JPH04152606A - 磁界発生装置 - Google Patents
磁界発生装置Info
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- JPH04152606A JPH04152606A JP27813790A JP27813790A JPH04152606A JP H04152606 A JPH04152606 A JP H04152606A JP 27813790 A JP27813790 A JP 27813790A JP 27813790 A JP27813790 A JP 27813790A JP H04152606 A JPH04152606 A JP H04152606A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、被検体の断層像を撮影する核磁気共鳴撮像装
置（以下、ＭＨＩ装置と呼ぶ）などに用いられる広い空
隙内に高強度かつ高精度で均一な静磁場を発生させる磁
界発生装置に関する。
置（以下、ＭＨＩ装置と呼ぶ）などに用いられる広い空
隙内に高強度かつ高精度で均一な静磁場を発生させる磁
界発生装置に関する。
［従来の技術］
ＭＨＩ装置における磁界発生手段としては、永久磁石方
式、常電導磁石方式、超電導磁石方式の３方式があるが
、この中で、永久磁石方式は電力やヘリウムの消費を伴
わないため最も経済的である。さらに近年、強い磁力を
持つ希土類磁石の出現と信号検出装置の性能およびイメ
ージング技術の向上によって永久磁石方式ＭＲ工装置の
可能性が高まってきている。
式、常電導磁石方式、超電導磁石方式の３方式があるが
、この中で、永久磁石方式は電力やヘリウムの消費を伴
わないため最も経済的である。さらに近年、強い磁力を
持つ希土類磁石の出現と信号検出装置の性能およびイメ
ージング技術の向上によって永久磁石方式ＭＲ工装置の
可能性が高まってきている。
ＭＨＩ装置では静磁場の強度と均一性が撮影画像の画質
に影響を及ぼすため、被検体が挿入される空隙中心付近
に高強度かつ１０−′以下の精度で均一な磁界が要求さ
れる。この厳しい条件を満たすため、従来は第２図に示
す基本的な磁気回路において、特開昭６２−２５６４１
６に開示される如く、希土類磁石で構成された一対の上
下永久磁石部の対向面が空隙に対して凹状湾曲面を形成
するように配置して、空隙中心付近に高強度磁場を発生
させていた。または、特開昭８３−２４１９０５に開示
される如く、ポールピースの一部をポールピース側面に
略垂直方向に積層した磁性板の積層構造として、空隙中
心付近に高強度な均一磁場を発生させていた。
に影響を及ぼすため、被検体が挿入される空隙中心付近
に高強度かつ１０−′以下の精度で均一な磁界が要求さ
れる。この厳しい条件を満たすため、従来は第２図に示
す基本的な磁気回路において、特開昭６２−２５６４１
６に開示される如く、希土類磁石で構成された一対の上
下永久磁石部の対向面が空隙に対して凹状湾曲面を形成
するように配置して、空隙中心付近に高強度磁場を発生
させていた。または、特開昭８３−２４１９０５に開示
される如く、ポールピースの一部をポールピース側面に
略垂直方向に積層した磁性板の積層構造として、空隙中
心付近に高強度な均一磁場を発生させていた。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、前述の従来技術のように、永久磁石を凹状湾曲
状に構成したり磁性板を積層構造にすることは製造が困
難であり、組立精度にも悪影響を与える可能性が大きい
。
状に構成したり磁性板を積層構造にすることは製造が困
難であり、組立精度にも悪影響を与える可能性が大きい
。
そこで本発明の目的とするところは、従来と同量の磁石
材料を用いて、空隙中心付近により高強度な均一磁場を
発生させることが可能で、かつ従来技術より製造が容易
な構造の磁気回路を提案することである。
材料を用いて、空隙中心付近により高強度な均一磁場を
発生させることが可能で、かつ従来技術より製造が容易
な構造の磁気回路を提案することである。
［課題を解決するための手段］
本発明の磁界発生装置は、空隙を形成して対向する一対
の永久磁石部と該永久磁石部に固着した一対のポールピ
ースをヨークと支柱で磁気的結合し、この構造により前
記空隙に磁界を発生させる磁界発生装置において、前記
永久磁石部は中央部より周縁部の方が肉厚に形成されて
いることを特徴とする。
の永久磁石部と該永久磁石部に固着した一対のポールピ
ースをヨークと支柱で磁気的結合し、この構造により前
記空隙に磁界を発生させる磁界発生装置において、前記
永久磁石部は中央部より周縁部の方が肉厚に形成されて
いることを特徴とする。
［実施例コ
第１図は本発明の実施例における磁界発生装置に用いる
磁気回路を示す説明図である。磁気回路は、空隙５を形
成して対向する一対の永久磁石部１と該永久磁石部１に
固着した一対の磁界調整用ポールピース２を板状ヨーク
３と支柱４で磁気的結合した構造から成る。ここで前記
永久磁石部１の周縁部１２の厚さｔ２は中央部１１の厚
さｔｌより肉厚となるように組み立てられている。具体
的には、まずｔｌの厚さの円盤状の永久磁石部を構成し
、次に外側部分にのみ磁石を増やして厚さｔ２の周縁部
を構成した。またポールピース２は板状の純鉄を切削し
表面加工しただけの簡単な方法により製造したものであ
る。
磁気回路を示す説明図である。磁気回路は、空隙５を形
成して対向する一対の永久磁石部１と該永久磁石部１に
固着した一対の磁界調整用ポールピース２を板状ヨーク
３と支柱４で磁気的結合した構造から成る。ここで前記
永久磁石部１の周縁部１２の厚さｔ２は中央部１１の厚
さｔｌより肉厚となるように組み立てられている。具体
的には、まずｔｌの厚さの円盤状の永久磁石部を構成し
、次に外側部分にのみ磁石を増やして厚さｔ２の周縁部
を構成した。またポールピース２は板状の純鉄を切削し
表面加工しただけの簡単な方法により製造したものであ
る。
上述した磁気回路において、基本組成がＰｒ１７原子％
−Ｆｅ７６．５原子％−Ｂ５原子％−Ｃｕ１．５原子％
で、熱間／圧延加工によって製造された希土類磁石で最
大エネルギー積が２６．２メガガウスエルステツド（Ｍ
ＧＯｅ）のものを１゜４ｔｏｎ使用し、有効ギャップ長
さＬを５００ｍｍに設定して測定したところ、空隙中心
部での磁場強度は１８７５Ｇであり、３００ＤＳＶ内テ
４０ｐｐｍ以下の均一磁界を得た。
−Ｆｅ７６．５原子％−Ｂ５原子％−Ｃｕ１．５原子％
で、熱間／圧延加工によって製造された希土類磁石で最
大エネルギー積が２６．２メガガウスエルステツド（Ｍ
ＧＯｅ）のものを１゜４ｔｏｎ使用し、有効ギャップ長
さＬを５００ｍｍに設定して測定したところ、空隙中心
部での磁場強度は１８７５Ｇであり、３００ＤＳＶ内テ
４０ｐｐｍ以下の均一磁界を得た。
第２図は従来の磁界発生装置に用いられている基本的な
磁気回路を示す縦断面説明図である。磁気回路は、一対
の上下永久磁石部１と該永久磁石部１に固着した一対の
ポールピース２を、ヨーク３と支柱４で磁気的結合した
構造を成しており、前記永久磁石部１は板形状を成して
おり、肉厚は一定である。この磁気回路に、本発明の磁
気回路に用いた永久磁石と同等の磁気特性を有するＰｒ
−Ｆｅ−Ｂ系磁石を用い、有効ギャップ長さＬを５００
順、磁石重量を１．４ｔｏｎとしたところ、空隙中心部
での磁場強度は１７６４Ｇであり、３００ＤＳＶ内での
均一度は４０ｐｐｍであった。
磁気回路を示す縦断面説明図である。磁気回路は、一対
の上下永久磁石部１と該永久磁石部１に固着した一対の
ポールピース２を、ヨーク３と支柱４で磁気的結合した
構造を成しており、前記永久磁石部１は板形状を成して
おり、肉厚は一定である。この磁気回路に、本発明の磁
気回路に用いた永久磁石と同等の磁気特性を有するＰｒ
−Ｆｅ−Ｂ系磁石を用い、有効ギャップ長さＬを５００
順、磁石重量を１．４ｔｏｎとしたところ、空隙中心部
での磁場強度は１７６４Ｇであり、３００ＤＳＶ内での
均一度は４０ｐｐｍであった。
第３図は従来の磁界発生装置に用いられているポールピ
ースの説明図である。ポールピース２の外周に、珪素銅
板等から成る高透磁率部材６と非磁性材料７とが略垂直
方向に積層構造を成すように配置されてい−る。
ースの説明図である。ポールピース２の外周に、珪素銅
板等から成る高透磁率部材６と非磁性材料７とが略垂直
方向に積層構造を成すように配置されてい−る。
第４図は従来の磁気回路を示す説明図である。
永久磁石部１を空隙５に対して凹状湾曲面を構成するよ
うに配置して空隙５に高強度な磁界を発生せている。
うに配置して空隙５に高強度な磁界を発生せている。
第３図や第４図に示すような従来技術によっても空隙５
に高強度な磁界を発生させることは可能であるが、構造
が複雑であるため製造が困難であり組立精度に悪影響を
与える可能性が大きい。それに比べ第１図に示す本発明
の実施例における磁気回路は、比較的製造方法が簡単で
、かつ第２図に示す基本的な磁気回路よりも強い磁界を
空隙５に発生させることができるものである。
に高強度な磁界を発生させることは可能であるが、構造
が複雑であるため製造が困難であり組立精度に悪影響を
与える可能性が大きい。それに比べ第１図に示す本発明
の実施例における磁気回路は、比較的製造方法が簡単で
、かつ第２図に示す基本的な磁気回路よりも強い磁界を
空隙５に発生させることができるものである。
また、本発明の磁界発生装置に用いる永久磁石は磁気回
路の重量増加を避けるため、最大エネルギー積が２５
（ＭＧＯｅ）以上であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系あるいはＰｒ
−Ｆｅ−Ｂ系などの希土類磁石が望ましい。
路の重量増加を避けるため、最大エネルギー積が２５
（ＭＧＯｅ）以上であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系あるいはＰｒ
−Ｆｅ−Ｂ系などの希土類磁石が望ましい。
［発明の効果コ
以上述べたように本発明によれば、空隙を形成して対向
する一対の永久磁石部と該永久磁石部に固着した一対の
ポールピースをヨークと支柱で磁気的結合し、この構造
により前記空隙に磁界を発生させる磁界発生装置におい
て、前記永久磁石部を中央部より周縁部の方が肉厚とな
るように構成するという従来技術に比べ製造が容易な構
造によって、磁束を空隙中心付近に効果的に集中させる
ことができ、磁石材料を増やすことなくより高強度な均
一磁場を発生させることが可能となった。
する一対の永久磁石部と該永久磁石部に固着した一対の
ポールピースをヨークと支柱で磁気的結合し、この構造
により前記空隙に磁界を発生させる磁界発生装置におい
て、前記永久磁石部を中央部より周縁部の方が肉厚とな
るように構成するという従来技術に比べ製造が容易な構
造によって、磁束を空隙中心付近に効果的に集中させる
ことができ、磁石材料を増やすことなくより高強度な均
一磁場を発生させることが可能となった。
第１図は本発明の実施例における磁界発生装置の磁気回
路の基本構造を示す説明図。 第２図は磁界発生装置の基本的な磁気回路を示す説明図
。 第３図は従来の磁気回路に用いられているポールピース
を示す説明図。 第４図は従来の磁気回路を示す説明図。 １・・・永久磁石部、１１・・・永久磁石中央部、１２
・・・永久磁石周縁部、２・・・ポールピース、３・・
・ヨーク、 ４・・・支柱、 ５・・・空隙、６・・・
高透磁率部材、７・・・非磁性材料第 図 ｊＩ３図 第４図
路の基本構造を示す説明図。 第２図は磁界発生装置の基本的な磁気回路を示す説明図
。 第３図は従来の磁気回路に用いられているポールピース
を示す説明図。 第４図は従来の磁気回路を示す説明図。 １・・・永久磁石部、１１・・・永久磁石中央部、１２
・・・永久磁石周縁部、２・・・ポールピース、３・・
・ヨーク、 ４・・・支柱、 ５・・・空隙、６・・・
高透磁率部材、７・・・非磁性材料第 図 ｊＩ３図 第４図
Claims (1)
- 空隙を形成して対向する一対の永久磁石部と該永久磁
石部に固着した一対のポールピースをヨークと支柱で磁
気的結合し、この構造により前記空隙に磁界を発生させ
る磁界発生装置において、前記永久磁石部は中央部より
周縁部の方が肉厚に形成されていることを特徴とする磁
界発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27813790A JPH04152606A (ja) | 1990-10-17 | 1990-10-17 | 磁界発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27813790A JPH04152606A (ja) | 1990-10-17 | 1990-10-17 | 磁界発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04152606A true JPH04152606A (ja) | 1992-05-26 |
Family
ID=17593109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27813790A Pending JPH04152606A (ja) | 1990-10-17 | 1990-10-17 | 磁界発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04152606A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9871976B2 (en) | 2015-03-10 | 2018-01-16 | Ricoh Company, Ltd. | Imaging apparatus, control system and control method |
-
1990
- 1990-10-17 JP JP27813790A patent/JPH04152606A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9871976B2 (en) | 2015-03-10 | 2018-01-16 | Ricoh Company, Ltd. | Imaging apparatus, control system and control method |
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