JPH04148528A - 試料位置決め装置 - Google Patents
試料位置決め装置Info
- Publication number
- JPH04148528A JPH04148528A JP2272263A JP27226390A JPH04148528A JP H04148528 A JPH04148528 A JP H04148528A JP 2272263 A JP2272263 A JP 2272263A JP 27226390 A JP27226390 A JP 27226390A JP H04148528 A JPH04148528 A JP H04148528A
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- JP
- Japan
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- stage
- compensator
- fine movement
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体製造に用いるウェハ等のように高精度
位置決めが要求される試料を移動するに好適な試料位置
決め装置に関する。
位置決めが要求される試料を移動するに好適な試料位置
決め装置に関する。
ＬＳＩのチップの量産工程では、ウェハの移動。
位置決めを繰り返し、ウェハ上に回路パターンを一ショ
ットずつ、順次、露光して行く、いわゆる、ステップア
ンドリピート法による露光法が広く採用されている。こ
の種の露光装置は、ウェハ等を搭載した試料台の高精度
な移動２位置決めを行なうための試料位置決め装置が必
要である。
ットずつ、順次、露光して行く、いわゆる、ステップア
ンドリピート法による露光法が広く採用されている。こ
の種の露光装置は、ウェハ等を搭載した試料台の高精度
な移動２位置決めを行なうための試料位置決め装置が必
要である。
試料位置決め装置には、一般に、ＸＹステージが用いら
れる。ウェハに転写されるパターンの配列精度および重
ね合せ精度を向上するには、ＸＹステージの位置決め精
度と同時に姿勢精度を向上する必要があるが、ＸＹステ
ージの加工精度の限界のため、必ずしも満足な姿勢情報
が得られない場合が多い。この場合、ＸＹステージの上
に回転ステージを積み重ね、ＸＹステージの姿勢の誤差
を回転ステージにより補償するのが一般的である。
れる。ウェハに転写されるパターンの配列精度および重
ね合せ精度を向上するには、ＸＹステージの位置決め精
度と同時に姿勢精度を向上する必要があるが、ＸＹステ
ージの加工精度の限界のため、必ずしも満足な姿勢情報
が得られない場合が多い。この場合、ＸＹステージの上
に回転ステージを積み重ね、ＸＹステージの姿勢の誤差
を回転ステージにより補償するのが一般的である。
特開昭６４−５８４４２号公報に示された装置はその一
例である。また、回転のみならず並進運動も可能な微動
ステージをＸＹステージ上に搭載し、ＸＹステージの位
置と姿勢と誤差を同時に補償することも行なわれる。こ
のような微動ステージに用いることが可能な機構は、例
えば、特開昭６０−１５４５２８号公報が示された装置
が挙げられる。
例である。また、回転のみならず並進運動も可能な微動
ステージをＸＹステージ上に搭載し、ＸＹステージの位
置と姿勢と誤差を同時に補償することも行なわれる。こ
のような微動ステージに用いることが可能な機構は、例
えば、特開昭６０−１５４５２８号公報が示された装置
が挙げられる。
ところで、上記従来技術に代表されるように、ＸＹステ
ージの姿勢の誤差を補償可能にする機構は明確であるも
のの、これらの機構の制御技術は以下の二点で未だに確
立してはおらず、ＬＳＩチップ生産時の高能率化を阻む
一つの要因となっていた。
ージの姿勢の誤差を補償可能にする機構は明確であるも
のの、これらの機構の制御技術は以下の二点で未だに確
立してはおらず、ＬＳＩチップ生産時の高能率化を阻む
一つの要因となっていた。
すなわち、
（ａ）回転ステージ、または、微動ステージの回転動作
により、試料台の回転中心から離れた場所では並進成分
が生じるため、ＸＹステージ、または、微動ステージ自
身によりこの成分を補償する必要がある。このため、Ｘ
Ｙステージの移動により試料台の回転中心と、試料台の
ｘｙ力方向測長器の位置が大きく離れた場合、回転ステ
ージの制御系とＸＹステージの制御系、または、微動ス
テージの並進制御系が相互に大きく干渉し、整定に要す
る時間が長くなる。
により、試料台の回転中心から離れた場所では並進成分
が生じるため、ＸＹステージ、または、微動ステージ自
身によりこの成分を補償する必要がある。このため、Ｘ
Ｙステージの移動により試料台の回転中心と、試料台の
ｘｙ力方向測長器の位置が大きく離れた場合、回転ステ
ージの制御系とＸＹステージの制御系、または、微動ス
テージの並進制御系が相互に大きく干渉し、整定に要す
る時間が長くなる。
（ｂ）ＸＹステージ上に回転ステージ、または、微動ス
テージを搭載するた芽、系の動剛性が低下し、整定に要
する時間が長くなる６ 本発明の目的は、この要因を排除し、試料台の位置決め
に要する時間を短縮し、ＬＳＩチップの生産時の高能率
化を図るに適した試料位置決め装置を提供することにあ
る。
テージを搭載するた芽、系の動剛性が低下し、整定に要
する時間が長くなる６ 本発明の目的は、この要因を排除し、試料台の位置決め
に要する時間を短縮し、ＬＳＩチップの生産時の高能率
化を図るに適した試料位置決め装置を提供することにあ
る。
本発明に係る第一の解決手段は、試料台のＸ方向の位置
決めを行なうための二葱の微動アクチュエータとドライ
バ、二個の測長器、および第一の補償器が設けられた試
料位置決め装置において、第一の測長器と第二の測長器
の出力の差を演算する第一の加算器と、第一の加算器の
出力を増幅して出力する第二の補償器と、第一の補償器
の出力と第二の補償器の出力の差を第一のドライバに出
力する第二の加算器と、第一の補償器の出力と第二の補
償器の出力の和を第二のドライバに出力する第三の加算
器とを備えたことを特徴とする。
決めを行なうための二葱の微動アクチュエータとドライ
バ、二個の測長器、および第一の補償器が設けられた試
料位置決め装置において、第一の測長器と第二の測長器
の出力の差を演算する第一の加算器と、第一の加算器の
出力を増幅して出力する第二の補償器と、第一の補償器
の出力と第二の補償器の出力の差を第一のドライバに出
力する第二の加算器と、第一の補償器の出力と第二の補
償器の出力の和を第二のドライバに出力する第三の加算
器とを備えたことを特徴とする。
さらに１本発明に係る第二の解決手段は、微動アクチュ
エータにより駆動される微動ステージと、同じベース上
に設けられた粗動ステージと、微動ステージと試料台の
保持と離脱を行なう脱離装置と、粗動ステージと試料台
の保持と離脱を行なう着脱装置とを備えたことを特徴と
する。
エータにより駆動される微動ステージと、同じベース上
に設けられた粗動ステージと、微動ステージと試料台の
保持と離脱を行なう脱離装置と、粗動ステージと試料台
の保持と離脱を行なう着脱装置とを備えたことを特徴と
する。
上記第一の解決手段において、試料台のＸ方向の位置決
め制御は、第一の補償器により行なわれ、また試料台の
姿勢すなわち回転の制御は第二の補償器により行なわれ
る。このとき、第一の補償器と第二の補償器が互いに干
渉することはない。
め制御は、第一の補償器により行なわれ、また試料台の
姿勢すなわち回転の制御は第二の補償器により行なわれ
る。このとき、第一の補償器と第二の補償器が互いに干
渉することはない。
また、第二の解決手段において、試料台の長距離の移動
時には、試料台は粗動ステージに保持されて移動し、試
料台の位置決め時には、試料台は微動ステージに保持さ
れて位置決めされる。試料台の長距離の移動時には、試
料台は微動ステージからは離脱しており、また試料台の
位置決め時には、試料台の粗動ステージからは離脱して
いる。
時には、試料台は粗動ステージに保持されて移動し、試
料台の位置決め時には、試料台は微動ステージに保持さ
れて位置決めされる。試料台の長距離の移動時には、試
料台は微動ステージからは離脱しており、また試料台の
位置決め時には、試料台の粗動ステージからは離脱して
いる。
従って、微動ステージと二個の測長器の幾何学的な位置
関係は、試料台の位置によらず不変である。
関係は、試料台の位置によらず不変である。
このような構成により、試料台の並進の制御系と回転の
制御系の干渉を防止することが可能になる。また、微動
ステージは、粗動ステージとは独立にベース上に設けら
れるため、系の動剛性を向上させることが可能である。
制御系の干渉を防止することが可能になる。また、微動
ステージは、粗動ステージとは独立にベース上に設けら
れるため、系の動剛性を向上させることが可能である。
これらの作用により、位置決めに要する時間を短縮する
ことが可能である。
ことが可能である。
以下、本発明の実施例を図面により説明する。
第１図は、本発明の試料位置決め装置を半導体製造装置
の一種である露光装置に適用した一実施例を示した図で
ある。同図において、露光されるべきウェハ１は、ｘｙ
Ｘ方向移動可能な試料台２に保持されている。試料台２
のＸ方向の変位は。
の一種である露光装置に適用した一実施例を示した図で
ある。同図において、露光されるべきウェハ１は、ｘｙ
Ｘ方向移動可能な試料台２に保持されている。試料台２
のＸ方向の変位は。
第一の測長器３０１および第二の測長器３０２により測
定される。第一の測長器３０１の出力は、試料台２のＸ
方向の位置目標値と突き合わされ、偏差量が第一の補償
器４０１に入力される。また、第一の測長器３０１の出
力と第二の測長器３０２の差が、第一の加算器５０１に
より求められ、ローパスフィルタ６を介して第二の補償
器４０２に入力される。第二の補償器４０２の出力は、
電圧保持回路７を介して第二の加算器５０２および第三
の加算器５０３に入力される。第二の加算器５０２は、
第一の補償器４０１の出力と、電圧保持回路７を介して
入力される第二の補償器４０２の出力の差を第一のドラ
イバ８０１に入力し、また第三の加算器５０３は、第一
の補償器４０１の出力と、電圧保持回路７を介して入力
される第二の補償器４０２の出力の和を第二のドライバ
８０２に入力する。第一の微動アクチュエータ９０１は
、第一のドライバ８０１の出力により駆動され、第二の
微動アクチュエータ９０２は、第二のドライバ８０２の
出力により駆動される。微動ステージ１０およびこれに
搭載された試料台２は、第一の微動アクチュエータ９０
１および第二の微動アクチュエータ９０２によりＸ方向
に駆動され、また第一の微動アクチュエータ９０１と第
二の微動アクチュエータ９０２への入力値の差により微
動ステージ１０およびこれに搭載された試料台２の姿勢
が変化する。
定される。第一の測長器３０１の出力は、試料台２のＸ
方向の位置目標値と突き合わされ、偏差量が第一の補償
器４０１に入力される。また、第一の測長器３０１の出
力と第二の測長器３０２の差が、第一の加算器５０１に
より求められ、ローパスフィルタ６を介して第二の補償
器４０２に入力される。第二の補償器４０２の出力は、
電圧保持回路７を介して第二の加算器５０２および第三
の加算器５０３に入力される。第二の加算器５０２は、
第一の補償器４０１の出力と、電圧保持回路７を介して
入力される第二の補償器４０２の出力の差を第一のドラ
イバ８０１に入力し、また第三の加算器５０３は、第一
の補償器４０１の出力と、電圧保持回路７を介して入力
される第二の補償器４０２の出力の和を第二のドライバ
８０２に入力する。第一の微動アクチュエータ９０１は
、第一のドライバ８０１の出力により駆動され、第二の
微動アクチュエータ９０２は、第二のドライバ８０２の
出力により駆動される。微動ステージ１０およびこれに
搭載された試料台２は、第一の微動アクチュエータ９０
１および第二の微動アクチュエータ９０２によりＸ方向
に駆動され、また第一の微動アクチュエータ９０１と第
二の微動アクチュエータ９０２への入力値の差により微
動ステージ１０およびこれに搭載された試料台２の姿勢
が変化する。
ここで、第一の補償器４０１は、試料台の位置目標値と
第一の測長器３０１の出力が零に近づくような信号を出
力し、また第二の補償器４０２は、第一の測長器３０１
の出力と第二の測長器３０２の出力の差が零に近づくよ
うな信号を出力する。
第一の測長器３０１の出力が零に近づくような信号を出
力し、また第二の補償器４０２は、第一の測長器３０１
の出力と第二の測長器３０２の出力の差が零に近づくよ
うな信号を出力する。
これらの補償器は、比例要素、積分要素、微動要素、フ
ィルタ等から構成されるが、従来から閉ループの位置決
め制御系に用いられて来た類のものを用いればよいので
、ここでは詳述しない、また、微動ステージ１ｏのＸ方
向の位置決めについても、従来から一般に用いられてき
た位置決め制御系を用いればよいので詳述しない。
ィルタ等から構成されるが、従来から閉ループの位置決
め制御系に用いられて来た類のものを用いればよいので
、ここでは詳述しない、また、微動ステージ１ｏのＸ方
向の位置決めについても、従来から一般に用いられてき
た位置決め制御系を用いればよいので詳述しない。
以上の構成により、試料台２のｘｙＸ方向並進運動と、
姿勢をそれぞれ独立に補償器で制御することができる。
姿勢をそれぞれ独立に補償器で制御することができる。
また、ローパスフィルタ６は、試料台２の姿勢の急変を
避けるためのもので、不必要な場合には省略しても良い
。電圧保持回路７は、保持信号が入力されている期間だ
け、出方信号を保持信号入力時点の値に保つ、これは、
試料台の姿勢をある状態に保つ必要がある場合に電圧を
保持するためのもので、不必要な場合には省略してもよ
い。
避けるためのもので、不必要な場合には省略しても良い
。電圧保持回路７は、保持信号が入力されている期間だ
け、出方信号を保持信号入力時点の値に保つ、これは、
試料台の姿勢をある状態に保つ必要がある場合に電圧を
保持するためのもので、不必要な場合には省略してもよ
い。
また、本実施例では、ｘｙＸ方向移動可能な粗動ステー
ジ１１が微動ステージ１０と別に設けられており、試料
台２を長距離移動させる際には、第一の着脱装置１２０
１を用いて微動ステージ１０より試料台２を離脱させ、
第二の着脱装置１２０２を用いて粗動ステージ１１によ
り試料台２を保持して移動させる。移動終了後は、第二
の着脱装置！１２０２を用いて粗動ステージ１１よす試
料台２を離脱させ、第一の脱着装置１２０１を用いて微
動ステージ１０により試料台２を保持して位置決めを行
なう、これにより、試料台２がどこに移動しても、微動
アクチュエータと測長器の幾何学的な位置関係は不変で
あるため、パラメータを固定された制御系で微動ステー
ジ１０を制御することができる。
ジ１１が微動ステージ１０と別に設けられており、試料
台２を長距離移動させる際には、第一の着脱装置１２０
１を用いて微動ステージ１０より試料台２を離脱させ、
第二の着脱装置１２０２を用いて粗動ステージ１１によ
り試料台２を保持して移動させる。移動終了後は、第二
の着脱装置！１２０２を用いて粗動ステージ１１よす試
料台２を離脱させ、第一の脱着装置１２０１を用いて微
動ステージ１０により試料台２を保持して位置決めを行
なう、これにより、試料台２がどこに移動しても、微動
アクチュエータと測長器の幾何学的な位置関係は不変で
あるため、パラメータを固定された制御系で微動ステー
ジ１０を制御することができる。
なお、試料台２．微動アクチュエータ９０１および９０
２．微動ステージ１０．粗動ステージ１１、第一の着脱
装置１２０１．第二の着脱装置１２０２等の機構につい
ては、例えば、特開平２−１３９１！；０号公報に詳述
されているようなものが好適である。
２．微動ステージ１０．粗動ステージ１１、第一の着脱
装置１２０１．第二の着脱装置１２０２等の機構につい
ては、例えば、特開平２−１３９１！；０号公報に詳述
されているようなものが好適である。
第２図は、本発明の試料位置決め装置の第二の実施例を
示した図である。本実施例では、ローパスフィルタ６の
直後に、電圧保持回路７が設けられており、電圧保持回
路７に、二個の補償器（Ａ補償器４０３およびＢ補償器
４０４）が設けられている。Ａ補償器４０３の出力と、
第一の補償器４０１の出力の差が第一のドライバ８０１
に入力され、Ｂ補償器４０４の出力と、第一の補償器４
０１の出力の和が第二のドライバ８０２に入力される。
示した図である。本実施例では、ローパスフィルタ６の
直後に、電圧保持回路７が設けられており、電圧保持回
路７に、二個の補償器（Ａ補償器４０３およびＢ補償器
４０４）が設けられている。Ａ補償器４０３の出力と、
第一の補償器４０１の出力の差が第一のドライバ８０１
に入力され、Ｂ補償器４０４の出力と、第一の補償器４
０１の出力の和が第二のドライバ８０２に入力される。
このような構成により、第一の微動アクチュエータ９０
１と第二の微動アクチュエータ９０２の垂直二等分線上
に第一の測長器３０１が配置されていない場合でも容易
に試料台２のｘｙ力方向並進運動と、姿勢を制御するこ
とができる。
１と第二の微動アクチュエータ９０２の垂直二等分線上
に第一の測長器３０１が配置されていない場合でも容易
に試料台２のｘｙ力方向並進運動と、姿勢を制御するこ
とができる。
なお、第１図、第２図のいずれに示した実施例でも、試
料台２の姿勢の制御に関して、ループ系の制御系が構成
されることになるので、第１の測長器３０１、第二の測
長器３０２、第一の微動アクチュエータ９ｏ１．および
第二の微動アクチュエータ９０２の相互の幾何学的な配
置に誤差があっても、第一の測長器３０１と第二の測長
器３０２の出力の差が零となるように、試料台の姿勢が
制御される。
料台２の姿勢の制御に関して、ループ系の制御系が構成
されることになるので、第１の測長器３０１、第二の測
長器３０２、第一の微動アクチュエータ９ｏ１．および
第二の微動アクチュエータ９０２の相互の幾何学的な配
置に誤差があっても、第一の測長器３０１と第二の測長
器３０２の出力の差が零となるように、試料台の姿勢が
制御される。
第３図は１本発明の試料位置決め装置の第三の実施例を
示した図である。本実施例は、系をデジタル制御系で構
成した例であり、第一の補償器４０１、第一の加算器５
０１．第二の加算器５０２゜第三の加算器５０３．ロー
パスフィルタ６、第二の補償器４０２、および電圧保持
回路７がデジタル計算機により構成される。また、第一
の測長器３０１および第二の測長器３０．２にはレーザ
測長器が用いられており、その出力は第一のアップダウ
ンカウンタ１３ｏ１および第二のアップダウンカウンタ
１３０２を介してデジタル計算機に入力される。また、
デジタル計算機からの出力は、第一のＤ／Ａコンバータ
１４０１を介して第一のドライバ８０１に、また第二の
Ｄ／Ａコンバータ１４０２を介して第二のドライバ８０
２に入力される。これらの構成により、試料台２のｘｙ
力方向並進運動と、姿勢をデジタル制御することができ
る。
示した図である。本実施例は、系をデジタル制御系で構
成した例であり、第一の補償器４０１、第一の加算器５
０１．第二の加算器５０２゜第三の加算器５０３．ロー
パスフィルタ６、第二の補償器４０２、および電圧保持
回路７がデジタル計算機により構成される。また、第一
の測長器３０１および第二の測長器３０．２にはレーザ
測長器が用いられており、その出力は第一のアップダウ
ンカウンタ１３ｏ１および第二のアップダウンカウンタ
１３０２を介してデジタル計算機に入力される。また、
デジタル計算機からの出力は、第一のＤ／Ａコンバータ
１４０１を介して第一のドライバ８０１に、また第二の
Ｄ／Ａコンバータ１４０２を介して第二のドライバ８０
２に入力される。これらの構成により、試料台２のｘｙ
力方向並進運動と、姿勢をデジタル制御することができ
る。
本発明によれば、試料台の位置決め制御と、姿勢の制御
を互いに独立に行なえる上、系の動剛性を向上させるこ
とが可能なため、試料台の整定に要する時間を短縮でき
る。このため、本発明を。
を互いに独立に行なえる上、系の動剛性を向上させるこ
とが可能なため、試料台の整定に要する時間を短縮でき
る。このため、本発明を。
例えば、露光装置に適用すると、試料の位置決め整定に
要する時間が飛躍的に短縮される。
要する時間が飛躍的に短縮される。
第１図は本発明の試料位置決め装置の一実施例を示すブ
ロック図、第２図は本発明の試料位置決め装置の第二の
実施例を示すブロック図、第３図は本発明の試料位置決
め装置の第三の実施例を示すブロック線図である。 １・・・ウェハ、２・・・試料台、１０・・微動ステー
ジ、１１・・粗動ステージ、３０１・・・第一の副長器
、３０２・・第二の測長器、４０１・・・第一の補償器
、４０２・・・第二の補償器、４０３・・・Ａ補償器、
４０４Ｂ補償器、９０１・・・第一の微動アクチュエー
タ、９０２・・・第二の微動アクチュエータ。
ロック図、第２図は本発明の試料位置決め装置の第二の
実施例を示すブロック図、第３図は本発明の試料位置決
め装置の第三の実施例を示すブロック線図である。 １・・・ウェハ、２・・・試料台、１０・・微動ステー
ジ、１１・・粗動ステージ、３０１・・・第一の副長器
、３０２・・第二の測長器、４０１・・・第一の補償器
、４０２・・・第二の補償器、４０３・・・Ａ補償器、
４０４Ｂ補償器、９０１・・・第一の微動アクチュエー
タ、９０２・・・第二の微動アクチュエータ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ベース上にｘ方向に設けた第一の微動アクチュエー
タと、 前記第一の微動アクチュエータと平行に前記ベース上に
設けた第二の微動アクチュエータと、前記第一の微動ア
クチュエータおよび前記第二の微動アクチュエータによ
り駆動される微動ステージと、 前記微動ステージに搭載された試料台と、 前記試料台のｘ方向の変位を測定する第一の測長器と、 前記第一の測長器と平行に設け、前記試料台のｘ方向の
変位を測定する前記第二の測長器と、前記第一の微動ア
クチュエータを駆動する第一のドライバと、 前記第二の微動アクチュエータを駆動する第二のドライ
バと、 前記試料台のｘ方向の位置目標値と前記第一の測長器の
偏差を零に近づける信号を前記第一のドライバおよび前
記第二のドライバに出力可能な第一の補償器と を含む試料位置決め装置において、 前記第一の測長器と前記第二の測長器の出力差を演算す
る第一の加算器と、 前記第一の加算器の出力を増幅して出力する第二の補償
器と、 前記第一の補償器の出力と前記第二の補償器の出力の差
を前記第一のドライバに出力する第二の加算器と、 前記第一の補償器の出力と前記第二の補償器の出力の和
を前記第二のドライバに出力する第三の加算器と 前記ベース上に設けた粗動ステージと、 前記微動ステージと前記試料台の保持および離脱を行な
う第一の着脱機構と、 前記粗動ステージと前記試料台の保持および離脱を行な
う第二の離脱機構と を備えていることを特徴とする試料位置決め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2272263A JPH04148528A (ja) | 1990-10-12 | 1990-10-12 | 試料位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2272263A JPH04148528A (ja) | 1990-10-12 | 1990-10-12 | 試料位置決め装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04148528A true JPH04148528A (ja) | 1992-05-21 |
Family
ID=17511412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2272263A Pending JPH04148528A (ja) | 1990-10-12 | 1990-10-12 | 試料位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04148528A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0473434U (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-26 | ||
| JP2018082104A (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
-
1990
- 1990-10-12 JP JP2272263A patent/JPH04148528A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0473434U (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-26 | ||
| JP2018082104A (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
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