JPH041437B2 - - Google Patents

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JPH041437B2
JPH041437B2 JP57213001A JP21300182A JPH041437B2 JP H041437 B2 JPH041437 B2 JP H041437B2 JP 57213001 A JP57213001 A JP 57213001A JP 21300182 A JP21300182 A JP 21300182A JP H041437 B2 JPH041437 B2 JP H041437B2
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semiconductor memory
transistor
voltage signal
memory
read
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Kanichi Harima
Kenji Koda
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards

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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、不揮発性半導体メモリ装置に係
り、電界効果形トランジスタ、特に情報に応じ
て、閾値電圧を変化させ、長時間情報を保持しう
る、いわゆる不揮発性メモリトランジスタを使用
したメモリ装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and relates to a field effect transistor, particularly a field effect transistor that can change a threshold voltage depending on information and retain information for a long time. The present invention relates to a memory device using a so-called nonvolatile memory transistor.

〔従来技術〕[Prior art]

電界効果形トランジスタを使用した不揮発性メ
モリとしては、ドレイン近傍でアバランシエ現象
を生ぜしめ、発生したホツトエレクトロンをコン
トロールゲート、基板間の絶縁膜中に形成された
浮遊ゲートに注入して閾値電圧を変化せしめるこ
とにより情報の書き込みを行なうFAMOS
(Floating gate Avalanche injection MOS)
や、ゲート酸化膜を極薄にして、トンネル現象を
利用してゲート酸化膜とその上に形成された窒化
硅素膜間のトラツプに電荷を注入させるMNOS
(Metal Nitride Oxide Semiconductor)構造を
したものなどがある。いずれの場合も情報の1ト
ランジスタへの書き込み、すなわち、電荷を注入
したメモリの閾値電圧を変化させるには、ミリ秒
オーダーの時間を要する。
Non-volatile memory using field-effect transistors generates an avalanche phenomenon near the drain and injects the generated hot electrons into a control gate and a floating gate formed in an insulating film between substrates to change the threshold voltage. FAMOS writes information by pressing
(Floating gate Avalanche injection MOS)
MNOS uses a tunneling phenomenon to inject charge into the trap between the gate oxide film and the silicon nitride film formed on top of it by making the gate oxide film extremely thin.
(Metal Nitride Oxide Semiconductor) structure. In either case, it takes time on the order of milliseconds to write information into one transistor, that is, to change the threshold voltage of the memory into which charge is injected.

第1図はFAMOSの模式構造を示す断面図で、
図において、1はp形基板、2,3はそれぞれ
n+形のソース、ドレイン、4は絶縁層、5は絶
縁層4に埋込まれたフローテイングゲート、6は
その上方に絶縁して設けられたコントロールゲー
トである。
Figure 1 is a cross-sectional view showing the schematic structure of FAMOS.
In the figure, 1 is a p-type substrate, 2 and 3 are respectively
An n + type source and drain, 4 an insulating layer, 5 a floating gate embedded in the insulating layer 4, and 6 a control gate insulated above.

第2図はFAMOSトランジスタの書き込み特性
の一例を示す図で、第2図において、縦軸はメモ
リトランジスタの閾値を、横軸は書き込みのため
の印加パルスの累積幅を示す。この例では書き込
み前のメモリの閾値は1.5Vであるが、例えば、
第1図のソース2を接地してドレイン3に15V、
コントロールゲート6に25Vを印加した場合、書
き込みパルスの累積とともに閾値電圧が上昇す
る。上昇の度合は初期に大きく、時間とともに飽
和傾向にある。この閾値の上昇は第1図のフロー
テイングゲート5に蓄積される電荷量に対応す
る。
FIG. 2 is a diagram showing an example of the write characteristics of a FAMOS transistor. In FIG. 2, the vertical axis represents the threshold value of the memory transistor, and the horizontal axis represents the cumulative width of applied pulses for writing. In this example, the memory threshold before writing is 1.5V, but for example,
Ground the source 2 in Figure 1 and apply 15V to the drain 3.
When 25V is applied to the control gate 6, the threshold voltage increases as write pulses accumulate. The degree of increase is large at the beginning and tends to saturate over time. This increase in the threshold value corresponds to the amount of charge accumulated in the floating gate 5 in FIG.

FAMOS形のメモリの記憶保持はフローテイン
グゲート5に注入された電子をそこに留めること
により成されるため十分な記憶保持時間を得るに
はフローテイングゲート5に十分な量の電荷を注
入し、十分に閾値を上昇させておく必要がある。
第3図に記憶保持特性の一例を示す。一般に温度
によつて記憶保持の減衰を加速することができ、
高温ほど速く、電子が放出、すなわち閾値が速く
下がつてゆく。
Memory retention in FAMOS type memory is achieved by keeping electrons injected into the floating gate 5 there, so in order to obtain a sufficient memory retention time, a sufficient amount of charge is injected into the floating gate 5. It is necessary to raise the threshold sufficiently.
FIG. 3 shows an example of memory retention characteristics. In general, temperature can accelerate the decay of memory retention;
The higher the temperature, the faster electrons are emitted, which means the threshold value decreases faster.

第2図の場合、読み出し時にコントロールゲー
ト6に印加される電圧を5Vに設定すれば、8m
sまでの書き込みパルス印加後までは、書き込み
パルスの印加に従つて閾値は徐々に増大するもの
のメモリトランジスタはON状態にあり、8ms
以上の書き込みパルス印加されたメモリトランジ
スタはOFF状態にある。従つて、従来にあつて
は、実用上の最悪条件に近い70℃の温度で10年以
上の保持が可能になるように、安全を見込んで8
msを十分に越えた必要以上の時間書き込みパル
スを印加していた。
In the case of Figure 2, if the voltage applied to the control gate 6 during readout is set to 5V, the 8m
Although the threshold value gradually increases as the write pulse is applied, the memory transistor remains in the ON state until after the write pulse is applied for 8ms.
The memory transistor to which the above write pulses have been applied is in an OFF state. Therefore, in the past, in order to maintain the temperature for more than 10 years at a temperature of 70°C, which is close to the worst practical condition, 80°C was used to ensure safety.
The write pulse was applied for a longer time than necessary, well over ms.

一方、書き込みパルスによつて書き込まれたメ
モリトランジスタにおける閾値は、時間とともに
低下し、メモリトランジスタから読み出される電
圧(出力信号)も時間とともに低下することにな
るため、メモリトランジスタに記憶された情報
が、2値情報のいずれかであるかを判定するため
に、メモリトランジスタから読み出される電圧と
基準電圧信号と比較する。メモリトランジスタか
ら読み出される電圧が基準電圧信号以上である
と、つまり、メモリトランジスタの閾値が所定値
以上であると、メモリトランジスタに記憶された
情報が2値情報の“0”と判定し、メモリトラン
ジスタから読み出される電圧が基準電圧信号以下
であると、つまり、メモリトランジスタの閾値が
所定値以下であると、メモリトランジスタに記憶
された情報が2値情報の“1”と判定している。
On the other hand, the threshold value of the memory transistor written by the write pulse decreases with time, and the voltage (output signal) read from the memory transistor also decreases with time, so that the information stored in the memory transistor In order to determine whether the information is binary information, the voltage read from the memory transistor is compared with a reference voltage signal. When the voltage read from the memory transistor is equal to or higher than the reference voltage signal, that is, when the threshold value of the memory transistor is equal to or higher than a predetermined value, the information stored in the memory transistor is determined to be binary information "0", and the memory transistor When the voltage read from the memory transistor is less than or equal to the reference voltage signal, that is, the threshold value of the memory transistor is less than or equal to a predetermined value, the information stored in the memory transistor is determined to be binary information "1".

そして、電源電圧を5Vのものを用いた場合に
は、基準電圧信号として5Vの中央値2.5Vを用い
るようにしている。
When a power supply voltage of 5V is used, the median value of 5V, 2.5V, is used as the reference voltage signal.

従つて、メモリトランジスタの閾値は、メモリ
トランジスタから読み出される出力電圧が2.5V
以上になるように設定しておけば、メモリトラン
ジスタの記憶している“0”情報を間違いなく読
み出されることになるものである。
Therefore, the threshold of the memory transistor is when the output voltage read from the memory transistor is 2.5V.
If the above settings are made, the "0" information stored in the memory transistor will be read out without fail.

そして、メモリトランジスタから読み出される
出力電圧が2.5Vの時のメモリトランジスタの閾
値は3.5Vであるので、第2図図示からメモリト
ランジスタの閾値が3.5Vになる時間、5msの
書き込みパルスを印加すれば良いが、5msの印
加パルスでは、マージンがないため、少しでも閾
値が低下すると、メモリトランジスタからの読み
出し電圧が2.5V以下になつてしまい、メモリト
ランジスタに書き込まれた情報を誤つてしまうも
のである。
Then, when the output voltage read from the memory transistor is 2.5V, the threshold of the memory transistor is 3.5V. Therefore, as shown in Figure 2, if a 5ms write pulse is applied for the time when the threshold of the memory transistor becomes 3.5V, This is fine, but with a 5ms applied pulse, there is no margin, so if the threshold value drops even a little, the read voltage from the memory transistor will drop below 2.5V, causing the information written to the memory transistor to be erroneous. .

ところで、発明者等は、メモリトランジスタに
おける書き込んだ場合の情報の保持時間とメモリ
トランジスタの閾値電圧との関係を調査したとこ
ろ、第3図に示すような結果が得られた。
By the way, the inventors investigated the relationship between the retention time of information in the case of writing in a memory transistor and the threshold voltage of the memory transistor, and obtained the results shown in FIG. 3.

この第3図から明らかなように、実用上の最悪
条件に近い70℃の温度で10年以上の保持が可能に
なるようにするには、メモリトランジスタの閾値
を3.5Vに対して1Vマージンを持つた4.5Vにすれ
ば良い。
As is clear from Figure 3, in order to be able to maintain the memory transistor for more than 10 years at a temperature of 70°C, which is close to the worst practical condition, the threshold value of the memory transistor must be set at 3.5V with a margin of 1V. Just set it to 4.5V.

しかるに、基準電圧信号を2.5Vにした場合、
メモリトランジスタの閾値が3.5V以上であれば、
常に、“0”の情報として判定するため、メモリ
トランジスタの閾値が3.5Vなのか4.5Vまで上昇
しているのかわからず、相変わらず不安が解消さ
れない。
However, when the reference voltage signal is set to 2.5V,
If the threshold of the memory transistor is 3.5V or higher,
Since it is always judged as "0" information, it is unclear whether the threshold value of the memory transistor is 3.5V or has risen to 4.5V, and the anxiety remains unresolved.

次に、従来の不揮発性半導体メモリ装置につい
て図を用いて説明する。
Next, a conventional nonvolatile semiconductor memory device will be explained using the drawings.

第4図は従来のメモリ装置の構成例を示すブロ
ツク図で、7は行アドレス信号入力端子、8は列
アドレス信号入力端子、9は行アドレス入力バツ
フア、10は行アドレスデコーダ、11はメモリ
アレイ、12は列アドレス入力バツフア、13は
列アドレスデコーダ、14は列出力選択トランジ
スタ群、15は書込み/読出し切換え用トランジ
スタ、16は読み出し用増幅回路(センスアン
プ)、17は基準信号発生回路、18は出力バツ
フア、19は入出力端子、20は書き込み時のデ
ータ入力バツフアである。
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration example of a conventional memory device, in which 7 is a row address signal input terminal, 8 is a column address signal input terminal, 9 is a row address input buffer, 10 is a row address decoder, and 11 is a memory array. , 12 is a column address input buffer, 13 is a column address decoder, 14 is a group of column output selection transistors, 15 is a writing/reading switching transistor, 16 is a readout amplifier circuit (sense amplifier), 17 is a reference signal generation circuit, 18 is an output buffer, 19 is an input/output terminal, and 20 is a data input buffer during writing.

この従来装置は周知であるので、簡単に読み出
し動作を説明する。アドレス入力で指定されたメ
モリアレイ11中のメモリトランジスタの記憶情
報は行アドレスデコーダ10を介して選択された
メモリトランジスタのゲートに電圧が印加され、
この結果、選択されたメモリトランジスタのドレ
イン電圧が列アドレスデコーダ13で選択された
列出力選択トランジスタ14と書き込み/読み出
し切換えトランジスタ15とを介してセンスアン
プ16に入力され、基準信号発生回路17から供
給される基準レベルと比較される。センスアンプ
16の出力は出力バツフア18で増幅されて、デ
ータ出力として入出力端子19へ出力される。
Since this conventional device is well known, the read operation will be briefly explained. The storage information of the memory transistor in the memory array 11 specified by the address input is applied to the gate of the selected memory transistor via the row address decoder 10, and a voltage is applied to the gate of the selected memory transistor.
As a result, the drain voltage of the selected memory transistor is input to the sense amplifier 16 via the column output selection transistor 14 selected by the column address decoder 13 and the write/read switching transistor 15, and is supplied from the reference signal generation circuit 17. compared to the standard level. The output of the sense amplifier 16 is amplified by an output buffer 18 and output to an input/output terminal 19 as a data output.

第5図はメモリアレイ、列出力選択トランジス
タ群及び基準信号発生回路の回路構成をセンスア
ンプとの関連で示す回路図で、第4図と同等部分
は同一符号で示す。21は行アドレスデコーダ出
力、22は列アドレスデコーダ出力、23はセン
スアンプ16から出力バツフアへの出力端子、2
4は書込み/読出し切換え用トランジスタ15の
負荷抵抗である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing the circuit configuration of a memory array, a group of column output selection transistors, and a reference signal generation circuit in relation to a sense amplifier, and portions equivalent to those in FIG. 4 are designated by the same reference numerals. 21 is a row address decoder output, 22 is a column address decoder output, 23 is an output terminal from the sense amplifier 16 to the output buffer, 2
4 is a load resistance of the write/read switching transistor 15.

行アドレスデコーダ出力21はメモリトランジ
スタ〔例えば111〕のゲートに入力され、列ア
ドレスデコーダ出力22は列出力選択トランジス
タ〔例えば141〕のゲートに入力される。選択
されたメモリトランジスタ111のドレイン電圧
は列出力選択トランジスタ141および書込み/
読出し切換え用トランジスタ15を通して差動増
幅形センスアンプ16の一方の入力○イに入力され
る。差動増幅形センスアンプ16の他方の入力○ロ
には、基準信号発生回路17にあるダミーメモリ
トランジスタ171のドレイン電圧がトランジス
タ141に対応するトランジスタ172およびト
ランジスタ15に対応するトランジスタ173を
介して供給される。174は負荷抵抗24に対応
する負荷抵抗である。メモリトランジスタ111
と171、トランジスタ141と172、トラン
ジスタ15と173、および抵抗24と174と
はセンスアンプ16のバランスをよくするため
に、同一特性に設計され、当然トランジスタ14
1と172およびトランジスタ15と173との
ゲート信号値も等しく設定される。
Row address decoder output 21 is input to the gate of a memory transistor (eg 111), and column address decoder output 22 is input to the gate of a column output selection transistor (eg 141). The drain voltage of the selected memory transistor 111 is applied to the column output selection transistor 141 and the write/
The signal is inputted to one input of the differential amplification type sense amplifier 16 through the readout switching transistor 15. The drain voltage of a dummy memory transistor 171 in the reference signal generation circuit 17 is supplied to the other input ○ and B of the differential amplification type sense amplifier 16 via a transistor 172 corresponding to the transistor 141 and a transistor 173 corresponding to the transistor 15. be done. 174 is a load resistor corresponding to the load resistor 24. Memory transistor 111
and 171, transistors 141 and 172, transistors 15 and 173, and resistors 24 and 174 are designed to have the same characteristics in order to improve the balance of the sense amplifier 16.
The gate signal values of transistors 1 and 172 and transistors 15 and 173 are also set equal.

いま、メモリトランジスタ111が書き込まれ
ている(即ち、その閾値が3.5V以上になつてい
る。)ときに○イ点の電位はほぼ2.5Vに、メモリト
ランジスタ111が書き込まれていない(即ち、
その閾値が1.5V近傍の)ときは○イ点の電位は約
1.5Vになるように設定される。そして、○ロ点へ
の基準電位はメモリトランジスタ111からの読
み出される出力電圧である1.5Vと2.5Vを越えた
値との中間値に近い値(例えば、2.5V)になる
ようにダミーメモリトランジスタ171、トラン
ジスタ172,173の特性を微調整する。○イ点
への読み出し電圧は、書き込みパルス幅に応じた
メモリトランジスタの閾値とともに第6図に示す
ように変化する。この例では、○ロ点の基準入力電
圧が2.5Vであるから5ms以上の書き込みパル
ス印加によつて、センスアンプ16の出力は反転
する。これ以上のパルス印加に対してはセンスア
ンプ16の出力は変化しない。従つて、そのメモ
リトランジスタが、どの程度のマージンをもつて
書き込まれたものかは、外からは判らず、結局、
従来はあらゆる最悪条件を想定して50msといつ
た十分なマージンをもつたパルス幅を印加するよ
うに規格を設定する必要が生じ、書き込みに要す
る時間が非常に長くなつていた。
Now, when the memory transistor 111 is written (that is, its threshold value is 3.5V or higher), the potential at point ○A is approximately 2.5V, and the memory transistor 111 is not written (that is, its threshold is 3.5V or higher).
When the threshold is around 1.5V), the potential at point A is approximately
It is set to 1.5V. Then, the dummy memory transistor is set so that the reference potential to point ○ is a value (for example, 2.5V) close to the intermediate value between 1.5V, which is the output voltage read from the memory transistor 111, and a value exceeding 2.5V. 171, finely adjust the characteristics of transistors 172 and 173; The read voltage to point A changes as shown in FIG. 6 along with the threshold value of the memory transistor according to the write pulse width. In this example, since the reference input voltage at the point ○ is 2.5V, the output of the sense amplifier 16 is inverted by applying a write pulse for 5 ms or more. The output of the sense amplifier 16 does not change when more pulses are applied. Therefore, it is impossible to tell from the outside how much margin was written into the memory transistor, and in the end,
In the past, it was necessary to set standards to apply a pulse width with a sufficient margin of 50 ms, assuming all the worst conditions, and the time required for writing became extremely long.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

この発明は以上のような点に鑑みてなされたも
ので、書き込み時のライトベリフアイモードの読
み出し時の差動形センスアンプの基準入力電位を
通常の読み出し時のその基準入力電位より所定値
だけ高くすることによつて、上記ライトベリフア
イモードの読み出しで出力が反転すれば十分な書
き込みが完了したとすることができ、短時間で確
実な書き込みができる不揮発性半導体メモリ装置
を提供するものである。
The present invention has been made in view of the above points, and the reference input potential of the differential sense amplifier during read in write verification mode during write is set by a predetermined value from the reference input potential during normal read. By increasing the value, it can be assumed that sufficient writing has been completed when the output is inverted during reading in the write verify mode, thereby providing a nonvolatile semiconductor memory device that can perform reliable writing in a short time. be.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第3図で説明したように、10年の記憶保持特性
をもたせるには、メモリトランジスタの閾値電圧
が、読み出し時の“0”情報か“1”情報かを判
定できる最低の閾値(この説明では3.5Vであ
る。)に対して1Vのマージンをもてばよい。すな
わち、第2図のような特性をもつたメモリトラン
ジスタでは、7msの幅のパルスを印加すればメ
モリトランジスタの閾値は4.5Vとなり、十分で
ある。7msの幅のパルスの印加に対しては第5
図の○イ点の信号電位は第6図からみると3.8Vに
なつている。従つて、書き込み時のライトベリフ
アイモードの読み出し時の第5図の○ロ点基準信号
電位を3.8Vにしておれば、書き込みパルス幅が
7msになるまで、このセンスアンプの出力は反
転せず、反転した時点で、書き込みを中止したと
しても、メモリトランジスタの閾値は4.5Vを若
干越えた値になつている。書き込み時の読み出
し、すなわちライトベリフアイ時以外の通常の読
み出し時の基準信号電位は元とおりの2.5Vに設
定しておけば、この差すなわち、メモリトランジ
スタの閾値電圧の差は1Vとなり、70℃の温度で
10年間の記憶保持も十分に可能となるわけであ
る。
As explained in Figure 3, in order to have a memory retention characteristic of 10 years, the threshold voltage of the memory transistor must be the lowest threshold that can determine whether it is "0" information or "1" information at the time of reading (in this explanation 3.5V), it is sufficient to have a margin of 1V. That is, in a memory transistor having characteristics as shown in FIG. 2, if a pulse with a width of 7 ms is applied, the threshold value of the memory transistor becomes 4.5 V, which is sufficient. For the application of pulses with a width of 7 ms, the fifth
The signal potential at point ○ in the figure is 3.8V when viewed from Figure 6. Therefore, if the reference signal potential at point ○ in Figure 5 is set to 3.8V when reading in the write verify mode during writing, the output of this sense amplifier will not be inverted until the writing pulse width becomes 7ms. , at the time of inversion, even if writing is stopped, the threshold value of the memory transistor is a value slightly exceeding 4.5V. If the reference signal potential during reading during writing, that is, during normal reading other than during write verification, is set to the original 2.5V, this difference, that is, the difference in the threshold voltage of the memory transistor, will be 1V, and the temperature will rise to 70°C. at a temperature of
This means that it is possible to retain memory for 10 years.

第7図はこの発明の一実施例に用いる基準信号
発生回路の回路図で、従来例と同等部分は同一符
号で示す。25はプログラム電源端子、26はプ
ログラム電圧検出回路、27はダミーメモリトラ
ンジスタ171のゲートと接地点との間に接続さ
れたトランジスタである。プログラム電圧検出回
路26は全体で10V近傍に閾値があるように各構
成トランジスタが選ばれている。すなわち、プロ
グラム電源端子25に10V以上の電圧が印加され
れば出力点○ハには2V程度の電圧が発生してトラ
ンジスタ27は若干ONとなり、10V以下の入力
電圧では、出力点○ハの電位は0Vとなつてトラン
ジスタ27はOFFとなる。トランジスタ27が
OFFのときには従来の第5図の回路と同一にな
る。
FIG. 7 is a circuit diagram of a reference signal generation circuit used in an embodiment of the present invention, and parts equivalent to those in the conventional example are designated by the same reference numerals. 25 is a program power supply terminal, 26 is a program voltage detection circuit, and 27 is a transistor connected between the gate of the dummy memory transistor 171 and the ground point. In the program voltage detection circuit 26, each constituent transistor is selected so that the overall threshold value is around 10V. That is, if a voltage of 10V or more is applied to the program power supply terminal 25, a voltage of about 2V is generated at the output point ○C, and the transistor 27 is slightly turned on.If the input voltage is 10V or less, the potential of the output point ○C is becomes 0V and the transistor 27 is turned off. The transistor 27
When it is OFF, it becomes the same as the conventional circuit shown in FIG.

通常ライトベリフアイモードではプログラム電
源端子25には高電圧が印加された状態で、通常
の読み出し時にはプログラム電源端子25の電圧
は5V程度であるから、これによつて、トランジ
スタ27の導通状態が変化する。すなわち、通常
の読み出し動作時にはトランジスタ27はOFF
であるから第5図の従来例で説明したように、こ
の基準信号発生回路は出力点○ロには2.5Vの電圧
が得られ、書き込み時のライトベリフアイモード
の読み出しの場合にはトランジスタ27は若干
ONとなり、出力点○ロには3.8Vの電圧が得られる
ようにすることができる。このように、プログラ
ム電圧を検出することによつて、書き込み時のラ
イトベリフアイモードの読み出しの場合と通常の
読み出し時とで、センスアンプの基準信号電位を
変化させるので、これを用いて十分に記憶保持を
保証し得る書き込みが効率よく行なうことができ
る。
Normally, in the write verify mode, a high voltage is applied to the program power supply terminal 25, and during normal reading, the voltage of the program power supply terminal 25 is about 5V, so this changes the conduction state of the transistor 27. do. In other words, the transistor 27 is OFF during normal read operation.
Therefore, as explained in the conventional example of FIG. 5, this reference signal generating circuit obtains a voltage of 2.5V at the output point ○○, and in the case of reading in the write verify mode during writing, the voltage of 2.5V is obtained from the transistor 27. is slightly
It becomes ON, and a voltage of 3.8V can be obtained at output point ○○. In this way, by detecting the program voltage, the reference signal potential of the sense amplifier is changed between the write verify mode read during write and the normal read. Writing that can guarantee memory retention can be performed efficiently.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したこの発明の構成を利用することに
よつて、書き込みのパルス幅を1ms程度の小さ
な値に設定し、そのパルス印加毎にライトベリフ
アイモードによつて出力の反転をチエツクして、
出力の反転があるまで同一のアドレスへの書き込
みを繰返し、出力の反転があれば次のアドレスに
進むようにすれば、全く無駄な時間がなく、しか
も確実な書き込みが可能となり、書き込み時間が
問題となる大容量メモリ装置に特に有効である。
By utilizing the configuration of the present invention described above, the write pulse width is set to a small value of about 1 ms, and each time the pulse is applied, the write verification mode is used to check for output reversal.
By repeating writing to the same address until the output is reversed, and proceeding to the next address when the output is reversed, there is no wasted time at all, and reliable writing is possible, eliminating the problem of write time. This is particularly effective for large-capacity memory devices.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はFAMOSトランジスタの模式構造を示
す断面図、第2図はFAMOSトランジスタの書き
込み特性の一例を示す図、第3図はその記憶保持
特性の一例を示す図、第4図は従来のメモリ装置
の構成例を示すブロツク図、第5図は従来のメモ
リ装置のメモリアレイ、列出力選択トランジスタ
群、及び基準信号発生回路の回路構成をセンスア
ンプとの関連で示す回路図、第6図はFAMOSト
ランジスタの書き込みパルス幅と読み出し電圧と
の関係を示す特性図、第7図はこの発明の一実施
例に用いる基準信号発生回路の回路図である。 図において、11はメモリアレイ、111はメ
モリトランジスタ(メモリ素子)、16はセンス
アンプ(読み出し用増幅器)、17は基準信号発
生回路、25はプログラム電源端子、26はプロ
グラム電圧検出回路である。なお、図中同一符号
は同一または相当部分を示す。
Figure 1 is a cross-sectional view showing the schematic structure of a FAMOS transistor, Figure 2 is a diagram showing an example of the write characteristics of the FAMOS transistor, Figure 3 is a diagram showing an example of its memory retention characteristics, and Figure 4 is a diagram of a conventional memory. FIG. 5 is a block diagram showing an example of the configuration of the device. FIG. 5 is a circuit diagram showing the circuit configuration of the memory array, column output selection transistor group, and reference signal generation circuit of a conventional memory device in relation to a sense amplifier. FIG. 7 is a characteristic diagram showing the relationship between write pulse width and read voltage of a FAMOS transistor, and is a circuit diagram of a reference signal generation circuit used in an embodiment of the present invention. In the figure, 11 is a memory array, 111 is a memory transistor (memory element), 16 is a sense amplifier (reading amplifier), 17 is a reference signal generation circuit, 25 is a program power supply terminal, and 26 is a program voltage detection circuit. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or corresponding parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 それぞれが2値情報のいずれか一方の記憶を
行う複数の不揮発性半導体メモリ素子と、上記半
導体メモリ素子に記憶される2値情報の一方に対
応する十分に書き込まれた時に読み出される高電
圧出力信号と上記半導体メモリ素子に記憶される
2値情報の他方に対応する書き込まれていない時
に読み出される低電圧出力信号との間の、中間基
準電圧信号を発生する中間電圧信号発生手段と、
上記半導体メモリ素子から読み出される出力信号
と基準電圧信号とを比較し、半導体メモリ素子か
ら読み出された情報が上記2値情報のいずれかを
識別する比較読み出し手段と、上記半導体メモリ
素子に上記2値情報のいずれか一方を書き込む手
段と、上記中間電圧信号発生手段によつて発生さ
れる上記中間基準電圧信号をさらにこれと上記高
電圧出力信号との間の書き込み確認電圧まで上げ
る昇圧手段と、通常の、上記比較読み出し手段に
よつて半導体メモリ素子から情報を読み出すとき
は、上記半導体メモリ素子から読み出される出力
信号と比較する上記基準電圧信号は上記中間基準
電圧信号と成し、また上記半導体メモリ素子への
情報の書き込み完了を確認するライトベリフアイ
モードのときは、上記基準電圧信号となる上記中
間基準電圧信号を上記書き込み確認電圧まで上げ
るように、上記中間電圧信号発生手段と上記昇圧
手段とを制御する手段とを具備して成ることを特
徴とする不揮発性半導体メモリ装置。
1 A plurality of non-volatile semiconductor memory devices each storing one of binary information, and a high voltage output read out when sufficient data has been written corresponding to one of the binary information stored in the semiconductor memory device. intermediate voltage signal generating means for generating an intermediate reference voltage signal between the signal and a low voltage output signal read when not being written, corresponding to the other binary information stored in the semiconductor memory element;
a comparison reading means for comparing an output signal read from the semiconductor memory element with a reference voltage signal and identifying whether the information read from the semiconductor memory element is one of the binary information; means for writing either one of the value information; and boosting means for further increasing the intermediate reference voltage signal generated by the intermediate voltage signal generating means to a write confirmation voltage between this and the high voltage output signal; When reading information from the semiconductor memory element by the normal comparison readout means, the reference voltage signal to be compared with the output signal read from the semiconductor memory element is the intermediate reference voltage signal, and the semiconductor memory In a write verify mode for confirming completion of writing information to the element, the intermediate voltage signal generating means and the boosting means are configured to raise the intermediate reference voltage signal, which becomes the reference voltage signal, to the write confirmation voltage. 1. A nonvolatile semiconductor memory device comprising: means for controlling.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007301755A (en) * 2006-05-09 2007-11-22 H Concept Kk Ruler

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2828855C2 (en) * 1978-06-30 1982-11-18 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Non-volatile memory that can be electrically reprogrammed word by word as well as a method for deleting or writing to or in such a memory (s)

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