JPH04152142A - 液体噴射記録方法及び装置 - Google Patents

液体噴射記録方法及び装置

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JPH04152142A
JPH04152142A JP27689490A JP27689490A JPH04152142A JP H04152142 A JPH04152142 A JP H04152142A JP 27689490 A JP27689490 A JP 27689490A JP 27689490 A JP27689490 A JP 27689490A JP H04152142 A JPH04152142 A JP H04152142A
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heat
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 1亙分互 本発明は、液体噴射記録方法、より詳細には。
インクジェットプリンタの階調記録を可能とする液体噴
射記録方法のより安定した方法に関するものである。
盗」q【1 ノンインパクト記録法は、記録時における騒音の発生が
無視し得る程度に極めて小さいという点において、最近
関心を集めている。その中で、高速記録が可能であり、
而も所謂普通紙に特別の定着処理を必要とせずに記録の
行える所謂インクジェット記録法は極めて有力な記録法
であって、これまでにも様々な方式が提案され、改良が
加えられて商品化されたものもあれば、現在もなお実用
化への努力が続けられているものもある。
この様なインクジェット記録法は、所謂インクと称され
る記録液体の小滴(droplet)を飛翔させ、記録
部材に付着させて記録を行うものであって、この記録液
体の小滴の発生法及び発生された記録液小滴の飛翔方向
を制御する為の制御方法によって幾つかの方式に大別さ
れる。
先ず第1の方式は例えばU S P 3060429に
開示されているもの(Tele type方式)であっ
て、記録液体の小滴の発生を静電吸引的に行い1発生し
か記録液体小滴を記録信号に応じて電界制御し、記録部
材上に記録液体小滴を選択的に付着させて記録を行うも
のである。
これに就いて、更に詳述すれば、ノズルと加速電極間に
電界を掛けて、−様に帯電した記録液体の小滴をノズル
より吐出させ、該吐出した記録液体の小滴を記録信号に
応じて電気制御可能な様に構成されたxy偏向電極間を
飛翔させ、電界の強度変化によって選択的に小滴を記録
部材上に付着させて記録を行うものである。
第2の方式は、例えばU S P 3596275、U
SP 3298030等に開示されている方式(Swe
et方式)であって、連続振動発生法によって帯電量の
制御された記録液体の小滴を発生させ、この発生された
帯電量の制御された小滴を、−様の電界が掛けられてい
る偏向電極間を飛翔させることで、記録部材上に記録を
行うものである。
具体的には、ピエゾ振動素子の付設されている記録ヘッ
ドを構成する一部であるノズルのオリフィス(吐出口)
の前に記録信号が印加されている様に構成した帯電電極
を所定距離だけ離して配置し、前記ピエゾ振動素子に一
定周波数の電気信号を印加することでピエゾ振動素子を
機械的に振動させ、前記吐出口より記録液体の小滴を吐
出させる。この時前記帯電電極によって吐出する記録液
体小滴には電荷が静電誘導され、小滴は記録信号に応じ
た電荷量で帯電される。帯電量の制御された記録液体の
小滴は、一定の電界が一様に掛けられている偏向電極間
を飛翔する時、付加された帯電量に応じて偏向を受け、
記録信号を担う小滴のみが記録部材上に付着し得る様に
されている。
第3の方式は例えばU S P 3416153に開示
されている方式(Hertz方式)であって、ノズルと
リング状の帯電電極間に電界を掛け、連続振動発生法に
よって、記録液体の小滴を発生霧化させて記録する方式
である。即ちこの方式ではノズルと帯電電極間に掛ける
電界強度を記録信号に応じて変調することによって小滴
の霧化状態を制御し、記録画像の階調性を出して記録す
る。
第4の方式は、例えばU S P 3747120に開
示されている方式(Stetype方式、この方式は前
記3つの方式とは根本的に原理が異なるものである。
即ち、前記3つの方式は、何れもノズルより吐出された
記録液体の小滴を、飛翔している途中で電気的に制御し
、記録信号を担った小滴を選択的に記録部材上に付着さ
せて記録を行うのに対して。
このStetype方式記録信号に応じて吐出口より記
録液体の小滴を吐出飛翔させて記録するものである。
つまり、Stemmetype方式体を吐出する吐出口
を有する記録ヘッドに付設されているピエゾ振動素子に
、電気的な記録信号を印加し、この電気的記録信号をピ
エゾ振動素子の機械的振動に変え、該機械的振動に従っ
て前記吐出口より記録液体の小滴を吐出飛翔させて記録
部材に付着させることで記録を行うものである。
これ等、従来の4つの方式は各々に特長を有するもので
あるが、又、他方において解決され得る可き点が存在す
る。
即ち、前記第1から第3の方式は記録液体の小滴の発生
の直接的エネルギーが電気的エネルギーであり、又、小
滴の偏向制御も電界制御である。
その為、第1の方式は、構成上はシンプルであるが、小
滴の発生に高電圧を要し、又、記録ヘッドのマルチノズ
ル化が困難であるので高速記録には不向きである。
第2の方式は、記録ヘッドのマルチノズル化が可能で高
速記録に向くが、構成上複雑であり、又記録液体小滴の
電気的制御が高度で困難であること、記録部材上にサテ
ライトドツトが生じ易いこと等の問題点がある。
第3の方式は、記録液体小滴を霧化することによって階
調性に優れた画像が記録され得る特長を有するが、他方
霧化状態の制御が困難であること。
記録画像にカブリが生ずること及び記録ヘッドのマルチ
ノズル化が困難で、高速記録には不向きであること等の
諸問題点が存する。
第4の方式は、第1乃至第3の方式に比べ利点を比較的
多く有する。即ち、構成上シンプルであること、オンデ
マンド(on−demand)で記録液体をノズルの吐
出口より吐出して記録を行う為に、第1乃至第3の方式
の様に吐出飛翔する小滴の中、画像の記録に要さなかっ
た小滴を回収することが不要であること及び第1乃至第
2の方式の様に、導電性の記録液体を使用する必要性が
なく記録液体の物質上の自由度が大であること等の大き
な利点を有する。丙午ら、一方において、記録ヘッドの
加工上に問題があること、所望の共振数を有するピエゾ
振動素子の小型化が極めて困難であること等の理由から
記録ヘッドのマルチノズル化が難しく、又、ピエゾ振動
素子の機械的振動という機械的エネルギーによって記録
液体小滴の吐出飛翔を行うので高速記録には向かないこ
と、等の欠点を有する。
このように従来の液体噴射記録方法には、構成上、高速
記録化上、記録ヘッドのマルチノズル化上、サテライト
ドツトの発生及び記録画像のカブリ発生等の点において
、一長一短があって、その長所を利する用途にしか適用
し得ないという制約が存在していた。
しかし、この不都合も本出頴人が先に提案したインクジ
ェット記録方式を採用することによってほぼ解消するこ
とができる。かかるインクジェット記録方式は、特公昭
56−9429号公報にその詳細が説明されているが、
ここにそれを要約すれば、液室内のインクを加熱して気
泡を発生させてインクに圧力上昇を生じさせ、微細な毛
細管ノズルからインクを飛び出させて、記録するもので
ある。その後、この原理を利用して多くの発明がなされ
た。その中の1つとして、たとえば、特公昭59−31
943号公報がある。これは、発熱量調整構造を有する
発熱部を具備する電気熱変換体に階調情報を有する信号
を印加し1発熱部に信号に応じた熱量を発生させること
により階調記録を行う事を特徴とするものであった。具
体的には。
保護層、蓄熱層、あるいは発熱体層の厚さが徐々に変化
するような構造としたり、あるいは発熱体層のパターン
巾が徐々に変化するような構造としたものである。
第28図乃至第30図は、それぞれ上記特公昭59−3
1943号公報の第4図乃至第6図に開示された電気熱
変換体の例を示す断面構造図で、図中、71は基板、7
2は蓄熱層、73は発熱体、74.75は電極、76は
保護膜で、第28図に示した例は、保護膜76を電極7
4側より電極75に向って厚み勾配をつけて設けること
により、つまり、保護膜76の厚みをBからAに向って
徐々に減少させることにより1発熱部ΔQの表面より、
該表面に接触している液体に単位時間当りに作用する発
熱量に勾配を設けたものである。
また、第29図に示した例は、蓄積層72の厚みを発熱
部ΔQに於いて、AからBに向って徐々に減少させて、
発熱体73より発生される熱の基板71への放熱量に分
布を与え1発熱部ΔQの表面に接触している液体へ与え
る単位時間当りの熱量に勾配を設けたものである。
また、第30図に示した例は5発熱体73の厚みに発熱
部Δαに於いて勾配を設けて発熱体73を蓄積層62上
に形成するもので、AからBに至るまでの各部位に於け
る抵抗の変化によって、単位時間当りの発熱量を制御す
るものである。
また、第31図乃至第35図は、それぞれ上記特公昭5
9−31943号公報の第9図乃至第13図に開示され
た電気熱変換体の例を示す平面構造図で、図中、81は
発熱部、82.83は電極で、第31図に示した例は、
発熱部81の平面形状を矩形とし、電極82と発熱部8
1との接続部を電極83と発熱部81との接続部より小
さくしたものである。第32図及び第33図に示した例
は、それぞれ発熱部81の中央部を両端よりも細い平面
形状となしたものである。また第34図に示した例は、
発熱部81の平面形状を台形となし、台形の平行でない
対向する辺に於いて図の様に電極82.83を各々接続
したものである。
また、第35図に示した例は、発熱部81の中央部を両
端より広い平面形状としたもので、これらの例は、発熱
部のAからBに向って電流密度に負の勾配を与える様に
構成し、印加される電力レベルを変えることによって、
熱作用部に生ずる急峻な液体の状態変化を制御すること
で吐出される液滴の大きさを変え、これによって階調記
録を行うものである。
しかしながら、第28図〜第30図に示した例のような
3次元的構造を薄膜形成技術で形成することは、事実上
不可能に近く、又、仮にできたとしても、非常に高コス
トになるという欠点を有している。又、第31図〜第3
5図に示したようにパターン巾を変えたものは、そのパ
ターンが最もせまくなるところで断線が生じやすく耐久
性の面から必ずしも良い結果は得られなかった。
一方、特開昭63−42872号公報にも類似の階調記
録技術の開示がある。これも特公昭59−31943号
公報の技術と同様に発熱体層に3次元構造をもたせるこ
とを特徴としており、製造が極めて困難であるという欠
点を有している。その他の階調記録技術として特公昭6
2−46358号公報、特公昭62−46359号公報
、特公昭62−48585号公報が知られている。それ
らは、それぞれ1つの流路に配列した複数個の発熱体よ
り、所定数の発熱体を選択したり、あるいは、発熱量の
異なる複数の発熱体から1つを選択して、発生する気泡
の大きさを変えたり、複数の発熱体への駆動信号の入力
タイミングのズレを可変制御して吐出量を変えたりする
ものであった。
しかしながら、これらの技術では、複数個の発熱体が1
つの流路あるいは吐出口に対応しているため、それら複
数個の発熱体に接続される制御電極の数が増大して吐出
口を高密度に配列することが不可能であった。又、特開
昭59−124863号公報、特開昭59−12486
4号公報では、吐出のための発熱体とは別の発熱体及び
気泡発生部を有し、吐出量制御を行う技術の開示がある
が、これらも気泡発生部の存在故に高密度配列が困難で
あるという欠点を有している。さらに特開昭63−42
869号公報には、抵抗体に通電する時間を変えること
によって気泡の発生回数を変更して吐出量を制御する技
術が開示されている。しかしながら通常のバブルジェッ
トにおいては通電時間は数〜十数μsが限界であり、そ
れ以上の時間通電すると発熱体が断線するため、特開昭
63−42869号公報の技術は、耐久性面で事実上実
現不可能である。
以上により、従来技術においては、階調記録を行うため
に各種の試みがなされてきているが、製造上から、耐久
性から、あるいは、高密度配列面からみて必ずしも満足
のいく結果は得られていない。
1−一昨 本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされたもので、
第1の目的は製造が容易であり、耐久性にも優れ、高密
度配列が可能な階調記録が可能な液体噴射記録装置を提
供することにあり、他の目的は階調記録方法を提供する
ことにある。
本発明のさらに他の目的は、より安定した高精度なドツ
ト位置精度を確保できる階調記録方法を提供することに
ある。
盈−一双 本発明は、上記目的を達成するために、(1)液体を吐
出して飛翔的液滴を形成するための吐出口と、前記液体
を吐出するために前記液体に熱による状態変化を生じせ
しめるための電気熱変換体層と、該電気熱変換体層に電
気的に接続される1対の電極とを有する液体噴射記録ヘ
ッドを使用する液体噴射記録方法であって、画像情報に
応じて入力エネルギーを変え、前記電気熱変換体層上に
おいて通電方向に熱勾配を生じせしめ、前記電気熱変換
体層上で発生する気泡の大きさを変えて前記吐出口より
吐出する液体の量を変えて記録する方法において、前記
気泡の液体吐出方向側の長さをlb、同方向に伸びた液
柱が切れる直前の最大になった時の長さをljとすると
き、lj>Qbとなる条件の時に記録を行うこと、ある
いは、(2)液体を吐出して飛翔的液滴を形成するため
の吐出口と、前記液体を吐出するために前記液体に熱に
よる状態変化を生じせしめるための電気熱変換体層と、
該電気熱変換体層に電気的に接続される1対の電極とを
有する液体噴射記録ヘッドを使用する液体噴射記録方法
であって、画像情報に応じて入力エネルギーを変え、前
記電気熱変換体層の下において通電方向に熱勾配を生じ
せしめ、前記電気熱変換体層上で発生する気泡の大きさ
を変えて前記吐出口より吐出する液体の量を変えて記録
する方法において、前記気泡の液体吐出方向側の長さを
lb、同方向に伸びた液柱が切れる直前の最大になった
時の長さをQ3とするとき、lj>Qbとなる条件の時
に記録を行うことを特徴としたものである。
以下、本発明の実施例に基いて説明する。
第22図は、本発明が適用されるインクジェットヘッド
の一例としてのバブルジェットヘッドの動作説明をする
ための図、第23図は、バブルジェットヘッドの一例を
示す斜視図、第24図は。
第23図に示したヘッドを構成する蓋基板(第24図(
a))と発熱体基板(第24図(b))に分解した時の
斜視図、第25図は、第24図(a)に示した蓋基板を
裏側から見た斜視図で、図中、21は蓋基板、22は発
熱体基板、23は記録液体流入口、24はオリフィス、
25は流路、26は液室を形成するための領域、27は
個別(独立)電極、28は共通電極、29は発熱体(ヒ
ータ)、30はインク、31は気泡、32は飛翔インク
滴で、本発明は、斯様なバブルジェット式の液体噴射記
録ヘッドに適用するものである。
最初に、第22図を参照しながらバブルジェットによる
インク噴射について説明すると。
(a)は定常状態であり、オリフィス面でインク3oの
表面張力と外圧とが平衡状態にある。
(b)はヒータ29が加熱されて、ヒータ29の表面温
度が急上昇し隣接インク層に沸騰現像が起きるまで加熱
され、微小気泡31が点在している状態にある。
(C)はヒータ29の全面で急激に加熱された隣接イン
ク層が瞬時に気化し、沸騰膜を作り、この気泡31が生
長した状態である。この時、ノズル内の圧力は、気泡の
生長した分だけ上昇し、オリフィス面での外圧とのバラ
ンスがくずれ、オリフィスよりインク柱が生長し始める
(d)は気泡が最大に生長した状態であり、オリフィス
面より気泡の体積に相当する分のインク30が押し出さ
れる。この時、ヒータ29には電流が流れていない状態
にあり、ヒータ29の表面温度は降下しつつある。気泡
31の体積の最大値は電気パルス印加のタイミングから
ややおくれる。
(e)は気泡31がインクなどにより冷却されて収縮を
開始し始めた状態を示す。インク柱の先端部では押し出
された速度を保ちつつ前進し、後端部では気泡の収縮に
伴ってノズル内圧の減少によりオリフィス面からノズル
内へインクが逆流してインク柱にくびれが生じている。
(f)はさらに気泡31が収縮し、ヒータ面にインクが
接しヒータ面がさらに急激に冷却される状態にある。オ
リフィス面では、外圧がノズル内圧より高い状態になる
ためメニスカスが大きくノズル内に入り込んで来ている
。インク柱の先端部は液滴になり記録紙の方向へ5〜1
0Il/secの速度で飛翔している。
(g)はオリフィスにインクが毛細管現象により再び供
給(リフィル)されて(a)の状態にもどる過程で、気
泡は完全に消滅している。
第26図は、上述のごとき液体噴射記録ヘッドの要部構
成を説明するための典型例を示す図で、第26図(a)
は、バブルジェット記録ヘッドのオリフィス側から見た
正面詳細部分図、第26図(b)は、第26図(、)に
−点鎖線X−Xで示す部分で切断した場合の切断面部分
図である。
これらの図に示された記録ヘッド41は、その表面に電
気熱変換体42が設けられている基板43上に、所定の
線密度で所定の巾と深さの溝が所定数設けられている溝
付板44を該基板43を覆うように接合することによっ
て、液体を飛翔させるためのオリフィス45を含む液吐
出部46が形成された構造を有している。液吐出部46
は、オリフィス45と電気熱変換体42より発生される
熱エネルギーが液体に作用して気泡を発生させ、その体
積の膨張と収縮による急激な状態変化を引き起こすとこ
ろである熱作用部47とを有する。
熱作用部47は、電気熱変換体42の熱発生部48の上
部に位置し、熱発生部48の液体と接触する面としての
熱作用面49をその低面としている。熱発生部48は、
基体43上に設けられた下部層5o、該下部層50上に
設けられた発熱抵抗層51、該発熱抵抗層51上に設け
られた上部層52とで構成される。
発熱抵抗層51には、熱を発生させるために数層51に
通電するための電極53.54がその表面に設けられて
おり、これらの電極間の発熱抵抗層によって熱発生部4
8が形成されている。
電極53は、各液吐出部の熱発生部に共通の電極であり
、電極54は、各液吐出部の熱発生部を選択して発熱さ
せるための選択電極であって、液吐出部の液流路に沿っ
て設けられている。
保護層52は、熱発生部48においては発熱抵抗層51
を、使用する液体から化学的、物理的に保護するために
発熱抵抗層51と液吐出部46の液流路を満たしている
液体とを隔絶すると共に、液体を通じて電極53.54
間が短絡するのを防止し、更に隣接する電極間における
電気的リークを防止する役目を有している。
各液吐出部に設けられている液流路は、各液吐出部の上
流において、液流路の一部を構成する共通液室(不図示
)を介して連通されている。各液吐出部に設けられた電
気熱変換体42に接続されている電極53,54はその
設計上の都合により、前記上部層に保護されて熱作用部
の上流側において前記共通液室下を通るように設けられ
ている。
第27図は、発熱抵抗体を用いる気泡発生手段の構造を
説明するための詳細図で、図中、61は発熱抵抗体、6
2は電極、63は保護層、64は電源装置を示し、発熱
抵抗体61を構成する材料として、有用なものには、た
とえば、タンタル−5iO□の混合物、窒化タンタル、
ニクロム、銀−パラジウム合金、シリコン半導体、ある
いはハフニウム、ランタン、ジルコニウム、チタン、タ
ンタル、タングステン、モリブデン、ニオブ、クロム、
バナジウム等の金属の硼化物があげられる。
これらの発熱抵抗体61を構成する材料の中、殊に金属
硼化物が優れたものとしてあげることができ、その中で
も最も特性の優れているのが、硼化ハフニウムであり5
次いで、硼化ジルコニウム。
硼化ランタン、硼化タンタル、硼化バナジウム、硼化ニ
オブの順となっている。
発熱抵抗体61は、上記の材料を用いて、電子ビーム蒸
着やスパッタリング等の手法を用いて形成することがで
きる。発熱抵抗体61の膜厚は、単位時間当りの発熱量
が所望通りとなるように、その面積、材質及び熱作用部
分の形状及び大きさ、更には実際面での消費電力等に従
って決定されるものであるが、通常の場合、0.001
〜5μm、好適には0.01〜1μmとされる。
電極62を構成する材料としては1通常使用されている
電極材料の多くのものが有効に使用され、具体的には、
たとえばAfl、Ag、Au、Pt。
Cu等があげられ、これらを使用して蒸着等の手法で所
定位置に、所定の大きさ、形状、厚さで設けられる。
保護層63に要求される特性は、発熱抵抗体61で発生
された熱を記録液体に効果的に伝達することを妨げずに
、記録液体より発熱抵抗体61を保護するということで
ある。保護層63を構成する材料として有用なものには
、たとえば酸化シリコン、窒化シリコン、酸化マグネシ
ウム、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化ジルコニ
ウム等があげられ、これらは、電子ビーム蒸着やスパッ
タリング等の手法を用いて形成することができる。保護
層63の膜厚は1通常は0.01〜10μm、好適には
、0.1〜5μm、最適には0.1〜3μmとされるの
が望ましい。
以上のような原理、あるいは発熱体構造をもつバブルジ
ェット技術において、本発明は、液体を吐出して飛翔的
液滴を形成するための吐出口と、前記液体を吐出するた
めに前記液体に熱による状態変化を生じせしめるための
電気熱変換体層及び該電気熱変換体層に電気的に接続さ
れる1対の電極とを有する液体噴射記録ヘッドを使用す
る液体噴射記録方法において、前記電気熱変換体層上も
しくはその下において通電方向に熱勾配を持つように放
熱構造体を形成し、画像情報に応じて、入力エネルギー
を可変としたこと、或いは、液体を吐出して飛翔的液滴
を形成するための吐出口と、前記液体を吐出するために
前記液体に熱による状態変化を生じせしめるための電気
熱変換体層及び該電気熱変換体層に電気的に接続される
1対の電極とを有する液体噴射記録ヘッドを使用する液
体噴射記録方法において、画像情報に応じて入力エネル
ギーを変え、前記電気熱変換体層上もしくはその下にお
いて通電方向に熱勾配を生じせしめ、前記電気熱変換体
層上で発生する気泡の大きさを変えて前記吐出口より吐
出する液体の量を変えるようにし、その際、前記気泡の
液体吐出方向側の長さをlb、同方向に伸びた液柱が切
れる直前の最大になった時の長さをljとするとき、l
j>Qbとなる条件の時に記録を行うようにしたもので
ある。
第1図は1本発明によるバブルジェット液体噴射記録装
置の要部(発熱体部)構成図、第2図は、通常の階調記
録を行わないバブルジェット液体噴射記録装置の発熱体
部の構成図で、共に、(a)図は平面図、(b)図は(
a)図のB−B線断面図を示し、図中、1oは基板、1
1は蓄熱層、12は発熱体層、13は制御電極、14は
アース電極、15は保護層、16は放熱体、17は絶縁
層で、本発明においては、第1図に示すように、発熱体
層12の上に放熱体16が設けである。この放熱体16
は発熱体層12の全面に均一に設けるのではなく、第1
図に示したように制御電極13側からアース電極14側
へいくにつれて、発熱体層12をおおう面積が変わるよ
うに設けられる。こうすることによって、発熱体層上で
は、放熱体の効果により、通電方向に熱勾配を持たせる
ことが可能となる。放熱体を形成する材料としては、一
般に熱伝導率が高く、蒸着、スパッタリング等の薄膜形
成及びフォトエツチング等の微細加工が容易にできるA
ffi、Au等が好適に用いられる。本発明では、放熱
体をこのように平面的(2次元的)に形成するので、製
造面において、あるいは構造面において、容易かつ、シ
ンプルにできるというメリットがある。なお、第1図の
場合、放熱体16は発熱体層の上に直接接触して形成さ
れているが、該放熱体16がアース電極の役割をしない
ように、放熱体16のパターンは、アース電極14とは
接触しないで、適当な絶縁処理17がなされている。こ
のような発熱体層上で熱勾配を持つヘッドに対して、本
発明では、更に、画像情報に応じて、発熱体層への入力
エネルギーを変えるようになっている。一般に、バブル
ジェット技術においては発熱体層上で膜沸騰現象により
気泡が発生する際に、発熱体層上の表面温度が瞬時的に
ある一定以上の温度になることが必要である。
つまり膜沸騰が生じるためには、ある臨界温度以上にな
ることが必要なわけであるが、その臨界温度になる領域
が発熱体層上の任意の位置で形成されれば、発生気泡の
大きさが任意に変えられることを意味している。第3図
にその原理を示す。第3図は、第1図の断面部に発生気
泡を点線で示したものである。上述のように、本発明で
は、発熱体層12上に設けられた放熱体16により発熱
体層上で通電方向に対して熱勾配をもっている。従って
、入力エネルギーを小さい値から大きい値に変えてやる
ことにより、膜沸騰による気泡発生の臨界点位置が熱勾
配に応じて順次移動する。それにより、第3図の点線で
示したように、小さい気泡1から、徐々に2,3.4と
いう具合に気泡18が大きくなるのである。
第4図に、入力エネルギーと発生する気泡の大きさの関
係を、第5図には、発生した気泡と吐出されるインク量
の関係を示す。入力エネルギーとしては、パルス電圧、
パルス巾のどちらを変えても良いが、瞬時的に膜沸騰現
象を利用して気泡を発生させるためには、パルス電圧を
変えるのが望ましい。ただし、パルス巾も最大50μs
ec程度までの範囲で変えるのであれば、実用上は問題
はない。
第6図は、本発明の別の実施例を説明するための図であ
り、この場合は、放熱体16を発熱体層12の下に形成
している。第7図は、さらに別の実施例であり、この場
合は、放熱体16を保護層15の上に形成している。第
8図、第9図は、放熱体のパターンの変形実施例で、第
8図のようにすると、フォトマスクを製作する時のコス
トが下がり有利である。一方、第9図のように両側に放
熱体を形成すると、発生気泡の対称性が良くなり安定す
るという利点がある。
以上に本発明の実施例について簡単に説明してきたが、
図が複雑になることを考慮して説明を省略したところが
ある。たとえば第1図、第2図。
第6図、第7図の断面図((b)図)、及び第3図にお
いて電極がムキ出しになっているが、これは適当な保護
膜(ポリイミド等)によってインクに直接接触しないよ
うにすることが好ましい。又、放熱体についても同様に
、もしインクに腐食されるような材料(たとえばAQ)
を使用する場合には、保護膜を設けるべきである。又、
第1図、第2図、第6図、第7図、第10図の平面図(
(a)図)及び第8図、第9図において、発熱体層上の
保護膜が省略されているが、これも図が複雑になるのを
さけるためであり、実際には、保護膜が存在する。
次に、第1図に示した液体噴射記録ヘッドの具体的な製
造方法について説明する。まず、シリコンウェハを熱酸
化により、表面にSio2膜を2μm成長させて蓄熱層
12とする。次に、発熱体層13として、HfB2を2
200人スパッタリングする。次に、放熱体16として
、Auを8000人蒸着九九。次に、電[1t13,1
4としてAuを10000人蒸着し九0この時、放熱体
AQと電極Auが接触しないように絶縁層17としてS
iO2を形成しておく。次に、発熱体層の保護膜15と
してSiO2を9000人スパッタリングした。さらに
、その上に耐キヤビテーシヨン層としてTaを3000
人スパッタリングした。これらの各膜形成途中において
は周知のフォトリソ技術、フォトエツチング技術を利用
し、最終的な発熱体のパターンは24μm X 80μ
mの長方形としている。なお、電極巾は、発熱体パター
ンの短手方向の24μmである。
第10図は、本発明の別の実施例である6而して、第1
図に示した実施例において、放熱体16はアース電極1
4と接触しないように5in2の絶縁層17が設けられ
ているが、第1o図に示した実施例では、SiO2の絶
縁層がなく、放熱体16はアース電極14に接触してい
る。従って、放熱体16はアース電極の役割もしており
、いいかえるならば1発熱体層の発熱部分が長方形では
なく、第10図の放熱体がかかっていない部分、つまり
第10図(a)の直角三角形状部分となり、発熱体層そ
のものが熱勾配をもつようにしたものである。この場合
は放熱体の熱勾配と発熱体層の熱勾配の両方が作用する
ようになる。
また第1図の場合の製造方法の説明では、放熱体と電極
(アース電極)を別々に製造することを示したが、第1
o図の場合においては、同時に(一体)に製造してもよ
い。
第11図は、さらに別の実施例であり、たとえば、16
本/mn以上の高密度配列を可能にするために電極積層
構造とした発熱体基板に本発明を適用し、放熱体を形成
したものである。電極積層構造の発熱体基板の製造方法
を簡単に説明する。
第12図は、本発明の他の実施例を説明するための断面
図で、図中、10は基板、12は発熱抵抗体層、13は
第1の電極、14は第2の電極、15は保護層(耐イン
ク)、17は絶縁層で、第1電極13のA部はリード線
を取り出す部分、Bは発熱抵抗体が接続される部分であ
る。
第13図(a)〜(e)は、第12図に示した構成を得
るための手順を示す図で、はじめに、第1の電極13が
基板上10に形成されるが(第13図(a))、この電
極13上には少なくともリード線をとり出す部分Aと、
後述の発熱抵抗体層12が接続する部分Bを除いて、絶
縁層17が設けられる(第13図(b))。次に、発熱
抵抗体層12が設けられ(第13図(C))、そして。
第2の電極14が、発熱抵抗体層12の第1の電極13
と接続されている部分Bと対向する位置で接続されて形
成される(第13図(d))。最後に、保護膜15が発
熱抵抗体層12をインクから保護するために形成されて
完成する(第13図(e))。なお、これ以外にも電極
保護層あるいは、必要に応じて耐キヤビテーシヨン保護
膜も設けられるが、ここでは、簡略化するために説明を
省略した。第11図は、上述のようなプロセスで製造さ
れる電極積層構造発熱体基板に本発明の放熱体16を付
与した場合の例を示す平面構成図である。
第14図(a)〜(g)は、本発明の発熱体基板の製造
プロセスを示す図で、第15図は、第14図(g)にお
いて完成した発熱体基板のA−A断面図である。図中、
91は発熱体(Hf B、)。
92は第1電極(AM)、93は絶縁層(SiO2)、
94は第2電極(Afl)、95は熱絶縁層(Sin2
)、96は耐キヤビテーシヨン層(T a )、97は
電極保護層(フォトニース)、98はポンディングパッ
ドである。斜線部が各工程での形成パターンである。
(、)熱酸化等によって表面に5in2膜を形成したS
iウェハに発熱体91を形成する。ここでは、発熱体材
料として、HfB2を3000人スパッタリングによっ
て形成した。
(b)第1の電極としてAQ92を10000人スパッ
タリングによって形成した。
(C)絶縁層93としてSio2を8000人スパッタ
リングによって形成した。なお、このパターンを形成す
る時、後述する第2の電極と接続する部分と、ポンディ
ングパッドの部分には絶縁層はつかないようにしている
(d)第2の電極としてAf194を10000人スパ
ッタリングによって形成した。この第2電極は放熱構造
体を兼ねており、図より明らかなように絶縁層を介して
発熱体の上の部分において0通電方向に放熱により熱勾
配を持つように、その占める領域が連続的に変わってい
る。なお、Aflは電極材料として優れ、又、その熱伝
導性が良好なことから放熱構造体にも最適な材料の1つ
である。
(e)次に熱絶縁層95としてSiO2を5000人ス
パッタリングによって形成した。これは後述の耐キヤビ
テーシヨン層と、前述の放熱構造体とを熱的に離間し、
放熱構造体がその機能をより良く発揮させるためのもの
である。
(f)耐キヤビテーシヨン層96としてTaを3000
人スパッタリングによって形成した。これは発生した気
泡が消滅する際の物理的な衝撃力を吸収し、発熱体部を
損傷から保護し、寿命を長くするためのものである。
(g)電極保護層97として、フォトニース(東しく株
)製)を12000人形成した。
第16図(a)〜(g)は本発明の発熱体基板の製造プ
ロセスの他の実施例を示す図で、第17図は、第16図
(g)において完成した発熱体基板のB−B断面図であ
る。図中、101は第1電極(AQ)、102は#@縁
層(Sin、) 、  103は発熱体(HfB、)、
104は第2電極(A Q)、105は発熱体保護層(
SiO2) 、106は耐キヤビテーシヨン層(Ta)
、xo7は電極保護層(フォトニース)、108はポン
ディングパッドである。斜線部が各工程での形成パター
ンである。
(a)熱酸化等によって表面にSiO2膜を形成したS
iウェハに第1の電極101としてAQをtoooo人
スパッタリングによって形成した。この第1の電極は、
放熱構造体を兼ねており1図より明らかなように、後述
の絶縁層を介して形成される発熱体が積層される部分の
パターンは、その発熱体の通電方向に放熱により熱勾配
を持つように、その占める領域が連続的に変わっている
(b)絶縁層102として、Sio2を8000人スパ
ッタリングによって形成した。なお、このパターンを形
成する時後述する第2の電極と接続する部分とボンディ
ングバットの部分には絶縁層はつかないようにしている
(C)発熱体103として、HfB2を300OAスパ
ッタリングによって形成した。
(d)第2の電極104としてAQを10000人スパ
ッタリングによって形成した。
(e)次に発熱体保護層105としてSio2を100
00人スパッタリングによって形成した。これは主に発
熱体がインクによる化学的腐食をうけないようにするた
めのものであり、ピンホール等の欠陥が少なくなるよう
に形成される。つまりできるだけ膜厚を厚く形成される
。一方でインクへの熱伝達効率、あるいは熱ストレスの
面からはできるだけうすく形成されることが望ましく、
本発明ではそれらの最適値として、10000人を採用
している。
(f)耐キヤビテーシヨン層106としてTaを300
0人スパッタリングによって形成した。これは発生した
気泡が消滅する際の物理的な衝撃力を吸収し、発熱体部
を損傷から保護し、寿命を長くするためのものである。
(g)電極保護層107としてフォトニース(東しく株
)#りを12000人形成した。なお、説明は省略した
が、上記第14図〜第17図に説明したそれぞれの実施
例ともに、そのパターンの形成法は各層をスパッタリン
グで形成した後、ポジ型フォトレジスト0FPR(東京
応化(株)製)によってフォトリソを行ない、エツチン
グを施して各パターンを形成した。
第18図(、)〜(n)は1本発明の液体噴射記録装置
の一実施例を説明するためのものであり、製造プロセス
を順に示したものである。以下簡単に説明する。なお、
図中の枝番1は平面図で、2は1のAA断面図を各々示
す。
(a)Siウェハに熱酸化によりSiO2膜を1〜2μ
m成長させる。
(b)発熱体材料として、HfB2をスパッタリングす
る。
(C)第1電極材料としてAflをスパッタリングする
(d)リード電極のパターンになるように、フォトリソ
、エツチングによりパターンを形成する。
なお、ここでは簡単のために、平面図(d)−1では、
2素子のみを示す。
(e)フォトリソ、エツチングにより発熱体部のAQを
除去し、発熱層を露出させる。
(f)全面にSio2をスパッタリングし、M縁層を形
成する。
(g)フォトリソ、エツチングにより、コンタクトホー
ル部のSun、を除去する。
(h)第2電極材料として、AQをスパッタリングする
(i)フォトリソ、エツチングにより発熱体上、リード
電極上の一部及びポンディングパッド領域のAQを除去
する。第2電極としてAQは、本発明では放熱構造体を
兼ねているので、発熱体上のAQはすべて除去するので
はなく、AQがカバーしている領域が徐々に変化するよ
うな形状となるように除去する。なお、後述する(n)
で吐出口を形成する際に切断工程がはいるが、その際に
AQが露出しないようにAQの存在領域は切断部より右
側(発熱体側)とする。
(j)熱絶縁層及び保護層としてSio、を全面にスパ
ッタリングし、フォトリソ、エツチングによりポンディ
ングパッド部のSiO2を除去する。
(k)耐キヤビテーシヨン層として、Taをスパッタリ
ングし、フォトリソ、エツチングにより発熱体近傍をカ
バーするように形成する。
(1)リード電極部の保護層としてポリイミド層を形成
する。
(m)ドライフィルムフォトレジストをラミネートし、
フォトリソにより流路パターンを形成する。本発明では
図の左方が吐出口となるようにパターンを形成し、放熱
構造体と吐出口の位置関係が以下のようになっている。
つまり放熱構造体は吐出口側により大きな放熱作用をす
るように設けられている。
(n)蓋板をドライフィルム流路の上に接合し、吐出口
部を切断し、吐出口を完成させる。
第19図は、本発明の記録方法を用いた噴射によりイン
ク吐出量が変わる原理を理解しやすくするために、吐出
口方向に長くのびた長方形状の発熱体部と、その上(あ
るいは下)に形成されたAQの放熱構造体と、インク流
路と吐出口を示したものである。
第20図(a)〜(c)は本発明の記録方法を用いた噴
射によりインク吐出量が変わる様子を示したもので、(
a)は入力エネルギー小、(b)は入力エネルギー中、
(c)は入力エネルギー大の場合を各々示す。本発明で
は、放熱構造体が吐出口側により大きな放熱作用をする
ように形成されている。従って、第20図(a)のよう
に、発熱体への入力エネルギーが小の時は発熱体で発生
する多くの熱が瞬時に放熱構造体によってうばわれ、そ
して拡散していくため膜沸騰をおこす領域が図で示した
よう吐出口から遠い領域となり、その領域はせまく発生
する気泡も小さい。従って吐出口より噴射されるインク
滴の体積は小さく微小ドツトを形成するのに用いられる
。次いで(b)。
(c)のように徐々に入力エネルギーを増加させていく
と、具体的には、発熱体の駆動電圧を上げる、もしくは
、あまり長くならない程度である(50μsec以下)
ならばパルス幅を長くすると、放熱構造体による放熱作
用よりも発熱体による発熱作用の方が系を左右するので
、入力エネルギーに応じて膜沸騰領域が吐出口方向へ増
加していく。
つまり膜沸騰が生じる温度以上となる領域が吐出口方向
へ増加していくことにより沸騰膜が吐出口方向へインク
を押し出すように成長する。
このように形成した本発明による発熱体基板には、必要
に応じて前述のような、ポリイミドの電極保護層が0.
5〜5μm形成されている。こうしてできた本発明の発
熱体基板には第24図(、)に示した蓋基板を接合して
ヘッドとして完成する。
次に、このヘッドを用いて、駆動電圧V。を変化させ、
気泡長さlb、液柱長さljを変化させ、印写評価した
結果を、次の実施例1,2の表1゜2に示す。ここで気
泡長さQbは、第21図に示すように、液体吐出方向側
の長さをいい、液柱長さRjは同方向に伸びた液柱が吐
出口面から切れる直前の最大になった時の長さとする。
又、液柱成長速度Vjは液柱の先端部の液柱の成長速度
である。なお、実施例1,2において、ドツト径D0は
サンプル数n=3Q個の平均値である。
実施例1゜ 使用ヘッド :第18図に示したプロセスによって製作
したヘッド。
発熱体サイズ=56μmX336μm 発熱体抵抗値:13oΩ 使用インク :キヤノン社製BJ130インク(印写時
)使用液   :キヤノン社製BJ130インクと同等
物性をもつビークル(気泡長さ、液柱長さ測定時)駆動
パルス幅=10μsec 駆動周波数 :500Hz オリフィスサイズ:40μm X 30μm印写に使用
した紙:三菱製紙製NMマッドコート紙この表1より、
本発明の記録方法により5 ドツト径のサイズを変える
ことができ、階調記録ができることがわかるが、紙面上
での高精度なドツト位置精度をも確保するためには、気
泡長さI2bが、液柱長さljよりも短い条件で使用す
る必要があることがわかる。
実施例2゜ 使用ヘッド :第18図に示したプロセスによって製作
したヘッド。
発熱体サイズ: 20itmX100Itm発熱体抵抗
値=91Ω 使用インク :キヤノン社製BJ130インク(印写時
)使用液   :キヤノン社製BJ130インクと同等
物性をもつビークル(気泡長さ、液柱長さ測定時)駆動
パルス幅二6μsec 駆動周波数 :1kHz オリフィスサイズ=20μmX18μm印写に使用した
紙:三菱製紙製NMマッドコート紙(以下余白) この表2より、実施例1の場合と同様に、高精度なドツ
ト位置精度を確保して階調記録を行うには、気泡長さQ
bが、液柱長さljよりも短い条件で使用する必要があ
ることがわかる。
免−一見 以上の説明から明らかなように、本発明の記録ヘッドは
、従来より知られているバブルジェットヘッドの発熱体
部分に薄膜形成技術、フォリソ技術、フォトエツチング
技術等を用いて、平面的に放熱体を形成できるので、製
造が容易で、しかも高精度にできる。又、このようにし
て形成されたヘッドを用いて、入力エネルギーを変える
ことにより、容易に吐出インク量を制御できるため、階
調記録が可能となる。さらに、その駆動条件を選び、気
泡長さが液柱長さよりも短いような条件で使用すること
により高精度なドツト位置精度が確保でき、高画質階調
記録が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明によるバブルジェット液体噴射記録装
置の発熱部の構成を示す図、第2図は、通常の階調記録
を行わないバブルジェット液体噴射記録装置の発熱体部
構成図、第3図は、気泡発生の大きさを変える原理を説
明するための図、第4図は、入力エネルギーと気泡の大
きさの関係を示す図、第5図は、気泡の大きさと出力イ
ンク量の関係を示す図、第6図及び第7図は、それぞれ
本発明の他の実施例を示す図、第8図及び第9図は、そ
れぞれ放熱体パターンの変形例を示す図、第10図は、
本発明の他の実施例を説明するための図、第11図乃至
第13図は、更に本発明の他の実施例を説明するための
図、第14図及び第15図は、本発明の発熱体基板の製
造プロセスを示す図、第16図及び第17図は1本発明
の発熱体基板の製造プロセスの他の実施例を示す図、第
18図(a)〜(n)は1本発明による液体噴射記録装
置の放熱構造体と吐出口との位置関係を製造プロセスの
順に示した図、第19図は、放熱構造体とインク流路、
吐出口との関係を示す図、第20図(a)〜(c)は、
インク吐出量の変化する様子を示す図、第21図は、気
泡長さQbと液柱長さfljの定義を説明するための図
、第22図は、本発明が適用されるインクジェットヘッ
ドの一例としてのバブルジェットヘッドの動作説明をす
るための図、第23図は、バブルジェットヘッドの一例
を示す斜視図、第24図は、分解斜視図、第25図は、
蓋基板を裏面から見た図、第26図は、バブルジェット
記録ヘッドの詳細を説明するための図、第27図は、発
熱抵抗体を用いた気泡発生手段の構造を説明するための
図、第28図乃至第35図は、それぞれ従来の発熱体層
の構成を示す図で、第28図乃至第30図は、保護層、
蓄熱層、或いは、発熱体層の厚みを徐々に変えるように
した例、第31図乃至第35図は、発熱体層のパターン
巾を徐々に変えるようにした例を示す図である。 10・・・基板、11・・・蓄熱層、12・・・発熱体
層、13・・・制御電極、14・・・アース電極、15
・・・保護層、16・・・放熱体、17・・・絶縁層、
18・・・発生気泡。 第1区 IQ) 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 IQノ (aン (b) 篤 図 第 図 第 図 とσノ (b) 第 図 1.5 第 図 第 図 第 図 (dコーl 第 図 第 図 (Iλ−1 <kr−1 第 図 (1ン −l 第 1つ 図 第 図 第21図 第 図 (d) O#== 第 図 第 図 第 図 第 図 IQ) (bン 第 図 第 図 第 2つ 区

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、液体を吐出して飛翔的液滴を形成するための吐出口
    と、前記液体を吐出するために前記液体に熱による状態
    変化を生じせしめるための電気熱変換体層と、該電気熱
    変換体層に電気的に接続される1対の電極とを有する液
    体噴射記録ヘッドを使用する液体噴射記録方法であって
    、画像情報に応じて入力エネルギーを変え、前記電気熱
    変換体層上において通電方向に熱勾配を生じせしめ、前
    記電気熱変換体層上で発生する気泡の大きさを変えて前
    記吐出口より吐出する液体の量を変えて記録する方法に
    おいて、前記気泡の液体吐出方向側の長さをlb、同方
    向に伸びた液柱が切れる直前の最大になった時の長さを
    ljとするとき、lj>lbとなる条件の時に記録を行
    うことを特徴とする液体噴射記録方法。 2、液体を吐出して飛翔的液滴を形成するための吐出口
    と、前記液体を吐出するために前記液体に熱による状態
    変化を生じせしめるための電気熱変換体層と、該電気熱
    変換体層に電気的に接続される1対の電極とを有する液
    体噴射記録ヘッドを使用する液体噴射記録方法であって
    、画像情報に応じて入力エネルギーを変え、前記電気熱
    変換体層の下において通電方向に熱勾配を生じせしめ、
    前記電気熱変換体層上で発生する気泡の大きさを変えて
    前記吐出口より吐出する液体の量を変えて記録する方法
    において、前記気泡の液体吐出方向側の長さをlb、同
    方向に伸びた液柱が切れる直前の最大になった時の長さ
    をljとするとき、lj>lbとなる条件の時に記録を
    行うことを特徴とする液体噴射記録方法。
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