JPH04145037A - ナフトールの蒸留精製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、粗ナフトールの蒸留精製方法、特にナフタ
レンのスルホン化、アルカリ溶融法により得た粗ナフト
ールを蒸留精製する方法に関する。

従来の技術 ナフトール類は、染料、顔料、医農薬原料として重要で
ある。

現在ナフトール類は、１−ナフトールはテトラロン法と
ナフタレンのスルホン化、アルカリ溶融法により、２−
ナフトールはナフタレンのスルホン化、アルカリ溶融法
により製造されている。

前記ナフタレンのスルホン化、アルカリ溶融法により得
られる粗ナフトールには、アルカリ溶融工程で生成した
重質物や無機の不純物が含有されており、通常は蒸留に
より精製されている。

従来の粗ナフトールを蒸留精製する方法は、先ず粗ナフ
トールを蒸留釜に仕込み、常圧もしくは多少の減圧下で
脱水したのち、減圧下でナフトールを留呂させ、ナフト
ールよりも高沸点物質は、釜残として濃縮除去している
。

また、粗ナフトールの蒸留精製以外の精製方法としては
、炭素数５〜１０の鎖状もしくは脂環式炭化水素から選
ばれる溶媒、または該溶媒に炭素数１〜４のアルキル置
換体をＯ〜３個有するベンゼンもしくはベンゼン誘導体
またはケトン類から選ばれる溶媒を混合してなる混合溶
媒を用いて再結晶処理する方法（特公昭５７−４７８９
２号公報）等が提案されている。

発明が解決しようとする課題 上記粗ナフトールの精製方法のうち、低沸点物から順次
留出させる方法は、重質物および無機不純物とナフトー
ルが長時間にわたって加熱されるため、ナフトールの品
質低下とナフトール歩留が低下するという問題がある。

また、特公昭５７−４７８９２号公報の方法は、溶媒を
用いて再結晶したのち、さらに精製蒸留が必要であり、
経済的な方法ではない。

この発明の目的は、前記蒸留精製法により粗ナフトール
を精製する方法において、高純度のナフトールを歩留よ
く得ることのできるナフトールの蒸留精製方法を提供す
ることにある。

課題を解決するための手段 上記目的を達成するため、本発明者らは鋭意試験研究を
行った。その結果、ナフトールは熱に対し比較的安定な
物質である。しかし、粗ナフトール中のナフトールは、
熱に対して不安定で、比較的容易に重合して重質化する
ことが判明した。

一方、ナフトール中の主要な不純物であるチオナフトー
ルの生成機構について研究を行った。その結果、粗ナフ
トール中のチオナフトールは、極く微量でほとんど無視
できるが、重質分の分解によりチオナフトールが生成す
る。この重質分の分解によるチオナフトールの生成を抑
制するには、蒸留温度を制御するだけでは不十分で、加
熱時間をある一定の範囲にコントロールすることが必要
であることを見い出した。

すなわち、本発明者らは、粗ナフトールの蒸留精製試験
において、蒸留時間とチオナフトールの生成量と塔底温
度の関係を取りまとめたところ、第１図のとおりであっ
た。この第１図に基づいてチオナフトールの生成速度式
を求めた。

ＮＴＯ＝ｋ・θ ただし、ＮＴＯ：チオナフトール濃度 に：反応速度定数 θ；蒸留時間 これにアーレニウスの法則 に＝Ａ、ｅＸｐ′−ＥパＴ′ ただし、Ｒ：ガス定数であって１９８６ｃａｌ／（’　
Ｋ・ｍｏｌ）に等しい Ｔ：絶対温度 Ａ：頻度因子 Ｅ：活性化エネルギー を代入すると、 ＮＴＯｗｅ　ｌｌ　、Ａ　−ｅｘｐ　’−”Ｔ＋＝θ、
５５．６８・ｅｘｐ　１−ＩＳ°°″“８′″目１．（
２）式上記（２）式は、チオナフトールの生成速度にチ
オナフトール濃度が影響しない、すなわち０次のため回
分、連続いずれの蒸留方式においても適用できる。なお
、連続蒸留における蒸留時間は、ピッチ（缶出液）の蒸
留塔内での滞留時間を意味する。

そこで、チオナフトールの生成量を０．１％以下にする
ためには、 ０、１≧ｌ／　−５５，６８ｅｘｐ’−””°／　＋ｔ
＋ｔｔｓｌ　＋θ、ｅｘｐ　ｔ−ｓ＊ａ°／ｆｔ＋２７
１１１　≦１．８ｘｌｏ−”　、、、（１＞式を満足す
ることが必要である。

粗フトールの蒸留精製において、上記（１）式を満足す
る条件下で脱ピッチ蒸留することにより、目的を達成で
きることを究明した。また、同時にこの（１）式を満足
する条件であれば、ナフトールの歩留低下も抑制できる
ことを確認した。

ｔ　ｆｔ　ｈちこの発明は、ナフタレンのスルホン化、
アルカリ溶融法により得た粗ナフトールを蒸留により精
製するに際し、下記（１）式を満足する条件で脱ピッチ
蒸留に付し、ナフトールよりも高沸点物を釜残として除
去するのである。

θ’　ｅｘｐ　　　　　　　　≦１．８Ｘ１０−’　　
−（１）式なだし、ｔ、塔底温度（℃） θ：蒸留時間（分） 作　　　　用 この発明においては、ナフタレンのスルホン化、アルカ
リ溶融法により得た粗ナフトールを蒸留により精製する
に際し、前記（１）式を満足する条件で脱ピッチ蒸留に
付し、ナフトールよりも高沸点物を釜残として除去する
ので、脱ピッチ蒸留における重質分の分解によるチオナ
フトールの生成が０．１％以下に抑制される。　　また
、同時にナフトールの歩留低下も抑制され、高純度のナ
フトールを高収率で得ることができる。

実施例 実施例１ ナフタレンのスルホン化、アルカリ溶融法により得た第
１表に示す組成の粗ナフトール１４０ｇを、容量２００
ｍ　ｌの蒸留フラスコに仕込み、２６０℃に保持したオ
イルバスに装入し、突沸を押えるために徐々に真空度を
上げ、最終的に６０ｍｍＨｇとしてナフトールを留出せ
しめた。オイルバスに装入後、３０分でフラスコを取出
し、蒸留を終了させた。

以下余白 第 表 留出液は、ガスクロマトグラフおよび液体クロマトグラ
フを用いて分析した。その結果、２−ナフトールの回収
率は、９８．８％で、チオナフトールの含有率は、０．
０６２％であった。

この場合における蒸留条件で、 ｅ　、　ｅｘｐ　（−８ｓａ　Ｏ／　Ｌ　＋　＋　２７
３１１　＝ｇ、　５　Ｘ　１０−’であった。

実施例２，３および比較例１．２ オイルバス温度、真空度、蒸留時間のみを第２表に示す
条件に変更した以外は、実施例１と同一条件で蒸留を行
った。その結果を第２表に合せて示す。

発明の効果 以上述べたとおり、この発明方法によれば、粗ナフトー
ルの蒸留精製において、チオナフトールの生成を抑制で
きると共に、ナフトールの歩留低下を抑制することがで
き、その効果は大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は粗ナフトールの蒸留精製試験における蒸留時間
とチオナフトール生成量と塔底温度との関係を示すグラ
フである。 出　願　人　　住金化工株式会社 代　理　人　　弁理士　押田良久

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　ナフタレンのスルホン化、アルカリ溶融法により得
   た粗ナフトールを蒸留により精製するに際し、下記（１
   ）式を満足する条件で脱ピッチ蒸留に付し、ナフトール
   よりも高沸点物を釜残として除去することを特徴とする
   ナフトールの蒸留精製方法。 θ・ｅｘｐ＾（＾−＾５＾５＾８＾０＾／＾（＾ｔ＾＋
   ＾２＾７＾３＾）＾）≦１．８×１０＾−＾３・・・（
   １）式ただし、ｔ：塔底温度（℃） θ：蒸留時間（分）