JPH0414648A - 光磁気ディスク及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、浮上型磁気ヘッドを利用した光磁気記録再生
装置において用いられる光磁気ディスクに関するもので
、さらにはその基板に関するものである。

［従来の技術］ 光磁気記録方式とは、ガラス、プラスチック、セラミッ
クス等からなる基板上に金属磁性体からなる垂直磁化膜
を形成させたものを記録媒体とし、以下の方法で記録、
再生を行なうものである。

即ち、記録する際には、記録媒体をまず、強力な外部磁
場等によって初期化し、磁化の方向を一方向（上向き、
又は下向き）に揃えておく。その後、記録したいエリア
にレーザビームを照射して、媒体部分の温度をキュリー
点近傍以上、もしくは補償点近傍に加熱し、その部分の
保磁力（Ｈｃ）をゼロ、又はほとんどゼロとした上で、
初期化の磁化の方向と逆開きの外部磁場（バイアス磁場
）を印加して磁化の向きを反転させる。レーザビームの
照射を止めると、記録媒体は常温に戻るので反転した磁
化は固定され、熱磁気的に情報が記録される。

再生の際は、別の直線偏光とされたレーザビームを記録
媒体に照射して、その反射光や透過光の偏光面の回転が
磁化の向きによって異なる現象（磁気カー効果、磁気フ
ァラデー効果）を利用し光学的に読み出しを行なう。

上記のような光磁気記録方式は、書き換え可能な大容量
メモリ素子として注目されているが、その記録媒体の情
報を書き換える方法には、ｉ）記録媒体を再度初期化す
ることにより従前に記録された情報を一旦消去する方法
、ｉｉ）記録媒体または外部磁場発生装置に工夫を加え
てオーバーライド、つまり消去動作をせずに直接情報の
書き換えを行なう方法の２通りある。

その内１）の方法では、初期化装置が必要となるか又は
２個のヘッドが必要になりコスト高を招くことになる。

また、１個のみのヘッドを設けてこれを用いて消去する
場合は、消去のために記録時と同じ時間を要し、非効率
的である。

一方、１１）における記録媒体乙こ工夫をする方法では
、記録媒体の組成、膜厚等の制御が困難なものである。

そのため、１１）における外部磁場発生装置を工夫する
方法、つまりレーザビームを一定にし外部磁場の向きを
高速スイッチングで反転させて記録する方法が最も有用
となる。

ところで、外部磁場の向きを高速で反転させるためには
、外部磁場発生装置におけるコイル及びコイル芯は極め
て小さくする必要があり、その場合、磁場の発生領域も
小さくなる。従って、磁気ヘッドと記録媒体を近接させ
る必要があるので、一般には、第３図（ａ）及び（ｂ）
に示すように外部磁場発生装置を図示しない記録媒体上
で滑走可能なスライダー形式の浮上ヘッド１２とし、こ
の浮上ヘッド１２におけるスライダ部１４に磁気ヘッド
部１５を設けるとともに、浮上ヘッド１２をサス及ンシ
ョン１３により支持して記録媒体側に付勢し、記録媒体
の回転に伴って浮上ヘッド′１２を記録媒体の表面から
浮上させるようにしでいる。

この浮上ヘッド１２は、スライダ部１４と記録媒体間の
空気の流れによって生しる上向きの浮上刃とサスペンシ
ョン１３による下向きの付勢力とを均衡させることによ
り、一定の浮上量を保つものである。このような浮上型
ヘッドは既存のハードディスクにも採用されており、ハ
ードディスクにおける浮上量はサブミクロンのオーダー
である一方、記録媒体が光磁気ディスクである場合には
、可搬性であるために、ディスクに塵が付着する割合が
増加し、また接近しすぎるとクラッシュ等が起こること
が考えられるため、ハードディスクの場合に比べ浮上量
を大きくする必要があり、この場合浮上量は５〜１５μ
ｍ必要である。

また、この光磁気ディスクの浮上ヘッド側の表面上には
、ディスク表面と浮上ヘッド１２表面とが吸着しないよ
うに、微細な物理的凹凸（以下、テクスチャーと称する
）が形成されている。このテクスチャーは、第４図（ａ
）及び（ｂ）に示すように、表面に微細な凹凸を持つテ
クスチャーテープ１７をテープ押さえロール１８により
光磁気ディスク１６上に押圧するとともに、チー１１７
を矢印Ｃの方向へ移動させ、かつ光磁気ディスク１６を
回転させることにより形成する。この場合、ディスク１
６の回転方向とテープ１７の送り方向とはほぼ平行であ
るので、得られるテクスチャーは、第５図の２点鎖線で
示すような方向を持ち、光磁気ディスク１６の浮上ヘッ
ド側の表面に一様に形成されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、上述のようにテクスチャーを形成させるため
には、テープ１７を一枚一枚の光磁気ディスク１６に押
しつけて加工する必要があり、コスト高となるため量産
には不向きである。更には、加工の際、光磁気ディスク
１６に不要な応力がかかったり、発生した塵埃が付着し
たりして品質を低下させる一因となるという問題点を有
している。

〔課題を解決するための手段〕

請求項第１項に係る光磁気ディスクは、上記の課題を解
決するために、基板上に記録層が形成された光磁気ディ
スクにおいて、上記基板の、記録層が形成された側の表
面における記録層が形成される領域よりも内周側の領域
に、微細な物理的凹凸が形成されていることを特徴とし
ている。

この時、基板における物理的凹凸が形成される領域の基
板の厚さが、記録層が形成される領域の基板の厚さより
大きいことが好ましい。

また、請求項第３須に係る光磁気ディスクの製造方法は
、請求項第１項または第２項に記載の光磁気ディスクを
製造するために、物理的凹凸を持つ基板を化学エツチン
グにより形成することを特徴としている。

更に、請求項第４項に係る光磁気ディスクの製造方法は
、請求項第１項または第２項に記載の光磁気ディスクを
製造するために、基板を予め所望の形状が刻まれたスタ
ンパを用いて形成することを特徴としている。

〔作　用〕

上記の構成によれば、光磁気ディスクは、基板の記録層
が形成された側の表面における記録層が形成される領域
よりも内周側の領域、即ち浮上ヘッドがいわゆるコンタ
クトスタートストップ（ディスク回転をス・タート及び
ストップさせる時に、磁気ヘッドを光磁気ディスクに接
触させる）を行なう領域に、微細な物理的凹凸が形成さ
れているので、浮上ヘッドが光磁気ディスクに吸着する
のを抑えることができる。さらにこの物理的凹凸が形成
される領域の基板の厚さを記録層が形成される領域の厚
さより大きくすることで、記録層等の形成により光磁気
ディスクを−様な厚さに揃えることができる。

更に、この物理的凹凸が、化学エツチングにより、或い
は予め所望の形状が刻まれたスタンパを用いて形成する
ことにより、基板の形成と同時に形成されることから、
製造工程を削減することができるとともに、塵埃の付着
を抑え、不要な応力がかがることもない。従って、光磁
気ディスクの品質を低下させることなく、大量に生産す
ることができる。

〔実施例〕

本発明の一実施例を第１図及び第２図を用いて説明する
と以下の通りである。

本発明に係る光磁気ディスクは、第１図に示すように、
ポリカーボネイト、ポリメチルメタクリレート、アモル
ファスポリオレフィン等からなる透明な基板１の一方の
面上における領域Ａ１に、単層もしくは誘電体膜、記録
膜５反射膜等からなる多層の記録膜２が、蒸着やスパッ
タリングにより形成されている。さらにこの記録Ｍ２の
保護のために、ＵＶ硬化型樹脂からなる保護膜３が形成
されている。

また、基板１における記録層２が形成された面の、領域
Ａ１よりも内周側の領域は、基板の厚さｔ２が、領域Ａ
１における基板１の厚さｔｌより、記録層２及び保護層
３の分だけ大きくなっている。

さらに上記基板１の、領域Ａ１より内周側の領域におけ
る領域Ａ２の表面上には、微細な物理的凹凸５が形成さ
れている。

基板１の内孔部にはハブ４が、光磁気ディスクを図示し
ない光磁気記録再生装置に偏芯なく精度よく装着するた
めに接着されている。

上記の構成を持つ光磁気ディスクを光磁気記録再生装置
に装着し記録または再生を行なう際には、光磁気ディス
クの凹凸５が形成された側の領域Ａ２に、第３図に示す
ような浮上ヘッド１２が接触した後、ディスクが回転し
浮上へンド１２が浮上する。浮上した浮上ヘッド１２は
外周側の領域Ａ、へ移動して記録再生を行ない、停止時
は再び領域Ａ２に戻る。この時、領域Ａ２の基板１表面
には凹凸５が形成されているので、浮上ヘッド１２は光
磁気ディスクに吸着することがない。

次に光磁気ディスクの製造方法について説明する。

第２図に示すように、製造方法の一つである射出成形に
使われる金型１１は、スタンパ部６と裏面部７とからな
っている。先ず、このスタンパ部６と１面部７とにはさ
まれた空間に、例えばポリカーボネート、ポリメチルメ
タクリレート、アモルファスオレフィン等の溶融された
樹脂Ｂを裏面部７のスプル一部１０より流し込む。

次に、流し込んだ樹脂Ｂを充分に冷却した後に取り出し
、内孔部を打ち抜いてスタンパ部６の案内溝部８及び凹
凸部９が転写された基板ｌを得る。

更に上記の基板１に、記録膜２を形成しその上に保護膜
３を形成して光磁気ディスクを得る。

尚、本実施例においては、射出成形法により製造された
樹脂製の基板１を示したが、これに限らず、フォートポ
リマー法（２Ｐ法）によりガラス基板上に光硬化樹脂で
案内溝及び物理的凹凸を形成させた基板、あるいはエツ
チング法によりガラスに直接案内溝及び物理的凹凸を形
成させた基板であってもよい。

〔発明の効果〕

請求項第１項の発明に係る光磁気ディスクは、以上のよ
うに、基板の、記録層が形成された側の表面における記
録層が形成される領域よりも内周側の領域に、微細な物
理的凹凸が形成されている構成である。

この時、基板における物理的凹凸が形成される領域の基
板の厚さが、記録層が形成される領域の基板の厚さより
大きいことが好ましい。

また、この物理的凹凸を持つ基板は、化学エツチング或
いは予め所望の形状が刻まれたスタンパにより形成され
ている。

それゆえ、光磁気ディスクを大量に生産することが可能
であり、大幅なコストダウンが図れるという効果を奏す
る。さらには従来のテクスチャー処理工程で発生する塵
埃の付着及び不要な応力を除くことができるので、品質
の低下のない光磁気ディスクが得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は、本発明の一実施例を示すものであ
る。 第１図は、光磁気ディスクの構成を示す縦断面図である
。 第２“図は、光磁気ディスクの製造工程を示す縦断面図
である。 第３図（ａ）は浮上ヘッド及びサスペンションを示す概
略斜視図である。 第３図（ｂ）は浮上ヘッドの斜視図である。 第４図及び第５図は従来例を示すものである。 第４図（ａ）（ｂ）は、テクスチャーテープにより光磁
気ディスクにテクスチャーを形成する方法を示す説明図
である。 第５図は、光磁気ディスクにおけるテクスチャーの方向
を示す正面図である。 １は基板、２は記録膜、３は保護膜、５は凹凸、６はス
タンパ部、１２は浮上ヘッドである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に記録層が形成された光磁気ディスクにおい
   て、 上記基板の、記録層が形成された側の表面における、記
   録層が形成される領域よりも内周側の領域に、微細な物
   理的凹凸が形成されていることを特徴とする光磁気ディ
   スク。 ２、基板における物理的凹凸が形成される領域の基板の
   厚さが、記録層が形成される領域の基板の厚さより大き
   いことを特徴とする請求項第１項に記載の光磁気ディス
   ク。 ３、物理的凹凸を持つ基板を化学エッチングにより形成
   することを特徴とする請求項第１項または第２項に記載
   の光磁気ディスクの製造方法。 ４、基板を予め所望の形状が刻まれたスタンパを用いて
   形成することを特徴とする請求項第１項または第２項に
   記載の光磁気ディスクの製造方法。