JPH04152148A - Glazed substrate - Google Patents

Glazed substrate

Info

Publication number
JPH04152148A
JPH04152148A JP27816690A JP27816690A JPH04152148A JP H04152148 A JPH04152148 A JP H04152148A JP 27816690 A JP27816690 A JP 27816690A JP 27816690 A JP27816690 A JP 27816690A JP H04152148 A JPH04152148 A JP H04152148A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
thermal conductivity
glazed
glass
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27816690A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideyuki Kuribayashi
栗林 秀行
Tomoyuki Taguchi
智之 田口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamamura Glass KK
Original Assignee
Yamamura Glass KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yamamura Glass KK filed Critical Yamamura Glass KK
Priority to JP27816690A priority Critical patent/JPH04152148A/en
Publication of JPH04152148A publication Critical patent/JPH04152148A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a glazed substrate having a low thermal conductivity by providing an interposed layer having a low thermal conductivity between a glaze glass layer forming a topmost layer and a substrate body. CONSTITUTION:Between a glaze glass layer forming a topmost layer and a substrate body, an interposed layer having a thermal conductivity lower than that of either of the aforesaid glaze glass layer and substrate body is provided. The interposed layer is a low-thermal conductivity layer in which fine pores are dispersed. On the aforesaid glaze glass layer, a heating element is pattern- printed as an integrated circuit. In addition, since a heat generated by the heating element pattern-printed on the glaze glass layer is sufficiently inhibited from diffusing by the presence of the interposed layer, required temperature and heating value can be held in the heating element part with a low electric power and a low heating value.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は表面に電子回路パターンや発熱体パターン等を
構成するのに用いられるグレーズド基板に関し、例えば
サーマルプリンター等のサーマルヘッドに効果的に使用
することができるグレーズド基板に関する。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention relates to a glazed substrate used for configuring an electronic circuit pattern, a heating element pattern, etc. on the surface thereof, and is effectively used, for example, in a thermal head such as a thermal printer. The present invention relates to a glazed substrate that can be used.

〈従来の技術とその課題〉 近年、サーマルプリンターの高速化、高性能化に伴い、
そのプリンターヘッドに用いられるグレーズド基板に対
しても高性能、高性質化が要求されている。例えば表面
の高平滑性、高耐熱性、高電気絶縁性等がそれである。
<Conventional technology and its challenges> In recent years, with the increase in speed and performance of thermal printers,
Glazed substrates used in printer heads are also required to have high performance and properties. Examples include high surface smoothness, high heat resistance, and high electrical insulation.

これらの要求に対して、従来、例えば特公昭60−55
453号、特公昭6343330号、特開昭61−13
6937号等にグレーズガラスの組成を調整した種々の
提案がなされている。
In response to these demands, conventionally, for example,
No. 453, JP 6343330, JP 61-13
Various proposals have been made for adjusting the composition of glaze glass, such as in No. 6937.

一方、サーマルプリンタヘッドに用いられるグレーズド
基板の今1つの性質として、省エネルギー等の観点から
、表面に発生せられる熱が逃散し難い低熱伝導性のグレ
ーズド基板が最近要求されるようになった。
On the other hand, as another characteristic of glazed substrates used in thermal printer heads, from the viewpoint of energy saving, etc., there has recently been a demand for glazed substrates with low thermal conductivity, from which heat generated on the surface is difficult to dissipate.

ところがこの低熱伝導性の要求を満たす組成をもつグレ
ーズガラスは、多くの研究者によるも未だ提供されてい
ない。というのは、ガラスは一般的にいって、低熱伝導
率材料であるが、その値は2 X 10−’cat/g
、sec、cm’C程度であり、これよりもさらに5割
程度以上も低い熱伝導率を上記高平滑性、高耐熱性、高
電気絶縁性等の諸性能を維持しつつ達成することはかな
り困難なことであるからである。
However, many researchers have not yet provided a glaze glass having a composition that satisfies this requirement for low thermal conductivity. This is because glass is generally a material with low thermal conductivity, and its value is 2 x 10-'cat/g.
, sec, cm'C, and it is quite difficult to achieve a thermal conductivity that is about 50% or more lower than this while maintaining the above-mentioned properties such as high smoothness, high heat resistance, and high electrical insulation. This is because it is difficult.

そこで本発明は、要求される緒特性を保持しつつ、かつ
従来に比べて十分に低い熱伝導率を有するグレーズド基
板の提供を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a glazed substrate that maintains the required thermal properties and has a thermal conductivity sufficiently lower than that of conventional substrates.

〈課題を解決するための手段〉 上記目的を達成するため、本発明者はグレーズガラスの
組成や処理法等を彼此調整する従来の発想を転換し、基
板本体上に複数層を積層した複層のグレーズド基板とす
ることにより、低熱伝導率をはこる本発明のグレーズド
基板を発明した。すなわち、本発明のグレーズド基板は
、最表面層を形成するグレーズガラス層と基板本体との
間に、前記グレーズガラス層および基板本体よりも低熱
伝導率の介在層を設けたことを第1の特徴としている。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present inventor changed the conventional idea of adjusting the composition and processing method of glaze glass, and developed a multilayer structure in which multiple layers are laminated on the substrate body. The glazed substrate of the present invention has low thermal conductivity. That is, the first feature of the glazed substrate of the present invention is that an intervening layer having a lower thermal conductivity than the glazed glass layer and the substrate body is provided between the glazed glass layer forming the outermost surface layer and the substrate body. It is said that

また本発明のグレーズド基板は上記第1の特徴に加えて
、介在層が層内に微細孔を分散させた低熱伝導層である
ことを第2の特徴としている。
In addition to the first feature, the glazed substrate of the present invention has a second feature in that the intervening layer is a low thermal conductivity layer in which fine pores are dispersed.

また本発明のグレーズド基板は、上記第1又は第2の特
徴に加えて、グレーズガラス層上に集積回路として発熱
体がパターン印刷されることを第3の特徴としている。
In addition to the first or second feature, the glazed substrate of the present invention has a third feature in that a heating element is pattern-printed as an integrated circuit on the glazed glass layer.

上記本発明の第1の特徴によれば、グレーズガラス層に
生じる熱が拡散するのを介在層が抑制する。よって発生
する熱量が少なくても、その部分を効果的に高温とする
ことができる。
According to the first feature of the present invention, the intervening layer suppresses diffusion of heat generated in the glaze glass layer. Therefore, even if the amount of heat generated is small, that part can be effectively heated to a high temperature.

また上記本発明の第2の特徴によれば、介在層は微細孔
を分散させた状態に形成しているので、該微細孔の存在
により熱伝導率を物理的に低下させることができ、介在
層の材質そのものを調整する必要がなくなり、或いはわ
ずかな調整ですむ。
Further, according to the second feature of the present invention, since the intervening layer is formed with fine pores dispersed therein, the thermal conductivity can be physically reduced due to the presence of the fine pores, and the intervening layer can physically reduce the thermal conductivity. There is no need to adjust the material of the layer itself, or only a slight adjustment is required.

よって広範な種々の材質のものを介在層として用いるこ
とができる。また他の必要とされる性質のために材質や
成分を調整したものを介在層用に用いることができる。
Therefore, a wide variety of materials can be used for the intervening layer. Furthermore, materials whose materials and components are adjusted to meet other required properties can be used for the intervening layer.

なおもしグレーズガラス層そのものに微細孔を分散させ
る場合には、グレーズガラス層表面の平滑性等が失われ
てしまう。
If micropores are dispersed in the glaze glass layer itself, the surface smoothness of the glaze glass layer will be lost.

また上記本発明の第3の特徴によれば、パターン印刷さ
れる発熱体で発生する熱の拡散が介在層の存在によって
十分に抑制されるので、低電力、低発熱量で所要の温度
、熱量を発熱体部に保持させることができる。
Furthermore, according to the third feature of the present invention, the diffusion of heat generated in the pattern-printed heating element is sufficiently suppressed by the presence of the intervening layer, so that the required temperature and amount of heat can be achieved with low power and low calorific value. can be held in the heating element.

第1図に本発明のグレーズド基板の断面構成図を示す。FIG. 1 shows a cross-sectional configuration diagram of a glazed substrate of the present invention.

1はグレーズガラス層、2は介在層、3は基板本体であ
る。グレーズド基板上には図示しない発熱体パターンや
その他の電子回路パターンが印刷されることになる。
1 is a glazed glass layer, 2 is an intervening layer, and 3 is a substrate body. A heating element pattern and other electronic circuit patterns (not shown) are printed on the glazed substrate.

前記グレーズガラス層Iを形成するグレーズガラスとし
ては、例えば無アルカリガラスや鉛含有ガラス等を用い
ることができるが、その他、ガラスの材質や処理方法が
特に限定されるものではない。勿論、グレーズガラスと
しては表面の平滑性のよいもの、電子回路用には電気絶
縁性のよいもの、また特にサーマルヘッドの部分として
はそれらに加えて耐熱性のよいものを用いることになる
前記基板本体3としては、例えばアルミナ基板を用いる
ことができるが、その他、セラミック、ガラス等、一般
に電子回路基板として用いられる種々の材質のものを用
いることができる。
As the glaze glass forming the glaze glass layer I, for example, alkali-free glass, lead-containing glass, etc. can be used, but the material of the glass and the processing method are not particularly limited. Of course, as the glaze glass, one with good surface smoothness, one with good electrical insulation properties for electronic circuits, and especially for the part of the thermal head, in addition to these, one with good heat resistance is used. As the main body 3, an alumina substrate can be used, for example, but other materials such as ceramic, glass, and various other materials that are generally used for electronic circuit boards can also be used.

前記介在層2は既に述べたように、グレーズガラス層1
及び基板本体3よりも低い熱伝導率とする。熱伝導率は
低い程、グレーズガラス層1の熱を逃げ難くできるので
、好ましい。
As already mentioned, the intervening layer 2 is the glaze glass layer 1.
And the thermal conductivity is lower than that of the substrate body 3. The lower the thermal conductivity, the more difficult it is for heat to escape from the glaze glass layer 1, which is preferable.

この介在層2をガラス組成で形成する場合には、層内に
微細孔を分散させたガラス層とする。既に述べたように
ガラスの熱伝導率は一般的に2×10−”cal/g、
sec、cmt程度であり、組成的な調整で熱伝導率を
大きく低減することは実質的に難しい。本発明者はこの
問題を解決するのに層内に微細孔を分散させることで、
物理的に熱伝導率を低減させるようにしたのである。物
理的な手段で低熱伝導率としているので、介在層3の成
分としてはその成分を調整する必要が少ない、よって介
在層3の成分としては、他に必要な特性、性質に合わせ
ることができる。
When this intervening layer 2 is formed of a glass composition, it is a glass layer in which fine pores are dispersed. As already mentioned, the thermal conductivity of glass is generally 2×10-”cal/g,
sec, cmt, and it is substantially difficult to significantly reduce the thermal conductivity by compositional adjustment. The present inventor solved this problem by distributing micropores within the layer.
This was done to physically reduce the thermal conductivity. Since the thermal conductivity is made low by physical means, there is little need to adjust the components of the intervening layer 3. Therefore, the components of the intervening layer 3 can be adjusted to other required characteristics and properties.

前記微細孔を分散させた介在層2としては、ガラス組成
にジルコニア、フォルステライト、その他の各種添加物
を加えたものとしてもよい。同様に微細孔を分散させた
介在層2として、例えばジルコニア、フォルステライト
などの低熱伝導率の酸化物セラミック、その他のセラミ
ックを用いることができる。
The intervening layer 2 in which the fine pores are dispersed may be made by adding zirconia, forsterite, or other various additives to the glass composition. Similarly, as the intervening layer 2 in which micropores are dispersed, oxide ceramics with low thermal conductivity such as zirconia and forsterite, and other ceramics can be used.

前記介在層2内に微細孔を分散させる手段としては種々
の手段を用いることができる。例えば、5iJa 、S
iC、WC等の非酸化物セラミック粉末、硫酸塩、炭酸
塩、硝酸塩、アンモニウム塩、高分子樹脂粉末、有機溶
剤を発泡材として用い、これを原料ガラスや原料セラミ
ックと混合した後、焼成することによって、層内に微細
孔を分散して生せしめることができる。すなわち原料ガ
ラスや原料セラミックと発泡材を混合したペーストを基
板本体上に積層した後、焼成すればよい。また微細孔の
分散手段の他の例として、介在層2をプラズマ溶射やそ
の他の物理的方法により、基板本体3上に介在層2を積
層し、同時に組織欠陥としての微細孔を導入することも
できる。このように微細孔を介在層2内に生ぜしめる手
段は特に限定されるものではない。また微細孔の大きさ
も、熱伝導率に影響を与える範囲内で特に限定されるも
のではない。
Various means can be used to disperse micropores within the intervening layer 2. For example, 5iJa, S
Non-oxide ceramic powders such as iC and WC, sulfates, carbonates, nitrates, ammonium salts, polymer resin powders, and organic solvents are used as foaming materials, and this is mixed with raw glass and raw ceramics and then fired. This allows fine pores to be dispersed within the layer. That is, a paste prepared by mixing raw material glass or raw material ceramic with foaming material may be laminated on the substrate body and then fired. As another example of the means for dispersing micropores, the intervening layer 2 may be laminated on the substrate body 3 by plasma spraying or other physical methods, and micropores as structural defects may be introduced at the same time. can. The means for creating micropores in the intervening layer 2 in this way is not particularly limited. Further, the size of the micropores is not particularly limited as long as it affects the thermal conductivity.

介在層2としては、グレーズガラス1の焼成時に、その
焼成温度(1000〜1300℃)でグレーズガラス1
と反応しないもの、溶けたり軟化(変形)しないもの、
或いは又発泡したりしないものが好ましい。反応すると
グレーズガラスの性質が変更され、絶縁性やその他の性
質が悪くなり、また溶けたり軟化したり発泡したりする
とその上に積層されるグレーズガラスの平滑性に悪影響
を及ぼすからである。上記グレーズガラスの焼成温度(
1000〜1300℃)で耐熱性を有することができる
介在層2としては、ガラス質では結晶化ガラス、及びそ
れに無機物を添加したもの、またセラミックではジルコ
ニア、フォルステライトなどの酸化物セラミックを好ま
しく用いることができる。
As the intervening layer 2, when the glaze glass 1 is fired, the glaze glass 1 is
Things that do not react with, things that do not melt or soften (deform),
Alternatively, it is preferable to use a material that does not foam. This is because the properties of the glaze glass change when it reacts, deteriorating its insulation and other properties, and when it melts, softens, or foams, it adversely affects the smoothness of the glaze glass laminated thereon. Firing temperature of the above glaze glass (
As the intervening layer 2 that can have heat resistance at temperatures of 1,000 to 1,300° C., it is preferable to use crystallized glass and those to which inorganic substances are added as vitreous materials, and oxide ceramics such as zirconia and forsterite as ceramic materials. I can do it.

前記介在層2に用いる場合の結晶化ガラスは、グレーズ
ガラス層1が無アルカリ系ガラスの場合にはその焼成温
度が1100℃以上であるため、1100℃以上の耐熱
温度を有する結晶化ガラスであることが好ましい。また
グレーズガラス層1が鉛含有の無アルカリ系ガラスの場
合にはその焼成温度が900℃以上であるため、900
℃以上でも耐熱性のある結晶化ガラスが好ましい。
The crystallized glass used for the intervening layer 2 is a crystallized glass having a heat resistance temperature of 1100° C. or higher, since the firing temperature is 1100° C. or higher when the glaze glass layer 1 is alkali-free glass. It is preferable. In addition, when the glaze glass layer 1 is made of lead-containing alkali-free glass, the firing temperature is 900°C or higher.
Crystallized glass that is heat resistant even at temperatures above .degree. C. is preferred.

介在層2に微細孔を分散させるのは、介在層2の熱伝導
率を効果的に低下させるためであり、従って他の物理的
、化学的手段で介在層2の熱伝導率を低くすることがで
きれば、微細孔を用いる必要はない。例えば微細孔の代
わりに微細な析出物、晶出物、その他の異物を物理的、
化学的に分散させたものであってもよい、また材質それ
自体が十分低熱伝導率の材料であれば、前記微細孔や異
物等を必要とせず、材料そのものを特別な処理を施すと
こなく介在層2として用いることができるグレーズガラ
ス層1と介在層2は基板本体1に対して熱膨張係数が近
いことが好ましい。でないと、焼成時やその他の使用時
における熱変動により、基板に反りや変形が生じたり、
グレーズガラス層1にクラックが入ったりする問題が生
じる。
The purpose of dispersing the micropores in the intervening layer 2 is to effectively reduce the thermal conductivity of the intervening layer 2, and therefore the thermal conductivity of the intervening layer 2 may be lowered by other physical or chemical means. If possible, there is no need to use micropores. For example, instead of micropores, fine precipitates, crystallized substances, and other foreign substances can be physically removed.
It may be chemically dispersed, and if the material itself has a sufficiently low thermal conductivity, the above-mentioned micropores and foreign substances are not necessary, and the material itself can be dispersed without special treatment. It is preferable that the glaze glass layer 1 and the intervening layer 2, which can be used as the layer 2, have a coefficient of thermal expansion close to that of the substrate body 1. Otherwise, the substrate may warp or deform due to thermal fluctuations during firing or other uses.
A problem arises in that the glaze glass layer 1 cracks.

例えば基板本体3がアルミナの場合には、介在層2の熱
膨張係数は40〜80X10−’/ ’C(常温〜40
0℃)が好ましい。
For example, when the substrate body 3 is made of alumina, the thermal expansion coefficient of the intervening layer 2 is 40 to 80X10-'/'C (room temperature to 40
0°C) is preferred.

基板本体3に介在層2及びグレーズガラス層1を積層す
る手段としては、基板本体3に対してまずペースト状に
したガラスやセラミックからなる介在層材料を積層し、
これを乾燥焼成し、次にグレーズガラス材料のペースト
をその上に積層し、乾燥、焼成して積層を完成すること
ができる。また結晶化温度の低い結晶化ガラスを介在層
材料に用いることにより、介在層2とグレーズガラス層
の焼成を同時に一工程で完了することもできる。
As a means for laminating the intervening layer 2 and the glaze glass layer 1 on the substrate main body 3, first, an intervening layer material made of paste-like glass or ceramic is laminated on the substrate main body 3;
This can be dried and fired, then a paste of glazed glass material can be laminated thereon, dried and fired to complete the lamination. Further, by using crystallized glass having a low crystallization temperature as the intervening layer material, the intervening layer 2 and the glaze glass layer can be fired simultaneously in one step.

この場合には、まずペースト化した介在層材料を基板本
体3に積層、乾燥し、次にその上にペースト化したグレ
ーズガラス材料を積層し、全体を同時焼成する。さらに
積層手段としては、基板本体3上に介在層2をプラズマ
溶射等の物理的方法や化学的方法で積層した後、ペース
ト状のグレーズガラス材料を積層、焼成してもよい。こ
のように基板本体3上への介在層2、グレーズガラス層
1の積層の方法は種々の方法が可能であり、方法が限定
されるものではない。
In this case, a paste-formed intervening layer material is first laminated on the substrate body 3 and dried, then a paste-formed glaze glass material is laminated thereon, and the whole is simultaneously fired. Further, as a laminating means, after laminating the intervening layer 2 on the substrate body 3 by a physical method such as plasma spraying or a chemical method, a paste-like glaze glass material may be laminated and fired. As described above, various methods can be used for laminating the intervening layer 2 and the glaze glass layer 1 on the substrate body 3, and the method is not limited.

基板本体3上への前記介在層2、グレーズガラス層1の
積層高さは特に限定されるものではなく、使用用途に応
じて適当に変更される。また基板本体3上への積層厚が
定められている場合は、グレーズガラス層1に必要な最
低限以外は介在層2で構成することにより、グレーズガ
ラス層1の小量化、及び基板全体としての低熱伝導化を
一層図ることができる。
The stacking height of the intervening layer 2 and the glaze glass layer 1 on the substrate body 3 is not particularly limited, and may be appropriately changed depending on the intended use. In addition, when the thickness of the lamination on the substrate body 3 is determined, by configuring the intervening layer 2 except for the minimum required for the glaze glass layer 1, it is possible to reduce the amount of the glaze glass layer 1 and to increase the overall thickness of the substrate. It is possible to further reduce thermal conductivity.

〈実施例〉 (1)、介在層2用に無アルカリ結晶化ガラスを用い、
この無アルカリ結晶化ガラスとして、重量%で、5iO
z45χ、A1zOi20χ、Ca020χ、TtOz
lOχ、Mg02X、 B20:11χ、ZnO2χに
、耐熱性向上のためジルコニア(ZrOz  8mol
χYzoz)2χを添加、及び有機溶剤(発泡材として
)のアセトン5%を添加した。そして得た混合粉末をボ
ールミルで20時間粉砕し、平均粒径を5μmとした。
<Example> (1) Using alkali-free crystallized glass for the intervening layer 2,
As this alkali-free crystallized glass, 5iO
z45χ, A1zOi20χ, Ca020χ, TtOz
Zirconia (ZrOz 8mol
χYzoz)2χ was added, and 5% of acetone as an organic solvent (as a foaming agent) was added. The obtained mixed powder was then ground in a ball mill for 20 hours to give an average particle size of 5 μm.

そして有機バインダーとしてエチルセルロース、溶剤と
してターピネオールを加え、三本ロールで分散、混練し
てペースト状とした。得たペーストをアルミナ製の基板
本体3に10μm積層し、乾燥させた。
Then, ethyl cellulose was added as an organic binder and terpineol was added as a solvent, and the mixture was dispersed and kneaded using three rolls to form a paste. The obtained paste was laminated to a thickness of 10 μm on an alumina substrate body 3 and dried.

一方、ブレースガラス層1用に無アルカリガラスを用い
、この無アルカリガラスとして、重量%で、5ioz5
1.15χ、At2oz6.14χ、BzO+5.12
2 、 Ca010.2X 、 Ba025.58χ、
ZnO1,79X含むものを、ボールミルで同様に粉砕
し、平均粒径を5μmとした。そして同様にエチルセル
ロース、ターピネオールを加え、混練してペースト状に
した。このペーストを先に積層、乾燥させた介在層用ペ
ーストの上に30μm印刷積層し、1200℃で2時間
同時焼成した。
On the other hand, an alkali-free glass was used for the brace glass layer 1, and the alkali-free glass contained 5ioz5 in weight%.
1.15χ, At2oz6.14χ, BzO+5.12
2, Ca010.2X, Ba025.58χ,
A material containing ZnO1,79X was ground in the same manner using a ball mill to give an average particle size of 5 μm. Then, ethylcellulose and terpineol were added in the same manner and kneaded to form a paste. This paste was printed and laminated to a thickness of 30 μm on top of the previously laminated and dried intervening layer paste, and co-fired at 1200° C. for 2 hours.

結果、得られたグレーズド基板の表面には泡、突起物、
失透等の外観上の欠点が発生しておらず、しかも熱伝導
率は1.OX 10−’cat/g、sec、c++’
cで、グレーズガラス層だけの場合の値2.OXl0−
3cal/g、sec、cm’cに比べて約半分以下と
なった。
As a result, the surface of the obtained glazed substrate had bubbles, protrusions,
There are no appearance defects such as devitrification, and the thermal conductivity is 1. OX 10-'cat/g, sec, c++'
c, the value for the case of only the glaze glass layer is 2. OXl0-
It was about half or less compared to 3cal/g, sec, cm'c.

(2)、ジルコニア粉末(ZrO,−8molχ’bo
z) 2%に微量の微粉SiCを1%添加し、湿式混合
して均一分散させた後、ペースト化し、これをアルミナ
製基板本体上面に10μmの厚みにスクリーン印刷した
。そしてこれを1300℃で2時間焼成した後、上記実
施例(1)と同様にグレーズガラスを30μmスクリー
ン印刷し、1200℃で2時間焼成した。
(2) Zirconia powder (ZrO, -8molχ'bo
z) A trace amount of fine powder SiC (1%) was added to 2%, wet-mixed to uniformly disperse it, and then made into a paste, which was screen printed to a thickness of 10 μm on the upper surface of the alumina substrate body. After baking this at 1300° C. for 2 hours, a 30 μm glaze glass was screen printed in the same manner as in Example (1) above, and baking was done at 1200° C. for 2 hours.

結果、得られたグレーズド基板は、その表面の平滑性、
絶縁性、耐熱性がグレーズガラス層だけの場合に比べて
劣ることなく、しかもグレーズガラス層だけの場合に比
べて熱伝導率を半分以下とすることができた。
As a result, the obtained glazed substrate has a smooth surface,
The insulation and heat resistance were not inferior to those using only the glazed glass layer, and the thermal conductivity was less than half that of the glazed glass layer only.

(3)、ジルコニア微粉末をプラズマ溶射によりアルミ
ナ製基板本体上面に10μm積層し、その上に実施例(
1)の場合と同様にグレーズガラスを30μmスクリー
ン印刷し、焼成した。
(3) A zirconia fine powder was laminated to a thickness of 10 μm on the top surface of the alumina substrate body by plasma spraying, and the Example (
Glaze glass was screen printed to a thickness of 30 μm and fired in the same manner as in 1).

結果、従来のグレーズガラス層だけの場合に比べて、平
滑性、絶縁性、耐熱性が劣らず、熱伝導率を半分以下と
することができた。
As a result, compared to the case of only a conventional glazed glass layer, smoothness, insulation properties, and heat resistance were not inferior, and thermal conductivity could be reduced to less than half.

〈効果〉 本発明は以上の構成、作用よりなり、請求項1に記載の
グレーズド基板によれば、最表面層を形成するグレーズ
ガラス層と基板本体との間に、前記グレーズガラス層及
び基板本体よりも低熱伝導率の介在層を設けたので、該
介在層によってグレーズガラス層の熱の拡散を効果的に
抑制することができ、その結果、表面の熱伝導率が従来
に比べて十分に小さく、加えられるわずかな熱が効果的
に利用できる省エネルギーのグレーズド基板の提供が可
能となった。
<Effects> The present invention has the above configuration and operation, and according to the glazed substrate according to claim 1, the glazed glass layer and the substrate body are provided between the glazed glass layer forming the outermost surface layer and the substrate body. Since we have provided an intervening layer with a lower thermal conductivity than that of the glazed glass layer, the intervening layer can effectively suppress the diffusion of heat in the glazed glass layer, and as a result, the thermal conductivity of the surface is sufficiently lower than that of the conventional method. It has now become possible to provide an energy-saving glazed substrate that can effectively utilize the small amount of heat that is applied.

また請求項2に記載のグレーズド基板によれば、請求項
1に記載の構成による効果に加えて、微細孔の導入によ
り伝導率を物理的に低減せしめたので、介在層自体の成
分や材質そのものにあまり限定されることなく低熱伝導
率を達成できる。よって広範な種々の材質のものを利用
できると共に、要求される基板材料としての他の特性に
対しても十分対応できる材料を用いることができる。
Further, according to the glazed substrate according to claim 2, in addition to the effect of the structure according to claim 1, the conductivity is physically reduced by introducing micropores, so that the components and materials of the intervening layer themselves can be reduced. Low thermal conductivity can be achieved without being too limited by Therefore, not only can a wide variety of materials be used, but also materials that can sufficiently meet other characteristics required as a substrate material can be used.

また請求項3に記載のグレーズド基板によれば、請求項
1.2に記載の構成による効果に加えて、発熱体が発生
する熱の拡散が効果的に抑制され、発熱体に発生する熱
量をロスすることなく利用できる。
Further, according to the glazed substrate according to claim 3, in addition to the effects achieved by the configuration according to claim 1.2, the diffusion of heat generated by the heating element is effectively suppressed, and the amount of heat generated in the heating element is reduced. It can be used without loss.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係るグレーズド基板の縦断面構成図で
ある。 1:グレーズドガラス層 2:介在層 3:基板本体
FIG. 1 is a vertical cross-sectional configuration diagram of a glazed substrate according to the present invention. 1: Glazed glass layer 2: Intervening layer 3: Substrate body

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)最表面層を形成するグレーズガラス層と基板本体
との間に、前記グレーズガラス層および基板本体よりも
低熱伝導率の介在層を設けたことを特徴とするグレーズ
ド基板。
(1) A glazed substrate characterized in that an intervening layer having a lower thermal conductivity than the glazed glass layer and the substrate body is provided between the glazed glass layer forming the outermost surface layer and the substrate body.
(2)介在層が層内に微細孔を分散させた低熱伝導率層
である請求項1に記載のグレーズド基板。
(2) The glazed substrate according to claim 1, wherein the intervening layer is a low thermal conductivity layer in which micropores are dispersed.
(3)グレーズガラス層上に集積回路として発熱体がパ
ターン印刷される請求項1又は2に記載のグレーズド基
板。
(3) The glazed substrate according to claim 1 or 2, wherein a heating element is pattern-printed as an integrated circuit on the glazed glass layer.
JP27816690A 1990-10-17 1990-10-17 Glazed substrate Pending JPH04152148A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27816690A JPH04152148A (en) 1990-10-17 1990-10-17 Glazed substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27816690A JPH04152148A (en) 1990-10-17 1990-10-17 Glazed substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04152148A true JPH04152148A (en) 1992-05-26

Family

ID=17593511

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27816690A Pending JPH04152148A (en) 1990-10-17 1990-10-17 Glazed substrate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04152148A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4396682A (en) Glazed ceramic substrate
KR950002963B1 (en) Multi-layer wiring board
US6776861B2 (en) Tape composition and process for internally constrained sintering of low temperature co-fired ceramic
US4849380A (en) Dielectric composition
US5458709A (en) Process for manufacturing multi-layer glass ceramic substrate
JPH0361359B2 (en)
JP3226281B2 (en) Conductive via-filled ink for ceramic multilayer circuit boards on support substrates
US5164342A (en) Low dielectric, low temperature fired glass ceramics
US6827800B2 (en) Process for the constrained sintering of asymmetrically configured dielectric layers
EP1435651B1 (en) Process for the constrained sintering of asymetrically configured dielectric layers
EP1658969A2 (en) Process for the constrained sintering of a pseudo-symmetrically configured low temperature cofired ceramic structure
KR100755547B1 (en) Process for the constrained sintering of a pseudo-symmetrically configured low temperature cofired ceramic structure
US5397830A (en) Dielectric materials
EP1658967A2 (en) Process for the constrained sintering of a pseudo-symmetrically configured low temperature cofired ceramic structure
JPH04152148A (en) Glazed substrate
JPS62278145A (en) Sintered material of glass ceramic
US5792716A (en) Thick film having acid resistance
JP2004182510A (en) Glass frit mixture, electronic circuit board manufacturing method and electronic circuit board
JP3152696B2 (en) Glaze substrate and method of manufacturing the same
JP2004175645A (en) Glass frit mixture, electronic circuit board manufacturing method and electronic circuit board
JP3241537B2 (en) Glass ceramic substrate
JPH029473B2 (en)
JP2005179079A (en) Non-lead glass ceramic composition for low temperature firing substrate
JPH07267762A (en) Glazed substrate for thin film and method of manufacturing the same
JPH02217263A (en) Manufacture of thermal head