、更に２次フイルタ
１８で微細なごみを取り除いて後続ライン側へ送
り込む。このとき、調圧弁１９によつてライン内
の圧力が調整されているので、２次フイルタ１８
を通過したガスは調圧弁１９で調整された圧力で
酸素計２１および水素計２２へ導入され、ここで
O2ガスとH2ガスの濃度が測定される。なお、測
定対象ガスの元圧が高い場合には、サンプルポン
プ１５およびバイパスライン１７を通して酸素計
２１および水素計２２に導入する。
置の作用を説明する。先ず、測定対象ガスを採集
する場合について述べる。この場合、ストツプ弁
３４を開いた後、サンプルポンプ１５を稼働して
サンプルガスを吸引すると、測定対象ガスはスト
ツプ弁３４および電磁弁１２を通つて１次フイル
タ１３に入り、ここでごみが取り除かれた後、冷
却器１４により冷却除湿され、更に２次フイルタ
１８で微細なごみを取り除いて後続ライン側へ送
り込む。このとき、調圧弁１９によつてライン内
の圧力が調整されているので、２次フイルタ１８
を通過したガスは調圧弁１９で調整された圧力で
酸素計２１および水素計２２へ導入され、ここで
O2ガスとH2ガスの濃度が測定される。なお、測
定対象ガスの元圧が高い場合には、サンプルポン
プ１５およびバイパスライン１７を通して酸素計
２１および水素計２２に導入する。
しかして、測定対象ガスは放射能をもつている
ので、濃度測定後のガスは返送ポンプ２５により
再びPCV内へ返送される。このとき、返送ポン
プ２５の吸引力の影響が酸素計２１および水素計
２２へかかるのを防ぐために、調圧弁２４は分析
計２１，２２を流れるガスを一定条件に保持して
いる。
ので、濃度測定後のガスは返送ポンプ２５により
再びPCV内へ返送される。このとき、返送ポン
プ２５の吸引力の影響が酸素計２１および水素計
２２へかかるのを防ぐために、調圧弁２４は分析
計２１，２２を流れるガスを一定条件に保持して
いる。
一方、冷却器１４により除湿されたガス中の水
分はドレンポツト２７で補集されるが、このドレ
ンもPCV内へ返送される。なお、この返送時の
条件は、ドレン量が一定レベルに達したとき、レ
ベル計３０から信号を出して電磁弁３１，２９を
開くと同時に電磁弁２８を閉じ、返送ポンプ２５
の吐出圧を利用してドレンポツト２７内のドレン
をPCV内へ送り込むようにしている。
分はドレンポツト２７で補集されるが、このドレ
ンもPCV内へ返送される。なお、この返送時の
条件は、ドレン量が一定レベルに達したとき、レ
ベル計３０から信号を出して電磁弁３１，２９を
開くと同時に電磁弁２８を閉じ、返送ポンプ２５
の吐出圧を利用してドレンポツト２７内のドレン
をPCV内へ送り込むようにしている。
従つて、以上のような構成によれば、測定対象
ガスは、元圧が大気圧から５Kg／cm2（ゲージ圧）
の間で変動し、しかも湿分が相対湿度100％とい
う高湿状態となつても、冷却器１４で冷却除湿す
るとともに調圧弁１９で所定圧力に調整したの
で、分析計への供給ガスは大気圧付近の一定圧に
常時保持することができる。従つて、分析計の寿
命を延長し得、ガス濃度の高精度測定を実現でき
る。また、測定後のガスおよび除湿により発生し
たドレン等の総てを一台の返送ポンプ２５でサン
プル源に返送する構成であるので、完全閉ループ
システムとすることができ、放射能の危険からも
回避できる。また、元圧に応じてサンプルポンプ
１５を動作させるか、或いはサンプルポンプ１５
を停止状態にしてバイパスライン１７を経由して
ガスを採集可能であり、システムの状態に合せて
実用に供し得るものである。
ガスは、元圧が大気圧から５Kg／cm2（ゲージ圧）
の間で変動し、しかも湿分が相対湿度100％とい
う高湿状態となつても、冷却器１４で冷却除湿す
るとともに調圧弁１９で所定圧力に調整したの
で、分析計への供給ガスは大気圧付近の一定圧に
常時保持することができる。従つて、分析計の寿
命を延長し得、ガス濃度の高精度測定を実現でき
る。また、測定後のガスおよび除湿により発生し
たドレン等の総てを一台の返送ポンプ２５でサン
プル源に返送する構成であるので、完全閉ループ
システムとすることができ、放射能の危険からも
回避できる。また、元圧に応じてサンプルポンプ
１５を動作させるか、或いはサンプルポンプ１５
を停止状態にしてバイパスライン１７を経由して
ガスを採集可能であり、システムの状態に合せて
実用に供し得るものである。
次に、酸素計２１および水素計２２の校正を行
う場合は、電磁弁１２を閉じた後、電磁弁１１を
開き、このラインから校正用ガスを導入して酸素
計２１および水素計２２に与え、これらの計器２
１，２２の校正を行う。これらの操作は総て別体
的に設けた遠隔地の制御盤で自動的に行う。
う場合は、電磁弁１２を閉じた後、電磁弁１１を
開き、このラインから校正用ガスを導入して酸素
計２１および水素計２２に与え、これらの計器２
１，２２の校正を行う。これらの操作は総て別体
的に設けた遠隔地の制御盤で自動的に行う。
なお、応答速度が速く、耐震性および耐圧性に
有利なものとして、酸素計２１は例えば磁器風式
のものを、水素計２２は例えば熱伝導度式のもの
を使用する。また、上記実施例では酸素計２１と
水素計２２とについて述べたが、それ以外の分析
計でもよく、或いは一種類の分析計であつてもよ
い。
有利なものとして、酸素計２１は例えば磁器風式
のものを、水素計２２は例えば熱伝導度式のもの
を使用する。また、上記実施例では酸素計２１と
水素計２２とについて述べたが、それ以外の分析
計でもよく、或いは一種類の分析計であつてもよ
い。
なお、本発明の一実施例において冷却器は一台
のみ記載したが、冷却能力により複数台を備え、
これらを直列または並列接続して冷却能力の向上
を図つてもよい。また、上記実施例では、２次フ
イルタ１８、調圧弁１９および圧力計２０の順序
で配管接続したが、これに限らず配列順序を変え
て実施してもよい。さらに、流量計、調圧弁を用
いて被測定ガスを所定の圧力、流量に調整してい
るが、これに限定せず、流量コントローラを用い
るように構成してもよい。また、校正用ガスの導
入場所は、一実施例に限定せず、ポンプ１５の後
或いは分析計２１の直前でもよい。
のみ記載したが、冷却能力により複数台を備え、
これらを直列または並列接続して冷却能力の向上
を図つてもよい。また、上記実施例では、２次フ
イルタ１８、調圧弁１９および圧力計２０の順序
で配管接続したが、これに限らず配列順序を変え
て実施してもよい。さらに、流量計、調圧弁を用
いて被測定ガスを所定の圧力、流量に調整してい
るが、これに限定せず、流量コントローラを用い
るように構成してもよい。また、校正用ガスの導
入場所は、一実施例に限定せず、ポンプ１５の後
或いは分析計２１の直前でもよい。
以上説明したように本発明によれば、異常状態
発生時のPCV内の雰囲気が高温、高圧および高
湿の状態であつても、これらの雰囲気の影響を与
えることなくPCV内のガスを分析計に供給する
ことができる。従つて、分析計の寿命を延長する
ことができ、また高レベル放射能の雰囲気に直接
曝されるようなことがなく、しかも分析計の内部
液の放射能分解による指示誤差という不具合も解
決できる。また、PCVの外部でPCV内のガス濃
度を測定できるため、定期点検以外であつてもア
クセス可能であり、さらにサンプルガスはPCV
内に再び返送するため放射能の影響を受けずにガ
ス濃度を測定できる。また、測定ガスを返送する
返送ポンプの吐出圧を利用して、冷却除湿後のド
レンをPCVへ返送するので、PCVに確実にドレ
ンを戻すことができ、しかも従来のようにPCV
の壁に貫通孔を設けて特別な除湿機能を組込む必
要がなく、気密性に特別な注意を払う必要がな
い。
発生時のPCV内の雰囲気が高温、高圧および高
湿の状態であつても、これらの雰囲気の影響を与
えることなくPCV内のガスを分析計に供給する
ことができる。従つて、分析計の寿命を延長する
ことができ、また高レベル放射能の雰囲気に直接
曝されるようなことがなく、しかも分析計の内部
液の放射能分解による指示誤差という不具合も解
決できる。また、PCVの外部でPCV内のガス濃
度を測定できるため、定期点検以外であつてもア
クセス可能であり、さらにサンプルガスはPCV
内に再び返送するため放射能の影響を受けずにガ
ス濃度を測定できる。また、測定ガスを返送する
返送ポンプの吐出圧を利用して、冷却除湿後のド
レンをPCVへ返送するので、PCVに確実にドレ
ンを戻すことができ、しかも従来のようにPCV
の壁に貫通孔を設けて特別な除湿機能を組込む必
要がなく、気密性に特別な注意を払う必要がな
い。
第１図は従来一般的に使用されているガス検出
器の断面図、第２図は本発明に係るガス濃度測定
装置の一実施例を示す全体構成図である。 １１，１２……電磁弁、１３……１次フイル
タ、１４……冷却器、１５……サンプルポンプ、
１７……バイパスライン、１８……２次フイル
タ、１９……調圧弁、２１……酸素計、２２……
水素計、２３……流量計、２４……調圧弁、２５
……返送ポンプ、２７……ドレンポツト。
器の断面図、第２図は本発明に係るガス濃度測定
装置の一実施例を示す全体構成図である。 １１，１２……電磁弁、１３……１次フイル
タ、１４……冷却器、１５……サンプルポンプ、
１７……バイパスライン、１８……２次フイル
タ、１９……調圧弁、２１……酸素計、２２……
水素計、２３……流量計、２４……調圧弁、２５
……返送ポンプ、２７……ドレンポツト。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 原子炉格納容器内に存在する成分ガスの濃度
を測定するガス濃度測定装置において、前記原子
炉格納容器内から外部へ導き出されたガスを除湿
する除湿手段と、この除湿手段によつて除湿され
たガスを所要の測定条件を満たすように調整する
調整手段と、この調整手段によつて調整されたガ
スの成分濃度を測定する分析計と、この分析計に
よる濃度測定後のガスを所定の吐出圧で前記原子
炉格納容器内へ返送する返送ポンプと、前記除湿
手段によつて得られた除湿ドレンを前記返送ポン
プの所定の吐出圧を利用して前記原子炉格納容器
内へ返還する除湿ドレン返還手段とを備えたこと
を特徴とするガス濃度測定装置。 ２ 調整手段は、分析計の前後に設けたことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載のガス濃度測
定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59044611A JPS60187893A (ja) | 1984-03-08 | 1984-03-08 | ガス濃度測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59044611A JPS60187893A (ja) | 1984-03-08 | 1984-03-08 | ガス濃度測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60187893A JPS60187893A (ja) | 1985-09-25 |
| JPH0414318B2 true JPH0414318B2 (ja) | 1992-03-12 |
Family
ID=12696233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59044611A Granted JPS60187893A (ja) | 1984-03-08 | 1984-03-08 | ガス濃度測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60187893A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000002784A (ja) * | 1998-04-16 | 2000-01-07 | Toshiba Corp | 格納容器内雰囲気モニタ |
| JP2017049060A (ja) * | 2015-08-31 | 2017-03-09 | 株式会社東芝 | 雰囲気監視システムおよび雰囲気監視方法 |
| JP6664276B2 (ja) * | 2016-05-20 | 2020-03-13 | 日立Ｇｅニュークリア・エナジー株式会社 | 可燃性ガス濃度測定装置および可燃性ガス濃度測定方法 |
| JP6825992B2 (ja) * | 2017-05-31 | 2021-02-03 | 株式会社東芝 | 原子炉格納容器内酸素測定方法 |
| JP7242493B2 (ja) * | 2019-09-26 | 2023-03-20 | 株式会社東芝 | 原子炉の計測システム |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56160694A (en) * | 1980-05-15 | 1981-12-10 | Tokyo Shibaura Electric Co | Device for circulating sampling gas in nuclear reactor container |
| JPS60157085A (ja) * | 1984-01-27 | 1985-08-17 | 株式会社東芝 | 原子炉格納容器内ガス監視装置 |
-
1984
- 1984-03-08 JP JP59044611A patent/JPS60187893A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60187893A (ja) | 1985-09-25 |
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