JPH04156325A - 非発光形表示デバイスを用いる造形方法および造形装置 - Google Patents
非発光形表示デバイスを用いる造形方法および造形装置Info
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- JPH04156325A JPH04156325A JP2281073A JP28107390A JPH04156325A JP H04156325 A JPH04156325 A JP H04156325A JP 2281073 A JP2281073 A JP 2281073A JP 28107390 A JP28107390 A JP 28107390A JP H04156325 A JPH04156325 A JP H04156325A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/49—Nc machine tool, till multiple
- G05B2219/49013—Deposit layers, cured by scanning laser, stereo lithography SLA, prototyping
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業」−の利用分野〉
本発明は、非発光形表示デバイスよりなる露光マスクを
用いる造形方法および造形装置、詳しくは、透過形液晶
パネルデイプレイなどの非発光形表示デバイスを露光マ
スクとし“C用い光照射によって薄い未硬化液状樹脂層
を固化して所要形状の薄板状切片を積層して3次元物体
を造形する造形方法および造形装置に関する。
用いる造形方法および造形装置、詳しくは、透過形液晶
パネルデイプレイなどの非発光形表示デバイスを露光マ
スクとし“C用い光照射によって薄い未硬化液状樹脂層
を固化して所要形状の薄板状切片を積層して3次元物体
を造形する造形方法および造形装置に関する。
〈従来の技術〉
従来より、機械部品、自動車などの工業製品や住宅、ビ
ル、ポールなと建築物や橋梁、)−ンネル、高速道路な
どの建造物なとの設泪の確認のために、予め、3次元実
体モデル、すなわち縮小または拡大立体模型や実寸の立
体模型が製作されCいる。
ル、ポールなと建築物や橋梁、)−ンネル、高速道路な
どの建造物なとの設泪の確認のために、予め、3次元実
体モデル、すなわち縮小または拡大立体模型や実寸の立
体模型が製作されCいる。
最近の工業製品や建築物においては、曲面を多用したデ
サインか用いられ、部品や設備の実装密度も非常に高く
なっているため、CADシステムによる設計が普及して
いる一方、模型による確認も強く要求されている。 こ
れに伴ない、CADデータを直接用いて機械的に3次元
実体モデルを製作する技術か強く求められている。
サインか用いられ、部品や設備の実装密度も非常に高く
なっているため、CADシステムによる設計が普及して
いる一方、模型による確認も強く要求されている。 こ
れに伴ない、CADデータを直接用いて機械的に3次元
実体モデルを製作する技術か強く求められている。
ところで、従来機械部品等の3次元物体の機械的加工に
は、不要部分を除去する数値制御(NC)フライス加工
やレーザ加工なとかあるが、現実には裏面や側面の切削
加工か困難であり、また除去深さか制御てきないなとの
問題かあり、上述のような設Rイの確認のための完全な
3次元模型を製作することはできなかった。
は、不要部分を除去する数値制御(NC)フライス加工
やレーザ加工なとかあるが、現実には裏面や側面の切削
加工か困難であり、また除去深さか制御てきないなとの
問題かあり、上述のような設Rイの確認のための完全な
3次元模型を製作することはできなかった。
このため、不要部分を除去する代りに必要部分な付加す
る方法として、炭酸ガスレーザーによって所要形状に切
断した多数の金属平板や樹脂平板を積層する方法、1層
分の粉末を積層し、必要部分を赤外線レーザによって、
焼結または溶融・固化する方法、バインダーと粉末とを
ノズルから押し出しつつ、赤外線レーザて焼結または溶
融・固化する方法などがある。 これらの方法はレーザ
を用いることがてきるのでCADデータを直接用いるこ
とかできるが、設謂確認のための変形や寸法誤差が小さ
く、完成度の高い3次元模型を得るためには多大な手間
がかかるという問題がある。
る方法として、炭酸ガスレーザーによって所要形状に切
断した多数の金属平板や樹脂平板を積層する方法、1層
分の粉末を積層し、必要部分を赤外線レーザによって、
焼結または溶融・固化する方法、バインダーと粉末とを
ノズルから押し出しつつ、赤外線レーザて焼結または溶
融・固化する方法などがある。 これらの方法はレーザ
を用いることがてきるのでCADデータを直接用いるこ
とかできるが、設謂確認のための変形や寸法誤差が小さ
く、完成度の高い3次元模型を得るためには多大な手間
がかかるという問題がある。
これに対し、近年液状の光硬化性樹脂を像様に露光して
平板状に硬化し、積層して3次元物体を造形する試みが
なされている。 これは、目的とする3次元物体を所定
間隔でスライスした断面形状を予め求め、この断面形状
に液状光硬化性別脂層を露光して薄板状切片を得、こわ
を積層して3次元物体とするもので、」−述の種々力t
1工方法に比べ、比較的変形や寸法誤差の小さい3次元
物体を極めて容易に得ることかできるという特徴を有し
ている。
平板状に硬化し、積層して3次元物体を造形する試みが
なされている。 これは、目的とする3次元物体を所定
間隔でスライスした断面形状を予め求め、この断面形状
に液状光硬化性別脂層を露光して薄板状切片を得、こわ
を積層して3次元物体とするもので、」−述の種々力t
1工方法に比べ、比較的変形や寸法誤差の小さい3次元
物体を極めて容易に得ることかできるという特徴を有し
ている。
この3次元造形方法には、2つの露光方式があった。
その一つは、第7図に示す造形装置100のように積層
すべき断面形状の像を焼きイ」けたフォトマスク102
を多数用意しておき、断面形状ごとにフォトマスク10
2を変え、光源104から射出され、フォトマスク10
2を透過した投影光により液状の未硬化光硬化性樹脂1
06の表面を露光して投影像状に硬化させ、これを基板
108をZ移動装置109により所定量下方に移動させ
つつくり返し、順次薄板状切片110を積層して3次元
物体112を造形するものである。
すべき断面形状の像を焼きイ」けたフォトマスク102
を多数用意しておき、断面形状ごとにフォトマスク10
2を変え、光源104から射出され、フォトマスク10
2を透過した投影光により液状の未硬化光硬化性樹脂1
06の表面を露光して投影像状に硬化させ、これを基板
108をZ移動装置109により所定量下方に移動させ
つつくり返し、順次薄板状切片110を積層して3次元
物体112を造形するものである。
他の一つば、第8図に示す造形装置120のように積層
ずへき断面形状ことに光源104から射出され、レンズ
122により収束させた光で未硬化光硬化性樹脂106
の表面をX−Y移動装置124により像状に走査して硬
化させ、基板108をZ S動装置109により所定量
下方に移動させ、順次薄板状切片110を積層して、3
次元物体112を造形するものである。
ずへき断面形状ことに光源104から射出され、レンズ
122により収束させた光で未硬化光硬化性樹脂106
の表面をX−Y移動装置124により像状に走査して硬
化させ、基板108をZ S動装置109により所定量
下方に移動させ、順次薄板状切片110を積層して、3
次元物体112を造形するものである。
後者は、第8図に示すようにCADシステムを用いて設
計した3次元物体のデータ126を直接的に用いること
が可能で、これらのデータ126を直接コンピュータ1
28などのNC(数値制御)装置に人力して、光源10
4とレンズ122との間の光路に挿入されたシャッタ1
30と、光硬化性樹脂106を満たしたタンク132お
よび3次元物体110を支持する基板108のZ移動装
置109を載置した台134を2次元方向に移動するX
−Y移動装置124とを連動して駆動するように制御し
て、1層分の薄板状切片110を形成するとともにZ
B動装置109を制御して、この切片110を積層する
ことにより、従来よりは極めて容易に精度よく3次元物
体を製作できる。
計した3次元物体のデータ126を直接的に用いること
が可能で、これらのデータ126を直接コンピュータ1
28などのNC(数値制御)装置に人力して、光源10
4とレンズ122との間の光路に挿入されたシャッタ1
30と、光硬化性樹脂106を満たしたタンク132お
よび3次元物体110を支持する基板108のZ移動装
置109を載置した台134を2次元方向に移動するX
−Y移動装置124とを連動して駆動するように制御し
て、1層分の薄板状切片110を形成するとともにZ
B動装置109を制御して、この切片110を積層する
ことにより、従来よりは極めて容易に精度よく3次元物
体を製作できる。
〈発明が解決しようとする課題〉
ところで、上述の光硬化性樹脂の露光をフォトマスク1
02で行う造形装置100は、安価で極めて簡便な装置
であるが、断面形状の像を有する写真フィルムなどのフ
ォトマスク102が多数必要であり、積層ごとにフォト
マスク102を取り換えなければならず、手間がかかる
ばかりでなく、その位置合わせなども面倒であるという
問題があった。
02で行う造形装置100は、安価で極めて簡便な装置
であるが、断面形状の像を有する写真フィルムなどのフ
ォトマスク102が多数必要であり、積層ごとにフォト
マスク102を取り換えなければならず、手間がかかる
ばかりでなく、その位置合わせなども面倒であるという
問題があった。
もう一つ収束光で露光する方式の造形装置120は、C
ADデータなどを直接利用することができるが、収束光
を移動するにしても基板108を移動するにしてもNC
テーブル等の高価な2次元的に位置精度よ〈移動可能な
X−Y移動装置124が必要であるばかりか、光源10
4として光量の十分なレーザ例えばUVレーザの他に、
レーザ光学系を構成する高精度シャッタ130やレンズ
122が必要であり、ざらにX−Y移動装置124およ
びシャッタ130を制御するためのそれぞれのコントロ
ーラが必要であり、高価であるばかりか、装置構成が大
型になるという問題があった。
ADデータなどを直接利用することができるが、収束光
を移動するにしても基板108を移動するにしてもNC
テーブル等の高価な2次元的に位置精度よ〈移動可能な
X−Y移動装置124が必要であるばかりか、光源10
4として光量の十分なレーザ例えばUVレーザの他に、
レーザ光学系を構成する高精度シャッタ130やレンズ
122が必要であり、ざらにX−Y移動装置124およ
びシャッタ130を制御するためのそれぞれのコントロ
ーラが必要であり、高価であるばかりか、装置構成が大
型になるという問題があった。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解消し、液晶
パネルデイスプレィなどの非発光形表示デバイスからな
る露光マスクを用いて容易に光照射により硬化する樹脂
を露光し、硬化させ、この硬化物を積層することにより
、CADデータを直接用いることができ、簡単な装置構
成で簡便かつ庶偏に3次元物体を得ることのできる非発
光形表示デバイスを用いた造形方法および造形装置を提
供するにある。
パネルデイスプレィなどの非発光形表示デバイスからな
る露光マスクを用いて容易に光照射により硬化する樹脂
を露光し、硬化させ、この硬化物を積層することにより
、CADデータを直接用いることができ、簡単な装置構
成で簡便かつ庶偏に3次元物体を得ることのできる非発
光形表示デバイスを用いた造形方法および造形装置を提
供するにある。
〈課題を解決するための手段〉
上記目的を達成するために、本発明の第1の態様は、光
照射によって硬化する液状の樹脂を所要厚さおよび形状
の薄板状切片として硬化させ、この薄板状切片を積層し
て3次元物体を造形するに際し、 前記樹脂を所定厚さの液状未硬化樹脂層として前記3次
元物体を支持する基板またはすでに硬化した薄板状切片
の上または下に形成し、所要形状のマスクを形成するよ
うに制御された非発光形表示デバイスからなる露光マス
クを通して前記未硬化樹脂層に光照射し、この未硬化樹
脂層を硬化させて薄板状切片を得ることを特徴とする非
発光形表示デバイスを用いる造形方法を提供するもので
ある。
照射によって硬化する液状の樹脂を所要厚さおよび形状
の薄板状切片として硬化させ、この薄板状切片を積層し
て3次元物体を造形するに際し、 前記樹脂を所定厚さの液状未硬化樹脂層として前記3次
元物体を支持する基板またはすでに硬化した薄板状切片
の上または下に形成し、所要形状のマスクを形成するよ
うに制御された非発光形表示デバイスからなる露光マス
クを通して前記未硬化樹脂層に光照射し、この未硬化樹
脂層を硬化させて薄板状切片を得ることを特徴とする非
発光形表示デバイスを用いる造形方法を提供するもので
ある。
本発明の第2の態様は、光照射によりて硬化する液状の
樹脂を所要厚さおよび形状の薄板状切片として硬化させ
、この薄板状切片を積層して3次元物体を造形する造形
装置であって、前記積層薄板状切片を支持する基板と、
前記樹脂を所定厚さの液状未硬化樹脂層として形成する
ために、前記基板またはすでに硬化した薄板状切片と未
硬化樹脂の液面とを相対的に移動する手段と、 前記未硬化樹脂層に光照射するための光源前記未硬化樹
脂層と光源との間に配設され、所要形状のマスクを形成
する非発光形表示デバイスからなる露光マスクと、 前記相対昼勤手段の穆動量および前記露光マスクのマス
ク形状を制御する制御装置とを有することを特徴とする
非発光形表示デバイスを用いる造形装置を提供するもの
である。
樹脂を所要厚さおよび形状の薄板状切片として硬化させ
、この薄板状切片を積層して3次元物体を造形する造形
装置であって、前記積層薄板状切片を支持する基板と、
前記樹脂を所定厚さの液状未硬化樹脂層として形成する
ために、前記基板またはすでに硬化した薄板状切片と未
硬化樹脂の液面とを相対的に移動する手段と、 前記未硬化樹脂層に光照射するための光源前記未硬化樹
脂層と光源との間に配設され、所要形状のマスクを形成
する非発光形表示デバイスからなる露光マスクと、 前記相対昼勤手段の穆動量および前記露光マスクのマス
ク形状を制御する制御装置とを有することを特徴とする
非発光形表示デバイスを用いる造形装置を提供するもの
である。
上記各態様において、前記非発光形表示デバイスからな
る露光マスクは、透過型液晶マスクであるのが々了まし
し)。
る露光マスクは、透過型液晶マスクであるのが々了まし
し)。
また、前記光照射によって硬化する液状樹脂(J光硬化
性樹脂であるのが好ましい。
性樹脂であるのが好ましい。
また、前記相対移動手段は、前記基板な上−■動させる
上下移動装置であるのが好ましい。
上下移動装置であるのが好ましい。
また、前記未硬化樹脂は、タンク内に保持されるのが好
ましい。
ましい。
〈発明の作用〉
本発明の非発光形表示デバイスよりなる露光マスクを用
いる造形力法は、CADシステムや、種々の画像処理装
置などから直接あるいは、他の画像処理装置で画像処理
した後、得られた、目的とする3次元物体の所定間隔勿
のスライス形状に関する画像データを透過型の液晶デイ
スプレィなどの非発光形表示デバイスに出力し、これを
露光マスクとして用い、この露光マスクを介して基板ま
たはすてに硬化した薄板状切片のトまたは下に形成され
た所定の厚さの光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂の薄い液体
層に光を照射して画像状に硬化さ−Uることにより薄板
状切片を積層し、3次元物体を造形するものである。
いる造形力法は、CADシステムや、種々の画像処理装
置などから直接あるいは、他の画像処理装置で画像処理
した後、得られた、目的とする3次元物体の所定間隔勿
のスライス形状に関する画像データを透過型の液晶デイ
スプレィなどの非発光形表示デバイスに出力し、これを
露光マスクとして用い、この露光マスクを介して基板ま
たはすてに硬化した薄板状切片のトまたは下に形成され
た所定の厚さの光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂の薄い液体
層に光を照射して画像状に硬化さ−Uることにより薄板
状切片を積層し、3次元物体を造形するものである。
また、この造形方法を実施するために、本発明の造形装
置は、画素毎にオン−オフ可能な透過型液晶マスクなど
の非発光形表示デバイスからなる露光マスクを制御装置
により所定のマスク形状となるように制御し、一方、液
面移動手段または基板移動装置を前記制御装置により制
御して、前記樹脂の液面を前記基板または積層薄板状切
片の上または下に所定厚さの未硬化樹脂層を形成するよ
うに調整し、前記露光マスクを介して露光光源から射出
された光で所定形状に露光硬化を行うことを繰り返すよ
うに制御している。
置は、画素毎にオン−オフ可能な透過型液晶マスクなど
の非発光形表示デバイスからなる露光マスクを制御装置
により所定のマスク形状となるように制御し、一方、液
面移動手段または基板移動装置を前記制御装置により制
御して、前記樹脂の液面を前記基板または積層薄板状切
片の上または下に所定厚さの未硬化樹脂層を形成するよ
うに調整し、前記露光マスクを介して露光光源から射出
された光で所定形状に露光硬化を行うことを繰り返すよ
うに制御している。
従って、従来の3次元造形方法に比べ、極めて簡単に比
較的寸法精度のよい3次元物体を造形できる。 特に、
従来、薄い光硬化性樹脂層を多数の写真フィルムなどの
フォトマスクを用いて露光する方法に比べ、これらのフ
ォトマスクを多数用意する必要もないし、積層する毎に
これらの)才]・マスクを交換する必要もない。 一方
、レーザ光などの収束光を用いて走査露光する方法に比
へ、高価なNC2次元移動装首を必要としない。
較的寸法精度のよい3次元物体を造形できる。 特に、
従来、薄い光硬化性樹脂層を多数の写真フィルムなどの
フォトマスクを用いて露光する方法に比べ、これらのフ
ォトマスクを多数用意する必要もないし、積層する毎に
これらの)才]・マスクを交換する必要もない。 一方
、レーザ光などの収束光を用いて走査露光する方法に比
へ、高価なNC2次元移動装首を必要としない。
このため、本発明の造形装置は、小型、コンパクトであ
り、かつ廉価であるばかりか、3次元物体を全自動で造
形することも可能で、3次元物体を極めて容易に得るこ
とかできるばかりか、得られた3次元物体も廉価なもの
とすることがてきる。
り、かつ廉価であるばかりか、3次元物体を全自動で造
形することも可能で、3次元物体を極めて容易に得るこ
とかできるばかりか、得られた3次元物体も廉価なもの
とすることがてきる。
〈実施態様〉
本発明に係る非発光形表示デバイスを用いる造形方法お
よびこれを実施する本発明の非発光形表示デバイスを用
いる造形装置を添付の図面に示す好適実施例に基づいて
詳細に説明する。
よびこれを実施する本発明の非発光形表示デバイスを用
いる造形装置を添付の図面に示す好適実施例に基づいて
詳細に説明する。
本発明に用いられる非発光形表示デバイスからなる露光
マスクは、電気信号化されている画像データに応して画
素毎に光の透過量をオンオフてきる構造を有するマトリ
ックス駆動可能な露光マスつてあれば、どのような構造
のものでもよく、またどのような非発光形表示デバイス
を用いるものてもよい。
マスクは、電気信号化されている画像データに応して画
素毎に光の透過量をオンオフてきる構造を有するマトリ
ックス駆動可能な露光マスつてあれば、どのような構造
のものでもよく、またどのような非発光形表示デバイス
を用いるものてもよい。
非発光形表示デバイスとしては、光学的異方性、特に偏
光面の回転を利用する液晶表示デバイス(LCD)、電
気化学的酸化還元による発消色を利用するエレクトロク
ロミック表示デバイス(ECD)、コロイド粒子の電気
泳動を利用する電気泳動表示、およびカー効果やポッケ
ルス効果などの電気光学効果を利用する強銹電性セラミ
ック表示デバイスなどを用いることができる。
光面の回転を利用する液晶表示デバイス(LCD)、電
気化学的酸化還元による発消色を利用するエレクトロク
ロミック表示デバイス(ECD)、コロイド粒子の電気
泳動を利用する電気泳動表示、およびカー効果やポッケ
ルス効果などの電気光学効果を利用する強銹電性セラミ
ック表示デバイスなどを用いることができる。
以下、代表的に液晶表示デバイス(液晶パネルデイスプ
レィ)を露光マスクとして用いる液晶マスクを非発光形
表示デバイスからなる露光マスクの例として説明する。
レィ)を露光マスクとして用いる液晶マスクを非発光形
表示デバイスからなる露光マスクの例として説明する。
第1図は、本発明の非発光形表示デバイスよりなる露光
マスクとして液晶マスクを用いる造形装置の一実施例の
断面模式図である。
マスクとして液晶マスクを用いる造形装置の一実施例の
断面模式図である。
同図において、本発明の液晶マスクを用いる造形装置1
0は、光源12と、拡散板14と、液晶マスク16と、
光照射によって硬化する液状の樹脂18を満たすタンク
2oと、タンク20内で硬化薄板状切片22を支持する
基板24と、基板24を上下に駆動させる移動装置26
と、データ供給源28から目的とする3次元物体の画像
データを受けて液晶マスク16および移動装置26を制
御する制御装置3oとを有する。
0は、光源12と、拡散板14と、液晶マスク16と、
光照射によって硬化する液状の樹脂18を満たすタンク
2oと、タンク20内で硬化薄板状切片22を支持する
基板24と、基板24を上下に駆動させる移動装置26
と、データ供給源28から目的とする3次元物体の画像
データを受けて液晶マスク16および移動装置26を制
御する制御装置3oとを有する。
なお、図示例の装置10においては、樹脂18の液面1
9との間の基板24の位置制御が正確になされるように
、タンク20と移動装置26とは同一の基台32に載置
されている。
9との間の基板24の位置制御が正確になされるように
、タンク20と移動装置26とは同一の基台32に載置
されている。
光源12は、所要面積の面露光であっても樹脂18の硬
化か可能な光量の光を発するものであれば、特に制限的
でなく樹脂18に応して最適な公知の光源が利用可能で
ある。 例えば、樹脂18として紫外線によって硬化す
る性質を有する光硬化性樹脂を用いる場合は石英水銀灯
、炭素アーク灯などの紫外線ランプ、樹脂18として赤
外線によりて硬化する熱硬化性樹脂を用いる場合はグロ
ーバー、タングステンランプ、高圧水銀灯などの赤外線
ランプ、可視光線によって硬化する場合には、ハロゲン
ランプ等を用いることができる。
化か可能な光量の光を発するものであれば、特に制限的
でなく樹脂18に応して最適な公知の光源が利用可能で
ある。 例えば、樹脂18として紫外線によって硬化す
る性質を有する光硬化性樹脂を用いる場合は石英水銀灯
、炭素アーク灯などの紫外線ランプ、樹脂18として赤
外線によりて硬化する熱硬化性樹脂を用いる場合はグロ
ーバー、タングステンランプ、高圧水銀灯などの赤外線
ランプ、可視光線によって硬化する場合には、ハロゲン
ランプ等を用いることができる。
拡散板14は、必ずしも必要ではないが、所要面積の液
晶マスク16の露光面に均一な光を照射するためには設
けるのが好ましい。
晶マスク16の露光面に均一な光を照射するためには設
けるのが好ましい。
液晶マスク16は、画像が表示可能な透過型液晶デイス
プレィ、例えばマトリックス表示方式の液晶デイスプレ
ィであって、光シャッタとして機能するものであればど
のようなものでもよい。
プレィ、例えばマトリックス表示方式の液晶デイスプレ
ィであって、光シャッタとして機能するものであればど
のようなものでもよい。
液晶マスク16の一実施例を第2a図に示す。 液晶マ
スク16は、ネマチック液晶、コレステリックY夜晶、
スメクティック?!晶などの液晶34を2枚のガラス基
板36.37の間に入れ、ガラス基板36.37が互い
に接触しないように適当の厚さの薄い絶縁性のスペーサ
38.39を挟んで封入し、ガラス基板36.37の内
側表面に透明導電膜などからなる透明電極40.41を
付けた液晶セル42と、この液晶セル42の前後に配さ
れる2枚の偏光板44.45からなる。
スク16は、ネマチック液晶、コレステリックY夜晶、
スメクティック?!晶などの液晶34を2枚のガラス基
板36.37の間に入れ、ガラス基板36.37が互い
に接触しないように適当の厚さの薄い絶縁性のスペーサ
38.39を挟んで封入し、ガラス基板36.37の内
側表面に透明導電膜などからなる透明電極40.41を
付けた液晶セル42と、この液晶セル42の前後に配さ
れる2枚の偏光板44.45からなる。
ここで第2b図に示すように、一方の透明電極40を所
定の方向(X軸方向)に多数の帯状の透明電極を多数平
行に配列したものとし、対向する他方の透明電極41を
これと直交する方向(Y軸方向)に多数の帯状透明電極
を平行に配列した構造としてマトリックス駆動を可能と
し、帯状電極の数により、所要の画素数例えば、640
X400画素程度の液晶マスク16を構成することかで
きる。
定の方向(X軸方向)に多数の帯状の透明電極を多数平
行に配列したものとし、対向する他方の透明電極41を
これと直交する方向(Y軸方向)に多数の帯状透明電極
を平行に配列した構造としてマトリックス駆動を可能と
し、帯状電極の数により、所要の画素数例えば、640
X400画素程度の液晶マスク16を構成することかで
きる。
2枚の偏光板44.45の偏光方向を直交させて配置し
たものでは、液晶マスク16に入射した光は一方の、例
えは偏光板44を通るので、一方向に振動する光たけが
通過し、液晶セル42に入射する。 ここで透明電極4
0.41に電圧を印加しないと、液晶セル42に入射し
た光は液晶34のなかで90°回転して、液晶セル42
を出射し、もう一つの偏光板45に入用する。 ここで
偏光板45の偏光方向は、偏光板44と直交しているの
で、人肘先は偏光板45を透過でざる。 これに対し、
透明電極40.41に十分な電圧を印加すると、液晶セ
ル42内の液晶34は入射光の振動方向を回転せず、そ
のまま通過させるので、偏光板45を通過てきない。
たものでは、液晶マスク16に入射した光は一方の、例
えは偏光板44を通るので、一方向に振動する光たけが
通過し、液晶セル42に入射する。 ここで透明電極4
0.41に電圧を印加しないと、液晶セル42に入射し
た光は液晶34のなかで90°回転して、液晶セル42
を出射し、もう一つの偏光板45に入用する。 ここで
偏光板45の偏光方向は、偏光板44と直交しているの
で、人肘先は偏光板45を透過でざる。 これに対し、
透明電極40.41に十分な電圧を印加すると、液晶セ
ル42内の液晶34は入射光の振動方向を回転せず、そ
のまま通過させるので、偏光板45を通過てきない。
これに対し、2枚の偏光板44.45の偏光方向を平行
させて配置したものでは、液晶セル42の透明電極40
.41に電圧を印加したいとき、光を遮断し、電圧を印
加したとぎ光を透過する。
させて配置したものでは、液晶セル42の透明電極40
.41に電圧を印加したいとき、光を遮断し、電圧を印
加したとぎ光を透過する。
本発明に用いられる液晶マスク16としては、いずれの
構成の液晶ティスプレィを用いてもよい。
構成の液晶ティスプレィを用いてもよい。
本発明に用いられる光照射によって硬化する液状の樹脂
18は、紫外線、可視光線、赤外線などの照射によって
照射部分のみか硬化し、硬化によって得られる固化物の
硬度および剛性が目的とする3次元物体を形成するのに
十分である樹脂であればどのようなものでもよい。
18は、紫外線、可視光線、赤外線などの照射によって
照射部分のみか硬化し、硬化によって得られる固化物の
硬度および剛性が目的とする3次元物体を形成するのに
十分である樹脂であればどのようなものでもよい。
例えば、光重合反応により硬化する光硬化性樹脂や熱線
により熱硬化する熱硬化性樹脂などかあげられるが、以
下のような性質を具備するものが好ましい。
により熱硬化する熱硬化性樹脂などかあげられるが、以
下のような性質を具備するものが好ましい。
a、光照射前の液体状態では、透明で粘度か低いこと。
b、光照射時において、光または光熱線に対する感度が
高く、硬化速度が速く、光照射部分以外への硬化の伝播
が少なく、硬化時の体積収縮が小さいこと。
高く、硬化速度が速く、光照射部分以外への硬化の伝播
が少なく、硬化時の体積収縮が小さいこと。
C硬化によって得られた固化物において、硬度や剛性が
部分にあること。
部分にあること。
本発明に用いられる光硬化性樹脂としては、紫外線や可
視光線の照IJを受り、直接または光重合開始剤の分解
によって重合を開始し、ラジカル反応またはイオン反応
により重合硬化するものであればどのようなものてもよ
く、例えば、スチレン系樹脂、メタクリ系樹脂、アクリ
ル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂などのビニル系樹脂、エポ
キシ系樹脂、ポリエステル系イΔJ脂、ヒスフェノール
A形ポリカーボネートなどを挙げることができる。
視光線の照IJを受り、直接または光重合開始剤の分解
によって重合を開始し、ラジカル反応またはイオン反応
により重合硬化するものであればどのようなものてもよ
く、例えば、スチレン系樹脂、メタクリ系樹脂、アクリ
ル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂などのビニル系樹脂、エポ
キシ系樹脂、ポリエステル系イΔJ脂、ヒスフェノール
A形ポリカーボネートなどを挙げることができる。
ラジカル反応によって光重合する光硬化性樹脂としては
、一般に上述の樹脂の光重舎利プレポリマー(オリゴマ
ー)、光重合性モノマー(千ツマ−)および光重合開始
剤の混合物からなり、さらに、増感剤、消泡剤、安定剤
などを必要に応じて含んでいてもよい。
、一般に上述の樹脂の光重舎利プレポリマー(オリゴマ
ー)、光重合性モノマー(千ツマ−)および光重合開始
剤の混合物からなり、さらに、増感剤、消泡剤、安定剤
などを必要に応じて含んでいてもよい。
ここで、オリゴマーは硬化生成物の特性を決定する主成
分であるが、粘度か非常に高い。
分であるが、粘度か非常に高い。
モノマーは、オリゴマーの粘度を下げる希釈剤として混
入されている。
入されている。
千ツマ−は、光重合反応するので、多量である硬化収縮
が生じる。 従って、希釈剤として千ツマ−の代りに非
反応性の希釈剤を添加するものであってもよいし、プラ
スチックビーズ等の充填剤を添加して千ツマ−の比率を
下げたものであってもよい。
が生じる。 従って、希釈剤として千ツマ−の代りに非
反応性の希釈剤を添加するものであってもよいし、プラ
スチックビーズ等の充填剤を添加して千ツマ−の比率を
下げたものであってもよい。
樹脂タンク20は、液状樹脂18を収容するタンクであ
って、目標とする3次元物体を基板24にffi!置し
たまま収容できる深さと大ぎさを有していればどのよう
なものでもよい。
って、目標とする3次元物体を基板24にffi!置し
たまま収容できる深さと大ぎさを有していればどのよう
なものでもよい。
基板24は目標とする3次元物体を支持する強度を有し
、硬化樹脂からなる薄板状切片22の積層体23を載置
するものであればどのようなものでもよいが、図示例で
は、樹脂タンク20の底部と平行にタンク20の一方の
端から端まで延在し、一方の端部にはこの平行部分24
aに垂直上方に腕24bを有し、腕24bは移動装置2
6のトラヘリングナラ]−268に固着されている。
平行部分24aおよび腕24bの形状および長さは3次
元物体の形状、大きさおよび高さに応じて予め適宜定め
ておけばよい。 特に、積層体23の積層か進んでも平
行部分24aが撓むことなく平行に移動で参るたり強度
を有している必要がある。
、硬化樹脂からなる薄板状切片22の積層体23を載置
するものであればどのようなものでもよいが、図示例で
は、樹脂タンク20の底部と平行にタンク20の一方の
端から端まで延在し、一方の端部にはこの平行部分24
aに垂直上方に腕24bを有し、腕24bは移動装置2
6のトラヘリングナラ]−268に固着されている。
平行部分24aおよび腕24bの形状および長さは3次
元物体の形状、大きさおよび高さに応じて予め適宜定め
ておけばよい。 特に、積層体23の積層か進んでも平
行部分24aが撓むことなく平行に移動で参るたり強度
を有している必要がある。
移動装置26は、l−ラベリングナラt−26aと、こ
れに噛合するドライブスクリュー26bと、ドライブス
クリュー261)を回転する千−タ26cとからなり、
基板24または積層体23の上側に正確に所定厚さの樹
脂層を形成するために、所定量基板24を移動するため
のものである。 モータ26cとししては、正確にドラ
イブスクリュー26bを所定の回転量たけ回転させつる
ものであればよく、例えば、ステッピング千−夕、AC
ザーホ′モータ、DCサーボモータなどを用いることが
できる。 また、移動手段としては、トラベリングナツ
ト26aとドライブスクリュー26bとによるものには
限定されず、ラックアンドビニオン、ベルトとプーリー
、チェーンとスプロケットなどおよびこれらを組み合わ
せた往復移動手段を用いることができる。
れに噛合するドライブスクリュー26bと、ドライブス
クリュー261)を回転する千−タ26cとからなり、
基板24または積層体23の上側に正確に所定厚さの樹
脂層を形成するために、所定量基板24を移動するため
のものである。 モータ26cとししては、正確にドラ
イブスクリュー26bを所定の回転量たけ回転させつる
ものであればよく、例えば、ステッピング千−夕、AC
ザーホ′モータ、DCサーボモータなどを用いることが
できる。 また、移動手段としては、トラベリングナツ
ト26aとドライブスクリュー26bとによるものには
限定されず、ラックアンドビニオン、ベルトとプーリー
、チェーンとスプロケットなどおよびこれらを組み合わ
せた往復移動手段を用いることができる。
データ供給源28は、CADデータなどの設計データか
ら適当な間隔で水平切断されたスライス形状データなど
を記憶し、制御装置30に伝送するものであり、記憶装
置からなりていてもよいし、コンピュータであってもよ
い。
ら適当な間隔で水平切断されたスライス形状データなど
を記憶し、制御装置30に伝送するものであり、記憶装
置からなりていてもよいし、コンピュータであってもよ
い。
ここに記憶されているデータは、CADまたは他の手段
から人力された設計データでもよいがこの場合には制御
装置30内でスライス形状データとしてもよいし、図示
しない別のコンピュータによりスライス形状データとし
てもよい。
から人力された設計データでもよいがこの場合には制御
装置30内でスライス形状データとしてもよいし、図示
しない別のコンピュータによりスライス形状データとし
てもよい。
本発明におけるスライス形状の画像データは、目標とす
る3次元物体を水平切断する間隔は、一定であってもよ
いし、可変、例えば、形状変化が大ぎい部分では小さく
、形状変化が小さい部分では大きく変化するものであっ
てもよいが、制御の簡単さから一定間隔のほうが好まし
い。
る3次元物体を水平切断する間隔は、一定であってもよ
いし、可変、例えば、形状変化が大ぎい部分では小さく
、形状変化が小さい部分では大きく変化するものであっ
てもよいが、制御の簡単さから一定間隔のほうが好まし
い。
制御装置30は、液晶マスク16および移動装置26の
そ一タ26cに接続され、スライス形状データからなる
画像データに応じて液晶マスク16の各画素のオン−オ
フを制御するマスクコントローラと、モータ26cの回
転量を制御して基板24の移動量を制御する移動コント
ローラと、これらのコントローラによる液晶マスク16
のオン・オフのタイミングおよび基板24の移動のタイ
ミング等やその他各種の制御を行うコンピュータからな
る。
そ一タ26cに接続され、スライス形状データからなる
画像データに応じて液晶マスク16の各画素のオン−オ
フを制御するマスクコントローラと、モータ26cの回
転量を制御して基板24の移動量を制御する移動コント
ローラと、これらのコントローラによる液晶マスク16
のオン・オフのタイミングおよび基板24の移動のタイ
ミング等やその他各種の制御を行うコンピュータからな
る。
本発明の非発光形表示デバイスよりなる露光マスクとし
て液晶マスクを用いる造形方法は、基本的に以上のよう
に構成される造形装置10によって、以下のように行わ
れる。
て液晶マスクを用いる造形方法は、基本的に以上のよう
に構成される造形装置10によって、以下のように行わ
れる。
予め、樹脂タンクに、液状樹脂18が満たされ、光源1
2は点灯され、データ供給源28にはスライス形状の画
像データ群が記憶され、制御装置30へ伝送可能の状態
にある。
2は点灯され、データ供給源28にはスライス形状の画
像データ群が記憶され、制御装置30へ伝送可能の状態
にある。
まず、基板24を、移動装置26により最も上方に移動
して、基板24の上側にスライス形状データの間隔に応
じた厚さの液体樹脂層を形成する。
して、基板24の上側にスライス形状データの間隔に応
じた厚さの液体樹脂層を形成する。
次に、制御装置30はデータ供給源28から取り込んだ
目標とする3次元物体の最底部の画像データに応じて液
晶マスク16をオン・オフ制御し、光源12から射出さ
れ、拡散板14によって均一化された光を像様に透過さ
せ、この透過光により前記液体樹脂層を所定時間面露光
して、この樹脂18を前記透過光の照射部分のみ像様に
硬化させて、固化した薄板状切片22を基板24上に形
成する。
目標とする3次元物体の最底部の画像データに応じて液
晶マスク16をオン・オフ制御し、光源12から射出さ
れ、拡散板14によって均一化された光を像様に透過さ
せ、この透過光により前記液体樹脂層を所定時間面露光
して、この樹脂18を前記透過光の照射部分のみ像様に
硬化させて、固化した薄板状切片22を基板24上に形
成する。
こうして、3次元物体の最底部の第1層が形成される。
次に、制御装置30は、移動装置26のモータ26cを
所定回転量回転させ、基板24を所定量下降させ、3次
元物体の第2層の間隔に相当する厚さの液体樹脂層を第
1層上に形成する。
所定回転量回転させ、基板24を所定量下降させ、3次
元物体の第2層の間隔に相当する厚さの液体樹脂層を第
1層上に形成する。
この後上述と同様な方法で第2層の断面形状を液晶マス
ク16を介して露光して、第1層上に第2層目を硬化し
、薄板状切片22を積層する。
ク16を介して露光して、第1層上に第2層目を硬化し
、薄板状切片22を積層する。
上述の手順をスライス形状の画像データをその順序に従
って変えながら、積層体23上に薄板状切片22を多数
積層して3次元物体を造形する。
って変えながら、積層体23上に薄板状切片22を多数
積層して3次元物体を造形する。
本発明の造形方法は、予め硬化して得られた薄板状切片
22上に所定厚さの液状樹脂層を形成し、この樹脂層を
所定の断面形状データに応じて制御された液晶マスク1
6を介して露光硬化して薄板状切片22を積層すること
を繰り返して3次元物体を得ることができるものであれ
ば、上述の造形装置10を用いる方法に限定されず、以
上に示す造形方法を始めとして、種々の方法が可能であ
る。
22上に所定厚さの液状樹脂層を形成し、この樹脂層を
所定の断面形状データに応じて制御された液晶マスク1
6を介して露光硬化して薄板状切片22を積層すること
を繰り返して3次元物体を得ることができるものであれ
ば、上述の造形装置10を用いる方法に限定されず、以
上に示す造形方法を始めとして、種々の方法が可能であ
る。
第3図に示す造形装置50は、積層体23を載置する基
板を移動させず、基板として樹脂タンク20の底部また
は、内部に固定し、基板を下降させて積層体を下降させ
る代りに、樹脂液貯蔵容器52からポンプ54によりバ
イブ56を通し”C樹脂液18を供給し、液面を上昇さ
せて積層体23上に所定厚さの樹脂液層を形成するもの
である。 この樹脂液層の厚さを正確に制御するために
、制御装置3oはポンプ54の駆動量を単に制御するだ
けでなく、樹脂液面を検出する手段57を設り、こねに
よる液面検知信号によって樹脂厚さを制御するようにし
てもよい。
板を移動させず、基板として樹脂タンク20の底部また
は、内部に固定し、基板を下降させて積層体を下降させ
る代りに、樹脂液貯蔵容器52からポンプ54によりバ
イブ56を通し”C樹脂液18を供給し、液面を上昇さ
せて積層体23上に所定厚さの樹脂液層を形成するもの
である。 この樹脂液層の厚さを正確に制御するために
、制御装置3oはポンプ54の駆動量を単に制御するだ
けでなく、樹脂液面を検出する手段57を設り、こねに
よる液面検知信号によって樹脂厚さを制御するようにし
てもよい。
露光方法は第1図に示す例と全く同様なものを用いて全
く同様に行うことがで参るが、好ましくは、少なくども
液晶マスク16を、より好ましくは液晶マスク16、拡
散する14および光源を移動装置58により樹脂液面1
9の上A−に応じて上y−させるのが好ましい。 移動
装置58のは、前述の移動装置26と同様の構成のもの
を用いることが°Cきる。
く同様に行うことがで参るが、好ましくは、少なくども
液晶マスク16を、より好ましくは液晶マスク16、拡
散する14および光源を移動装置58により樹脂液面1
9の上A−に応じて上y−させるのが好ましい。 移動
装置58のは、前述の移動装置26と同様の構成のもの
を用いることが°Cきる。
第4図に示す造形装置60も、第3図にボず例と同様に
基板を移動さゼず固定するものである。 図示例では、
基板として樹脂タンク20の底部を用い、樹脂液18中
に液面を規制する透明板62からなる液面規制板を底部
に有する箱体64を樹脂タンク20内に沈めておき、7
↑1体64を移動装置26に取り((けて制御しつつ上
昇させ、透明板62と積層体23との間に所定厚さの樹
脂液層を形成する。 この樹脂液層を透明板62の上側
に直接または間接的に配置された液晶マスク16を介し
°C露光硬化し、上述の例と同様に積層して、3次元物
体を造形しCいる。 ここでも、液晶マスク]6、拡散
板14、光源12を箱体64の移動に付って、移動させ
るのが好ましい。
基板を移動さゼず固定するものである。 図示例では、
基板として樹脂タンク20の底部を用い、樹脂液18中
に液面を規制する透明板62からなる液面規制板を底部
に有する箱体64を樹脂タンク20内に沈めておき、7
↑1体64を移動装置26に取り((けて制御しつつ上
昇させ、透明板62と積層体23との間に所定厚さの樹
脂液層を形成する。 この樹脂液層を透明板62の上側
に直接または間接的に配置された液晶マスク16を介し
°C露光硬化し、上述の例と同様に積層して、3次元物
体を造形しCいる。 ここでも、液晶マスク]6、拡散
板14、光源12を箱体64の移動に付って、移動させ
るのが好ましい。
第5図に示す造形装置70は、基板24の下側に薄板状
切片22を積層するもので、1□(板24を移動装置2
6により所定量−1,yさせ、積層体23と樹脂タック
20との間に樹脂液層を形成し、樹脂タンク20の底部
の所定部分を透明板72で構成し、底部透明板72の裏
側シ二配置された液晶マスク16を介して光源12から
射出され、拡散板14により均一化された光ににり像様
面露光を行うものである。
切片22を積層するもので、1□(板24を移動装置2
6により所定量−1,yさせ、積層体23と樹脂タック
20との間に樹脂液層を形成し、樹脂タンク20の底部
の所定部分を透明板72で構成し、底部透明板72の裏
側シ二配置された液晶マスク16を介して光源12から
射出され、拡散板14により均一化された光ににり像様
面露光を行うものである。
第6図に示す造形装置80は、第5図に示す例と同様に
透明板82の裏側から液晶マスク16を介して露光硬化
して基板24のF側に薄板状切片22を積層するもので
あるが、積層体23と透明板82との間の樹脂液層の形
成を第2図に示す例のように樹脂液貯蔵容器52からポ
ンプ54によりバイブ56を通して供給するものである
。 しかし、第2図に示す例とは異なり、樹脂液18
は、透明板82−トに1層分のの形成される。
透明板82の裏側から液晶マスク16を介して露光硬化
して基板24のF側に薄板状切片22を積層するもので
あるが、積層体23と透明板82との間の樹脂液層の形
成を第2図に示す例のように樹脂液貯蔵容器52からポ
ンプ54によりバイブ56を通して供給するものである
。 しかし、第2図に示す例とは異なり、樹脂液18
は、透明板82−トに1層分のの形成される。
第4〜6図に示す例では、樹脂液18を透明板62.7
2および82で規制しているのて、硬化した薄板状切片
22と透明板62.72.82とをiU IIl[する
必要がある。 このため、透明板62.72.82を剥
離しやすい材料て構成するか、透明板62.72.82
の樹脂液18側の表面に¥1」離を促進する被膜、例え
ば1摸状に形成てきる¥!I 11m1t剤を被覆して
おくのか良い。
2および82で規制しているのて、硬化した薄板状切片
22と透明板62.72.82とをiU IIl[する
必要がある。 このため、透明板62.72.82を剥
離しやすい材料て構成するか、透明板62.72.82
の樹脂液18側の表面に¥1」離を促進する被膜、例え
ば1摸状に形成てきる¥!I 11m1t剤を被覆して
おくのか良い。
また、第4〜6図に示す例において、透明板62.72
.82と液晶マスク16とを一体的に形成する構成であ
ってもよい。 また、透明板62.72.82を省略し
、液晶マスク16を直接用いるようにしてもよい。
.82と液晶マスク16とを一体的に形成する構成であ
ってもよい。 また、透明板62.72.82を省略し
、液晶マスク16を直接用いるようにしてもよい。
図示例においては、オΔ1脂液層を像様に露光硬化させ
るための非発光形表示デバイスからなる露光マスクとし
て透過型液晶デイスプレィからなる液晶マスクを例に挙
げて説明したが、本発明はこれに限定されず、エレクト
ロクロミック表示デバイスや弾語電性セラミック表示デ
バイスなどの様々な非発光表示デバイスか使用可能なこ
とは前述した通っである。 例えは、エレク)・ロクロ
ミック表示デバイス(ECD)としては、WO3、Mo
D3.I r (OH)。なとの無機エレク[・ロクロ
ミック材料もしくはブルシアンブルー系化合物、ビオロ
ゲン誘導体、フタロシアニンなどを用いる有機エレクト
ロクロミック材料の薄膜を透明電極に貼り付け、この膜
を内側にして前記透明電極と対向透明電極との間に電解
質を封入した構造のものを挙げることができる。
るための非発光形表示デバイスからなる露光マスクとし
て透過型液晶デイスプレィからなる液晶マスクを例に挙
げて説明したが、本発明はこれに限定されず、エレクト
ロクロミック表示デバイスや弾語電性セラミック表示デ
バイスなどの様々な非発光表示デバイスか使用可能なこ
とは前述した通っである。 例えは、エレク)・ロクロ
ミック表示デバイス(ECD)としては、WO3、Mo
D3.I r (OH)。なとの無機エレク[・ロクロ
ミック材料もしくはブルシアンブルー系化合物、ビオロ
ゲン誘導体、フタロシアニンなどを用いる有機エレクト
ロクロミック材料の薄膜を透明電極に貼り付け、この膜
を内側にして前記透明電極と対向透明電極との間に電解
質を封入した構造のものを挙げることができる。
また、強誘導性セラミック表示デバイ
スからなる露光マスクとしては、GaAs、KH2PO
,+ 、KD2 PO4、LiNbO2、LiTaO3
,PLZTなどの電気光学効果を示す電気光学材料を2
枚の偏光板(例えは、偏光子と検光子)挟んだマトリッ
クス構造もしくはアレイ状構成の光シャッタを露光マス
クとして用いるものを挙げることができる。
,+ 、KD2 PO4、LiNbO2、LiTaO3
,PLZTなどの電気光学効果を示す電気光学材料を2
枚の偏光板(例えは、偏光子と検光子)挟んだマトリッ
クス構造もしくはアレイ状構成の光シャッタを露光マス
クとして用いるものを挙げることができる。
本発明に係る非発光形表示デバイスを用いる造形方法お
よび造形装置は、基本的に以上のように構成されるが、
本発明はこれに限定されるわけではなく、例えば、印刷
製版用途などのように単に1層のみの硬化層を別の基台
上に形成するものであってもよいなど本発明の要旨を免
税しない範囲において改良および設計の変更か可能なこ
とは勿論である。
よび造形装置は、基本的に以上のように構成されるが、
本発明はこれに限定されるわけではなく、例えば、印刷
製版用途などのように単に1層のみの硬化層を別の基台
上に形成するものであってもよいなど本発明の要旨を免
税しない範囲において改良および設計の変更か可能なこ
とは勿論である。
〈発明の効果〉
以上、詳述したように、本発明の造形方法によれば、所
定厚さの液状樹脂層を液晶マスクなどの非発光形表示デ
バイスよりなる露光マスクを介して面露光して硬化する
ことを繰り返して積層し、3次元物体を得ているので、
従来の多数の写真フィルムをフォトマスクとして使用す
るものに比べて極めて簡単に3次元物体を得ることがで
きるし、また、CADデータや各種処理装酋でIA理さ
れた設計データを直接利用できる。
定厚さの液状樹脂層を液晶マスクなどの非発光形表示デ
バイスよりなる露光マスクを介して面露光して硬化する
ことを繰り返して積層し、3次元物体を得ているので、
従来の多数の写真フィルムをフォトマスクとして使用す
るものに比べて極めて簡単に3次元物体を得ることがで
きるし、また、CADデータや各種処理装酋でIA理さ
れた設計データを直接利用できる。
一方、従来の露光時間か長いレーザスキャン露光による
造形方法に比べて、本発明法は、全面露光により薄板状
切片を硬化させることができるので、露光時間を短縮で
きるし、スキャンを行わないのてX −Y 7J動装置
などが不要で可動部分が少なく装置構成か簡単である。
造形方法に比べて、本発明法は、全面露光により薄板状
切片を硬化させることができるので、露光時間を短縮で
きるし、スキャンを行わないのてX −Y 7J動装置
などが不要で可動部分が少なく装置構成か簡単である。
また、本発明の造形装置によれば、上記本発明法の効果
を具現できるのに加え、高価のX−Y移動装置が不要で
あり、装置構成を小型、コンパクトかつ廉価にすること
かできる。
を具現できるのに加え、高価のX−Y移動装置が不要で
あり、装置構成を小型、コンパクトかつ廉価にすること
かできる。
従って、本発明装置は、設計現場において、設計の確認
のために、機械部品、自動車などの工業製品、住宅、ビ
ル、ホールなどの建築物、橋梁、トンネル、高速道路な
どの建造物などの3次元実体モデルを容易かつ精度よく
かつ廉価に製作することがてぎる。
のために、機械部品、自動車などの工業製品、住宅、ビ
ル、ホールなどの建築物、橋梁、トンネル、高速道路な
どの建造物などの3次元実体モデルを容易かつ精度よく
かつ廉価に製作することがてぎる。
第1図は、本発明に係る非発光形表示デバイスを用いる
造形方法を実施する造形装置の一実施例の模式的断面図
である。 第2a図は、本発明に用いられる液晶マスクの一実施例
の断面図、第2b図は、第2a図の液晶マスクを構成す
る液晶セルの構成を示す斜視図である。 第3図、第4図、第5図および第6図は、それぞれ本発
明の非発光形表示デバイスを用いる造形装置の異なる実
施例の模式的断面図である。 第7図および第8図は、それぞれ、従来の3次元造形装
置の模式的断面図である。 符号の説明 10.50.60.70.80 ・・・液晶マスクを用いる造形装置、 12・・・光源、 14・・・拡散板、 16・・・7夜晶マスク、 18・・・樹脂、 20・・・樹脂液タンク、 22・・・薄板状切片、 23・・・積層体、 24・・・基板、 26.58・・・移動装置、 28・・・データ供給源、 30・・・制御装置、 34・・・液晶、 36.37・・・透明ガラス板、 38.39・・・スペーサ、 40.41・・・透明電極、 42・・・液晶セル、 44.45・・・偏光板、 52・・・樹脂液貯蔵容器、 54・・・ポンプ、 56・・・バイブ、 62.72.82・・・透明板 特許出願人 富士写真フィルム株式会社代 理 人
弁理士 渡 辺 望 稔FIG、2b FIG、3 1?。 742 (J(J
造形方法を実施する造形装置の一実施例の模式的断面図
である。 第2a図は、本発明に用いられる液晶マスクの一実施例
の断面図、第2b図は、第2a図の液晶マスクを構成す
る液晶セルの構成を示す斜視図である。 第3図、第4図、第5図および第6図は、それぞれ本発
明の非発光形表示デバイスを用いる造形装置の異なる実
施例の模式的断面図である。 第7図および第8図は、それぞれ、従来の3次元造形装
置の模式的断面図である。 符号の説明 10.50.60.70.80 ・・・液晶マスクを用いる造形装置、 12・・・光源、 14・・・拡散板、 16・・・7夜晶マスク、 18・・・樹脂、 20・・・樹脂液タンク、 22・・・薄板状切片、 23・・・積層体、 24・・・基板、 26.58・・・移動装置、 28・・・データ供給源、 30・・・制御装置、 34・・・液晶、 36.37・・・透明ガラス板、 38.39・・・スペーサ、 40.41・・・透明電極、 42・・・液晶セル、 44.45・・・偏光板、 52・・・樹脂液貯蔵容器、 54・・・ポンプ、 56・・・バイブ、 62.72.82・・・透明板 特許出願人 富士写真フィルム株式会社代 理 人
弁理士 渡 辺 望 稔FIG、2b FIG、3 1?。 742 (J(J
Claims (4)
- (1)光照射によって硬化する液状の樹脂を所要厚さお
よび形状の薄板状切片として硬化させ、この薄板状切片
を積層して3次元物体を造形するに際し、 前記樹脂を所定厚さの液状未硬化樹脂層として前記3次
元物体を支持する基板またはすでに硬化した薄板状切片
の上または下に形成し、所要形状のマスクを形成するよ
うに制御された非発光形表示デバイスよりなる露光マス
クを通して前記未硬化樹脂層に光照射し、この未硬化樹
脂層を硬化させて薄板状切片を得ることを特徴とする非
発光形表示デバイスを用いる造形方法。 - (2)前記非発光形表示デバイスよりなる露光マスクは
、透過型液晶マスクである請求項1に記載の非発光形表
示デバイスを用いる造形 方法。 - (3)光照射によって硬化する液状の樹脂を所要厚さお
よび形状の薄板状切片として硬化させ、この薄板状切片
を積層して3次元物体を造形する造形装置であって、 前記積層薄板状切片を支持する基板と、 前記樹脂を所定厚さの液状未硬化樹脂層として形成する
ために、前記基板またはすでに硬化した薄板状切片と未
硬化樹脂の液面とを相対的に移動する手段と、 前記未硬化樹脂層に光照射するための光源と、 前記未硬化樹脂層と光源との間に配設され、所要形状の
マスクを形成する非発光形表示デバイスよりなる露光マ
スクと、 前記相対移動手段の移動量および前記露光マスクのマス
ク形状を制御する制御装置とを有することを特徴とする
非発光形表示デバイスを用いる造形装置。 - (4)前記非発光形表示デバイスよりなる露光マスクは
、透過型液晶マスクである請求項3に記載の非発光形表
示デバイスを用いる造形 装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2281073A JPH04156325A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 非発光形表示デバイスを用いる造形方法および造形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2281073A JPH04156325A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 非発光形表示デバイスを用いる造形方法および造形装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04156325A true JPH04156325A (ja) | 1992-05-28 |
Family
ID=17633945
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2281073A Pending JPH04156325A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 非発光形表示デバイスを用いる造形方法および造形装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04156325A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06198747A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-19 | Kawai Musical Instr Mfg Co Ltd | 光造形技術による3次元物体形成装置 |
| JP2001062926A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-03-13 | Teijin Seiki Co Ltd | 光造形装置および光造形方法 |
| JP2009531551A (ja) * | 2006-03-27 | 2009-09-03 | フェデラル−モーグル コーポレイション | 活性マトリクス電気化学堆積による、ヘッドガスケット上における局部的なストッパの製作 |
| US20150137426A1 (en) * | 2013-11-14 | 2015-05-21 | Structo Pte Ltd | Additive manufacturing device and method |
| WO2016122408A1 (en) * | 2015-01-28 | 2016-08-04 | Structo Pte Ltd | Additive manufacturing device with release mechanism |
| JP2018535864A (ja) * | 2015-12-04 | 2018-12-06 | コーブクス・アーゲー | 付加製造装置 |
| WO2019012804A1 (ja) * | 2017-07-10 | 2019-01-17 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 光ヘッドおよび造形装置 |
| EP3405330A4 (en) * | 2016-01-22 | 2019-09-11 | Indizen Optical Technologies Of America, LLC | PRODUCTION OF HOMOGENEOUS OPTICAL ELEMENTS BY GENERATIVE MANUFACTURING |
-
1990
- 1990-10-19 JP JP2281073A patent/JPH04156325A/ja active Pending
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06198747A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-19 | Kawai Musical Instr Mfg Co Ltd | 光造形技術による3次元物体形成装置 |
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| AU2014349268B2 (en) * | 2013-11-14 | 2019-01-31 | Structo Pte. Ltd. | Additive manufacturing device and method |
| US20150137426A1 (en) * | 2013-11-14 | 2015-05-21 | Structo Pte Ltd | Additive manufacturing device and method |
| JP2016540665A (ja) * | 2013-11-14 | 2016-12-28 | ストラクト ピーティーイー.エルティーディーStructo Pte. Ltd | 付加製造装置及び方法 |
| US11926090B2 (en) * | 2013-11-14 | 2024-03-12 | Structo Pte Ltd. | Additive manufacturing device and method |
| US11628616B2 (en) | 2013-11-14 | 2023-04-18 | Structo Pte Ltd | Additive manufacturing device and method |
| US11400645B2 (en) | 2013-11-14 | 2022-08-02 | Structo Pte Ltd | Additive manufacturing device and method |
| US10792859B2 (en) | 2013-11-14 | 2020-10-06 | Structo Pte Ltd | Additive manufacturing device and method |
| JP2020121569A (ja) * | 2013-11-14 | 2020-08-13 | ストラクト ピーティーイー.エルティーディーStructo Pte. Ltd | 付加製造装置及び方法 |
| JP2018503545A (ja) * | 2015-01-28 | 2018-02-08 | ストラクト ピーティーイー リミテッド | 放出機構を有する添加物製造装置 |
| CN107428084B (zh) * | 2015-01-28 | 2020-02-14 | 速科特私人有限公司 | 具有释放机构的增材制造设备 |
| US10882247B2 (en) | 2015-01-28 | 2021-01-05 | Structo Pte Ltd | Additive manufacturing device with release mechanism |
| WO2016122408A1 (en) * | 2015-01-28 | 2016-08-04 | Structo Pte Ltd | Additive manufacturing device with release mechanism |
| KR20180002594A (ko) * | 2015-01-28 | 2018-01-08 | 스트럭토 피티이. 리미티드 | 릴리스 기구를 갖는 적층 가공 장치 |
| CN107428084A (zh) * | 2015-01-28 | 2017-12-01 | 速科特私人有限公司 | 具有释放机构的增材制造设备 |
| JP2018535864A (ja) * | 2015-12-04 | 2018-12-06 | コーブクス・アーゲー | 付加製造装置 |
| EP3405330A4 (en) * | 2016-01-22 | 2019-09-11 | Indizen Optical Technologies Of America, LLC | PRODUCTION OF HOMOGENEOUS OPTICAL ELEMENTS BY GENERATIVE MANUFACTURING |
| CN110831744A (zh) * | 2017-07-10 | 2020-02-21 | 索尼半导体解决方案公司 | 光学头和造型设备 |
| WO2019012804A1 (ja) * | 2017-07-10 | 2019-01-17 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 光ヘッドおよび造形装置 |
| CN110831744B (zh) * | 2017-07-10 | 2022-04-08 | 索尼半导体解决方案公司 | 光学头和造型设备 |
| TWI817948B (zh) * | 2017-07-10 | 2023-10-11 | 日商索尼半導體解決方案公司 | 造形裝置 |
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