JPH04159637A - 光磁気ディスク - Google Patents
光磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH04159637A JPH04159637A JP2285022A JP28502290A JPH04159637A JP H04159637 A JPH04159637 A JP H04159637A JP 2285022 A JP2285022 A JP 2285022A JP 28502290 A JP28502290 A JP 28502290A JP H04159637 A JPH04159637 A JP H04159637A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fine particles
- magneto
- film
- resin
- mixed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光磁気ディスクの構成に関するものであa
従来の技術
返電 光磁気ディスクは高密度記録メディアとして注目
され 一部商品化されている。
され 一部商品化されている。
光磁気ディスクは半導体レーザなどの光を用いて記録再
生を行う記録メディアである。
生を行う記録メディアである。
垂直磁化膜である光磁気記録膜(TbFeCo、DyF
eCoなどの希土類−遷移金属非晶質合金)にレーザ光
を照射して局所加熱すると、この領域の光磁気記録層の
保磁力が減少する。この時、外部磁化を印加して磁化の
向きを変え、情報の書き込へ 消去を行う。
eCoなどの希土類−遷移金属非晶質合金)にレーザ光
を照射して局所加熱すると、この領域の光磁気記録層の
保磁力が減少する。この時、外部磁化を印加して磁化の
向きを変え、情報の書き込へ 消去を行う。
情報の再生(よ カー効果やファラデー効果などの磁気
光学効果を利用する。
光学効果を利用する。
磁界変調方式はレーザ光の強度を固定し 外部印加磁界
の向きを変調する方式であ4 変調した外部印加磁界を
発生する手段として、例えば磁気ディスク装置に用いら
れている浮動型磁気ヘッドがある(例えば特開昭63−
229643号公報)。磁気ヘッドのコイルに流す電流
を変調し 外部印加磁界の変調を行うことができも しかしなかペ レーザ光により局部的に加熱された光磁
気記録膜の磁化を反転する為に必要な磁界1よ 磁気ヘ
ッドの近傍にのみ発生しており、磁気ヘッドと光磁気記
録層の距離はできる限り近づける必要があム 浮動型磁気ヘッド(よ 気体潤滑作用を利用して低浮上
(例えば数μm以下)できるものであり、その構成を簡
素にするためにコンタクト、スタート/ストップ(以下
C5/Sと略す)方式が必須てあム 光磁気ディスクにおいてC3/S方式を行1.%記録及
び再生の信頼性を確保するた数 1、光磁気ディスク静止時に ディスク面と磁気ヘッド
のスライダー面が吸着しないこと、2、光磁気ディスク
の回転始動及び停止時の磁気ヘッド接触走行特級 磁気
ヘッドが光磁気ディスクの光磁気記録層を破壊しないこ
と、 3、磁気ヘッドの浮上を妨げる塵が磁気ヘッドのスライ
ダー面に付着しないことが必要である。
の向きを変調する方式であ4 変調した外部印加磁界を
発生する手段として、例えば磁気ディスク装置に用いら
れている浮動型磁気ヘッドがある(例えば特開昭63−
229643号公報)。磁気ヘッドのコイルに流す電流
を変調し 外部印加磁界の変調を行うことができも しかしなかペ レーザ光により局部的に加熱された光磁
気記録膜の磁化を反転する為に必要な磁界1よ 磁気ヘ
ッドの近傍にのみ発生しており、磁気ヘッドと光磁気記
録層の距離はできる限り近づける必要があム 浮動型磁気ヘッド(よ 気体潤滑作用を利用して低浮上
(例えば数μm以下)できるものであり、その構成を簡
素にするためにコンタクト、スタート/ストップ(以下
C5/Sと略す)方式が必須てあム 光磁気ディスクにおいてC3/S方式を行1.%記録及
び再生の信頼性を確保するた数 1、光磁気ディスク静止時に ディスク面と磁気ヘッド
のスライダー面が吸着しないこと、2、光磁気ディスク
の回転始動及び停止時の磁気ヘッド接触走行特級 磁気
ヘッドが光磁気ディスクの光磁気記録層を破壊しないこ
と、 3、磁気ヘッドの浮上を妨げる塵が磁気ヘッドのスライ
ダー面に付着しないことが必要である。
上述した条件を満たすた敦 基板上番ミ 第1保護風
光磁気記録層及び第2保護膜を順次形成し第2保護膜上
に 熱硬化性樹脂にアルミナ粉及び熱可塑性樹脂を配合
し かつ膜内に潤滑剤を含浸した混合樹脂組成物を設け
た光磁気ディスクが提案されていも (例えば特開昭6
3−229643号公報) また 記録及び再生信号を高品質に保つために光磁気デ
ィスクのレーザー光投入面は塵・汚れの付着がなく、透
明性の経時変化が無いことが要求される。このた数 ポ
リカーボネート基板などの樹脂基板を用いた光磁気ディ
スクでは 基板のレーザー光投入面を紫外線硬化樹脂等
で被覆処理し表面硬度、耐擦傷法 表面導電性の機能を
付与していも 以下、図面を参照しながら、上述した従来の光磁気ディ
スクの一例について説明する。
光磁気記録層及び第2保護膜を順次形成し第2保護膜上
に 熱硬化性樹脂にアルミナ粉及び熱可塑性樹脂を配合
し かつ膜内に潤滑剤を含浸した混合樹脂組成物を設け
た光磁気ディスクが提案されていも (例えば特開昭6
3−229643号公報) また 記録及び再生信号を高品質に保つために光磁気デ
ィスクのレーザー光投入面は塵・汚れの付着がなく、透
明性の経時変化が無いことが要求される。このた数 ポ
リカーボネート基板などの樹脂基板を用いた光磁気ディ
スクでは 基板のレーザー光投入面を紫外線硬化樹脂等
で被覆処理し表面硬度、耐擦傷法 表面導電性の機能を
付与していも 以下、図面を参照しながら、上述した従来の光磁気ディ
スクの一例について説明する。
第4図は従来の光磁気ディスクの構成を示す断面図であ
7)。第4図において、 11は帯電防止剤を添加した
光学的に透明な紫外線硬化樹脂塗風12はポリカーボネ
ート基Mi、13はZnSまたはSiNで構成される第
1保護膜(通常厚さ60〜150nm)、 14はTb
FeCo光磁気記録膜(通常厚さ20〜150nm)、
15はZnSまたはSiNで構成される第2保護膜(
通常厚さ60〜I 50 nm)、 16はアルミナ粉
ポリビニルメチルエーテル樹脂 熱硬化性エポキシ樹
脂で構成される混合樹脂組成物を塗布したクラッシュ防
止膜(厚さ1μm)、 17はフッ化カーボン系オイル
皮罠 18はスライダー、 19はスライダー】8の一
端に設置される磁気ヘットミ 20は対物レンX 2
1はレーザ光 22はディスク回転駆動装置であム 以上のように構成された従来の光磁気ディスクについて
、以下第4図を参照しながらその動作について説明すも ディスク回転駆動装置22が静止時(よ スライダー1
8は光磁気ディスクのクラッシュ防止膜16にフッ化カ
ーボン系オイル皮膜17を介して接触していも ディスク回転駆動装置22が駆動するとスライダー18
はフッ化カーボン系オイル皮膜17上を滑走すム ディ
スク回転駆動装置22の回転速度が上昇し スライダー
18とクラッシュ防止膜16の相対速度が概略1m/s
以上に達すると、スライダー18及び磁気ヘッド19は
フッ化カーボン系オイル皮膜17から浮上す4 磁気ヘッド19が浮上後、磁気ヘッド19と対物レンズ
20及びレーザ光21はアクセス駆動系(図示せず)に
より、ディスク上の任意の位置に移動し レーザ光21
で光磁気記録膜14を局所的に加熱し 磁気ヘッド19
のヘッドコイル(図示せず)に変調電流を流すことによ
り、光磁軍記縁膜14に情報を書き込む。
7)。第4図において、 11は帯電防止剤を添加した
光学的に透明な紫外線硬化樹脂塗風12はポリカーボネ
ート基Mi、13はZnSまたはSiNで構成される第
1保護膜(通常厚さ60〜150nm)、 14はTb
FeCo光磁気記録膜(通常厚さ20〜150nm)、
15はZnSまたはSiNで構成される第2保護膜(
通常厚さ60〜I 50 nm)、 16はアルミナ粉
ポリビニルメチルエーテル樹脂 熱硬化性エポキシ樹
脂で構成される混合樹脂組成物を塗布したクラッシュ防
止膜(厚さ1μm)、 17はフッ化カーボン系オイル
皮罠 18はスライダー、 19はスライダー】8の一
端に設置される磁気ヘットミ 20は対物レンX 2
1はレーザ光 22はディスク回転駆動装置であム 以上のように構成された従来の光磁気ディスクについて
、以下第4図を参照しながらその動作について説明すも ディスク回転駆動装置22が静止時(よ スライダー1
8は光磁気ディスクのクラッシュ防止膜16にフッ化カ
ーボン系オイル皮膜17を介して接触していも ディスク回転駆動装置22が駆動するとスライダー18
はフッ化カーボン系オイル皮膜17上を滑走すム ディ
スク回転駆動装置22の回転速度が上昇し スライダー
18とクラッシュ防止膜16の相対速度が概略1m/s
以上に達すると、スライダー18及び磁気ヘッド19は
フッ化カーボン系オイル皮膜17から浮上す4 磁気ヘッド19が浮上後、磁気ヘッド19と対物レンズ
20及びレーザ光21はアクセス駆動系(図示せず)に
より、ディスク上の任意の位置に移動し レーザ光21
で光磁気記録膜14を局所的に加熱し 磁気ヘッド19
のヘッドコイル(図示せず)に変調電流を流すことによ
り、光磁軍記縁膜14に情報を書き込む。
光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了しディスク回
転駆動装置22を停止する場合、スライダー18及び磁
気l\ラッド9は浮上走行から滑定走行に移り、フッ化
カーボン系オイル皮MIY上を接触走行し クラッシュ
防止膜16上に静止すも 発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような構成で4;l、C3/S試験
を繰り返すとクラッシュ防止膜】6上のフッ化カーボン
系オイル皮膜17に大気中を浮遊する塵や油滴等が付着
し この塵や油滴がスライダー18及び磁気ヘッド19
に再付着し 磁気ヘッド19の安定な浮上走行が妨げら
れ 光磁気記録膜14への印加磁界の強度が変動し 情
報の書き込みが完全に行われず、再生信号エラーが増加
するという課題 さらに 高湿状態のC3/Sではクラ
ッシュ防止膜16と磁気ヘッド19との吸着L 非定常
的ながら発生するという課題 高湿状態が持続した場合
、または高温状態と低湿状態が繰り返された場合に光磁
気ディスクのレーザー光投入面に塵や油滴等の汚れによ
る曇りが生し 記録および再生の安定性が損なわれると
いう課題を有していた 本発明は上記課題に鑑へ 光磁気ディスク表面への塵や
油滴の付着や、磁気ヘッド19の光磁気ディスクへの吸
着がなく、磁気ヘッド19の安定浮上が実現でき、 レ
ーザー光投入面の光透過性に経時変化がない光磁気ディ
スクを提供するものであム 課題を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明の光磁気ディスク(友
基板上に第1保護罠 光磁気記録膜及び第2保護膜を
順次形成L 第2保護膜上(ミ フッ素含有シラン系界
面活性剤化学吸着単分子膜を被覆した無機質微粒子と少
なくとも1種類以上の滑剤化学吸着単分子膜を被覆した
無機質微粒子と帯電防止剤化学吸着単分子膜を被覆した
無機質微粒子を混入した樹脂を形成し 該基板のレーザ
ー光投入面へ フッ素含有シラン系界面活性剤化学吸着
単分子膜を被覆したSiO2微粒子と帯電防止剤化学吸
着単分子膜を被覆したSiO2微粒子を混入した樹脂を
塗布した構成を備えたものである。
転駆動装置22を停止する場合、スライダー18及び磁
気l\ラッド9は浮上走行から滑定走行に移り、フッ化
カーボン系オイル皮MIY上を接触走行し クラッシュ
防止膜16上に静止すも 発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような構成で4;l、C3/S試験
を繰り返すとクラッシュ防止膜】6上のフッ化カーボン
系オイル皮膜17に大気中を浮遊する塵や油滴等が付着
し この塵や油滴がスライダー18及び磁気ヘッド19
に再付着し 磁気ヘッド19の安定な浮上走行が妨げら
れ 光磁気記録膜14への印加磁界の強度が変動し 情
報の書き込みが完全に行われず、再生信号エラーが増加
するという課題 さらに 高湿状態のC3/Sではクラ
ッシュ防止膜16と磁気ヘッド19との吸着L 非定常
的ながら発生するという課題 高湿状態が持続した場合
、または高温状態と低湿状態が繰り返された場合に光磁
気ディスクのレーザー光投入面に塵や油滴等の汚れによ
る曇りが生し 記録および再生の安定性が損なわれると
いう課題を有していた 本発明は上記課題に鑑へ 光磁気ディスク表面への塵や
油滴の付着や、磁気ヘッド19の光磁気ディスクへの吸
着がなく、磁気ヘッド19の安定浮上が実現でき、 レ
ーザー光投入面の光透過性に経時変化がない光磁気ディ
スクを提供するものであム 課題を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明の光磁気ディスク(友
基板上に第1保護罠 光磁気記録膜及び第2保護膜を
順次形成L 第2保護膜上(ミ フッ素含有シラン系界
面活性剤化学吸着単分子膜を被覆した無機質微粒子と少
なくとも1種類以上の滑剤化学吸着単分子膜を被覆した
無機質微粒子と帯電防止剤化学吸着単分子膜を被覆した
無機質微粒子を混入した樹脂を形成し 該基板のレーザ
ー光投入面へ フッ素含有シラン系界面活性剤化学吸着
単分子膜を被覆したSiO2微粒子と帯電防止剤化学吸
着単分子膜を被覆したSiO2微粒子を混入した樹脂を
塗布した構成を備えたものである。
作用
本発明は上記した構成によって、第2保護膜上に塗布し
た熱硬化性あるいは紫外線硬化性の樹脂の表面に露出す
る無機質微粒子表面のフッ素含有シラン系界面活性剤及
び滑剤の作用により、第2保護膜上に塗布した樹脂表面
の動摩擦係数が低減され 磁気ヘッド及びスライダーの
滑走が滑らかになり、また第2保護膜上に塗布した樹脂
表面に露出する無機質微粒子表面のフッ素含有シラン系
界面活性剤及び帯電防止剤の作用により、第2保11M
上に塗布した樹脂表面の汚れの付着防止効果が向上し
さらに光磁気ディスクの基板のレーザー光投入面に形成
した樹脂の表面に露出するSiO2微粒子のフッ素含有
シラン系界面活性剤及び帯電防止剤の作用により汚れの
付着防止効果が向上することになり、安定した磁気ヘッ
ド浮上が達成可能で、汚れの付着防止効果が高い光磁気
ディスクを提供できることとなム 実施例 以下、本発明の一実施例の光磁気ディスクについて、図
面を参照しながら説明すも 第1図1よ 本発明の一実施例における光磁気ディスク
の概略構成を示す断面図であム また 第2図(a)は
本発明の一実施例における光磁気ディスクのレーザー光
投入面の断面拡大模式@ 第2図(b)は本発明の一実
施例における光磁気ディスクの磁気ヘッド接触面の断面
拡大模式図である。第1図及び第2図(a)、 (b)
に於いて、1はポリカーボネート等の基板、 13はZ
nS、Zn5e−8i02あるいはSiNで構成される
第1保護M(厚さ80nm)、 14はTbFeC。
た熱硬化性あるいは紫外線硬化性の樹脂の表面に露出す
る無機質微粒子表面のフッ素含有シラン系界面活性剤及
び滑剤の作用により、第2保護膜上に塗布した樹脂表面
の動摩擦係数が低減され 磁気ヘッド及びスライダーの
滑走が滑らかになり、また第2保護膜上に塗布した樹脂
表面に露出する無機質微粒子表面のフッ素含有シラン系
界面活性剤及び帯電防止剤の作用により、第2保11M
上に塗布した樹脂表面の汚れの付着防止効果が向上し
さらに光磁気ディスクの基板のレーザー光投入面に形成
した樹脂の表面に露出するSiO2微粒子のフッ素含有
シラン系界面活性剤及び帯電防止剤の作用により汚れの
付着防止効果が向上することになり、安定した磁気ヘッ
ド浮上が達成可能で、汚れの付着防止効果が高い光磁気
ディスクを提供できることとなム 実施例 以下、本発明の一実施例の光磁気ディスクについて、図
面を参照しながら説明すも 第1図1よ 本発明の一実施例における光磁気ディスク
の概略構成を示す断面図であム また 第2図(a)は
本発明の一実施例における光磁気ディスクのレーザー光
投入面の断面拡大模式@ 第2図(b)は本発明の一実
施例における光磁気ディスクの磁気ヘッド接触面の断面
拡大模式図である。第1図及び第2図(a)、 (b)
に於いて、1はポリカーボネート等の基板、 13はZ
nS、Zn5e−8i02あるいはSiNで構成される
第1保護M(厚さ80nm)、 14はTbFeC。
光磁気記録膜(厚さ10100n、 15はZnS、Z
n5e−8】02あるいはSiNで構成される第2保護
膜(厚さ80nm)、 23はCF3(CH2)17S
iC13(フッ素含有シラン系界面活性剤)の化学吸着
単分子膜を被覆したSiO2微粒子、 24はカチオン
系第4級アンモニウム塩型の帯電防止剤の化学吸着単分
子膜を被覆したSiO2微粒子、2は23、24の被覆
剤の異なる各SiO2微粒子を混入した光学的に透明な
紫外線硬化性の樹脂(以下、単分子吸着微粒子混合トッ
プコート樹脂と略す)、 31はCF3 (CH2)
17S i C13(フッ素含有シラン系界面活性剤)
の化学吸着単分子膜を被覆したAl2O3微粒子、 3
2はステアリン酸ブチル(滑剤)の化学吸着単分子膜を
被覆したAl2O3微粒子、 33はオレイルオレート
(滑剤)の化学吸着単分子膜を被覆したAl2O3微粒
子、34はカチオン系第4級アンモニウム塩型の帯電防
止剤の化学吸着単分子膜を被覆したAl2O3微粒子、
3は31、32、33、34の被覆剤の異なる各Al
2O3微粒子を混入した熱硬化性あるいは紫外線硬化性
の樹脂(以下、単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹
脂と略す)、 18はMnZnフェライトで構成された
スライダー、 19はスライダー18の一端に取り付け
られたMnZnフェライトで構成された磁気ヘッド、
20は対物レンλ 21はレーザ光 22はディスク回
転駆動装置であム 以上のように構成された本発明の一実施例における光磁
気ディスクについて、以下第1図を用いてその動作を説
明すも ディスク回転駆動装置22の静止時、スライダー18は
光磁気ディスクの単分子吸着微粒子混合オーバーコート
樹脂3に接触していも 単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹脂3の表面には
混合したAl2O3微粒子31、32、33、34の一
部が露出していも Al2O3微粒子310表面にはC
F3(CH2)17SiC13(フッ素含有シラン系界
面活性剤)、Al2O3微粒子32の表面にはステアリ
ン酸ブチル(滑剤)、Al2O3微粒子33の表面には
オレイルオレート(滑剤)、Al2O3微粒子34の表
面にはカチオン系第4級アンモニウム塩型の帯電防止剤
が吸着しており、Al2O3微粒子31、32、33、
34の混合割合に応じてCF3(CH2)17SiC1
3(フッ素含有シラン系界面活性剤)、ステアリン酸ブ
チル(滑剤)、オレイルオレート(滑剤)、カチオン系
第4級アンモニウム塩型の帯電防止剤が単分子吸着微粒
子混合オーバーコート樹脂3の表面に現われも 本実施例では スライダー18と単分子吸着微粒子演台
オーバーコート樹脂3の吸着防止 及び単分子吸着微粒
子混合オーバーコート樹脂3の表面への塵・汚れの付着
防止のた敢 各Al2O3微粒子の混合比を、 ]:3 としていも この結果 単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹脂3
とスライダー18の動摩擦係数はO,1以下となり、臨
界表面張力は25 d y n e / c m以下で
あっ九 また 表面抵抗は1011〜1o12Ωのオー
ダーであっ九 基板1のレーザー光投入面に塗布した単分子吸着微粒子
混合トップコート樹脂2は混合する微粒子としてSiO
2を選んでいるた敢 光学的な透明性は確保されていも
そして単分子吸着微粒子混合トップコート樹脂2の表
面には混合したSiO2微粒子23、24の一部が露出
している。混合したSiO2微粒子23の表面にはCF
3(CH2)17S i CI 3 (フッ素含有シラ
ン系界面活性剤)、SiO2@粒子24の表面にはカチ
オン系第4級アンモニウム塩型の帯電防止剤が吸着して
おり、SiO2微粒子23、24の混合割合に応じてC
F3(CH2) 17S i C] 3 (フッ素含有
シラン系界面活性剤)、カチオン系第4級アンモニウム
塩型の帯電防止剤が単分子吸着微粒子混合トップコート
樹脂2の表面に現われも 本実施例では 単分子吸着微粒子混合トップコート樹脂
2の表面への汚れの付着防止のたへ 各S】02微粒子
の混合比を、 SiO2微粒子23:Si○2微粒子24=]、:1、
としている。
n5e−8】02あるいはSiNで構成される第2保護
膜(厚さ80nm)、 23はCF3(CH2)17S
iC13(フッ素含有シラン系界面活性剤)の化学吸着
単分子膜を被覆したSiO2微粒子、 24はカチオン
系第4級アンモニウム塩型の帯電防止剤の化学吸着単分
子膜を被覆したSiO2微粒子、2は23、24の被覆
剤の異なる各SiO2微粒子を混入した光学的に透明な
紫外線硬化性の樹脂(以下、単分子吸着微粒子混合トッ
プコート樹脂と略す)、 31はCF3 (CH2)
17S i C13(フッ素含有シラン系界面活性剤)
の化学吸着単分子膜を被覆したAl2O3微粒子、 3
2はステアリン酸ブチル(滑剤)の化学吸着単分子膜を
被覆したAl2O3微粒子、 33はオレイルオレート
(滑剤)の化学吸着単分子膜を被覆したAl2O3微粒
子、34はカチオン系第4級アンモニウム塩型の帯電防
止剤の化学吸着単分子膜を被覆したAl2O3微粒子、
3は31、32、33、34の被覆剤の異なる各Al
2O3微粒子を混入した熱硬化性あるいは紫外線硬化性
の樹脂(以下、単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹
脂と略す)、 18はMnZnフェライトで構成された
スライダー、 19はスライダー18の一端に取り付け
られたMnZnフェライトで構成された磁気ヘッド、
20は対物レンλ 21はレーザ光 22はディスク回
転駆動装置であム 以上のように構成された本発明の一実施例における光磁
気ディスクについて、以下第1図を用いてその動作を説
明すも ディスク回転駆動装置22の静止時、スライダー18は
光磁気ディスクの単分子吸着微粒子混合オーバーコート
樹脂3に接触していも 単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹脂3の表面には
混合したAl2O3微粒子31、32、33、34の一
部が露出していも Al2O3微粒子310表面にはC
F3(CH2)17SiC13(フッ素含有シラン系界
面活性剤)、Al2O3微粒子32の表面にはステアリ
ン酸ブチル(滑剤)、Al2O3微粒子33の表面には
オレイルオレート(滑剤)、Al2O3微粒子34の表
面にはカチオン系第4級アンモニウム塩型の帯電防止剤
が吸着しており、Al2O3微粒子31、32、33、
34の混合割合に応じてCF3(CH2)17SiC1
3(フッ素含有シラン系界面活性剤)、ステアリン酸ブ
チル(滑剤)、オレイルオレート(滑剤)、カチオン系
第4級アンモニウム塩型の帯電防止剤が単分子吸着微粒
子混合オーバーコート樹脂3の表面に現われも 本実施例では スライダー18と単分子吸着微粒子演台
オーバーコート樹脂3の吸着防止 及び単分子吸着微粒
子混合オーバーコート樹脂3の表面への塵・汚れの付着
防止のた敢 各Al2O3微粒子の混合比を、 ]:3 としていも この結果 単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹脂3
とスライダー18の動摩擦係数はO,1以下となり、臨
界表面張力は25 d y n e / c m以下で
あっ九 また 表面抵抗は1011〜1o12Ωのオー
ダーであっ九 基板1のレーザー光投入面に塗布した単分子吸着微粒子
混合トップコート樹脂2は混合する微粒子としてSiO
2を選んでいるた敢 光学的な透明性は確保されていも
そして単分子吸着微粒子混合トップコート樹脂2の表
面には混合したSiO2微粒子23、24の一部が露出
している。混合したSiO2微粒子23の表面にはCF
3(CH2)17S i CI 3 (フッ素含有シラ
ン系界面活性剤)、SiO2@粒子24の表面にはカチ
オン系第4級アンモニウム塩型の帯電防止剤が吸着して
おり、SiO2微粒子23、24の混合割合に応じてC
F3(CH2) 17S i C] 3 (フッ素含有
シラン系界面活性剤)、カチオン系第4級アンモニウム
塩型の帯電防止剤が単分子吸着微粒子混合トップコート
樹脂2の表面に現われも 本実施例では 単分子吸着微粒子混合トップコート樹脂
2の表面への汚れの付着防止のたへ 各S】02微粒子
の混合比を、 SiO2微粒子23:Si○2微粒子24=]、:1、
としている。
この結果 単分子吸着微粒子混合トップコート樹脂2の
臨界表面張力はポリテトラフォルオロエチレンに匹敵す
る20dyne/cm以下であっ九 また 表面抵抗は
IQII〜IQIRΩのオーダーであっμ ディスク回転駆動装置22が駆動すると、スライダー1
8は単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹脂3上を滑
らかに滑走すム ディスク回転駆動装置22の回転速度
が上昇し スライダー18と単分子吸着微粒子混合オー
バーコート樹脂3の相対速度が概略1m/s以上に達す
ると、スライダー18及び磁気ヘッド19は単分子吸着
微粒子混合オーバーコート樹脂3から浮上すも磁気ヘッ
ド19が浮上機 磁気ヘッド】9と対物レンズ20及び
レーザ光21はアクセス駆動系(図示せず)により、デ
ィスク上の任意の位置に移動ニ レーザ光2Iで光磁気
記録膜14を局所的に加熱じ 磁気ヘッド19のヘッド
コイル(図示せず)に変調電流を流すことにより、光磁
気記録膜14に情報を書き込a − 光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了レディスフ回
転駆動装置22を停止した場合、スライダー18および
磁気ヘッド19は浮上走行から滑走走行に移り、単分子
吸着微粒子混合オーバーコート樹脂3上に静止すも 光磁気記録膜14の記録再生特性の経時変化を第3図に
描く。第3図は30℃多塵環境下でその相対湿度を30
%と80%に繰り返し変化させ、1回/15分の割合で
CS / S、 記録再生を繰り返した場合の経過時
間に対する再生信号エラーの変化を示したものであム
第3図に於いて、Aは本実施例に於ける構成による光磁
気ディスクの再生信号エラーの変化 Bは従来の構成に
よる光磁気ディスクの再生信号エラーの変化であム 第
3図から明らかなように従来例にみられるエラー増加は
認められな(t これCよ 単分子吸着微粒子混合トップコート樹脂2及
び単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹脂3の臨界表
面張力が非常に小さく、表面抵抗かIQ+2〜1013
Ωと樹脂単体に比べて小さいたム各樹脂の表面への汚れ
付着が防止でき、レーサー光21が汚れに影響されるこ
となく光磁気記録膜14に到達し また スライダー1
8の安定浮上が確保できているため磁界印加が安定に行
えるためであム 更に 表面張力の低下、潤滑性、帯電防止に作用する 界面活性剤 滑剋 帯電防止剤を各微粒子表面に吸着さ
せ、その微粒子を樹脂中に埋め込んでいるたへ 表面張
力の低下、潤滑法 帯電防止に作用する界面活性剤 滑
剋 帯電防止剤を樹脂の表面に塗布している従来例に比
べ 表面張力 潤滑体帯電防止性の機能が経時劣化しな
いためであも以上のように本実施例によれば 基板1上
に第1保護M13、光磁気記録層14及び第2保護膜1
5を順次形成L−第2保護膜15上に単分子吸着微粒子
混合オーバーコート樹脂3を形成し 基板1のレーザー
光投入面に単分子吸着微粒子混合トップコート樹脂2を
形成することにより、安定した記録バイアス磁界印加が
実現でき、記録媒体へのレーザー光照射が安定して行え
る光磁気ディスクを提供することができる。
臨界表面張力はポリテトラフォルオロエチレンに匹敵す
る20dyne/cm以下であっ九 また 表面抵抗は
IQII〜IQIRΩのオーダーであっμ ディスク回転駆動装置22が駆動すると、スライダー1
8は単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹脂3上を滑
らかに滑走すム ディスク回転駆動装置22の回転速度
が上昇し スライダー18と単分子吸着微粒子混合オー
バーコート樹脂3の相対速度が概略1m/s以上に達す
ると、スライダー18及び磁気ヘッド19は単分子吸着
微粒子混合オーバーコート樹脂3から浮上すも磁気ヘッ
ド19が浮上機 磁気ヘッド】9と対物レンズ20及び
レーザ光21はアクセス駆動系(図示せず)により、デ
ィスク上の任意の位置に移動ニ レーザ光2Iで光磁気
記録膜14を局所的に加熱じ 磁気ヘッド19のヘッド
コイル(図示せず)に変調電流を流すことにより、光磁
気記録膜14に情報を書き込a − 光磁気ディスクへの情報の記録再生が終了レディスフ回
転駆動装置22を停止した場合、スライダー18および
磁気ヘッド19は浮上走行から滑走走行に移り、単分子
吸着微粒子混合オーバーコート樹脂3上に静止すも 光磁気記録膜14の記録再生特性の経時変化を第3図に
描く。第3図は30℃多塵環境下でその相対湿度を30
%と80%に繰り返し変化させ、1回/15分の割合で
CS / S、 記録再生を繰り返した場合の経過時
間に対する再生信号エラーの変化を示したものであム
第3図に於いて、Aは本実施例に於ける構成による光磁
気ディスクの再生信号エラーの変化 Bは従来の構成に
よる光磁気ディスクの再生信号エラーの変化であム 第
3図から明らかなように従来例にみられるエラー増加は
認められな(t これCよ 単分子吸着微粒子混合トップコート樹脂2及
び単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹脂3の臨界表
面張力が非常に小さく、表面抵抗かIQ+2〜1013
Ωと樹脂単体に比べて小さいたム各樹脂の表面への汚れ
付着が防止でき、レーサー光21が汚れに影響されるこ
となく光磁気記録膜14に到達し また スライダー1
8の安定浮上が確保できているため磁界印加が安定に行
えるためであム 更に 表面張力の低下、潤滑性、帯電防止に作用する 界面活性剤 滑剋 帯電防止剤を各微粒子表面に吸着さ
せ、その微粒子を樹脂中に埋め込んでいるたへ 表面張
力の低下、潤滑法 帯電防止に作用する界面活性剤 滑
剋 帯電防止剤を樹脂の表面に塗布している従来例に比
べ 表面張力 潤滑体帯電防止性の機能が経時劣化しな
いためであも以上のように本実施例によれば 基板1上
に第1保護M13、光磁気記録層14及び第2保護膜1
5を順次形成L−第2保護膜15上に単分子吸着微粒子
混合オーバーコート樹脂3を形成し 基板1のレーザー
光投入面に単分子吸着微粒子混合トップコート樹脂2を
形成することにより、安定した記録バイアス磁界印加が
実現でき、記録媒体へのレーザー光照射が安定して行え
る光磁気ディスクを提供することができる。
な耘 本実施例で(表 単分子吸着微粒子混合オーバー
コート樹脂3に混合する無機質微粒子としてAl2O3
微粒子とした戟 この無機質微粒子はZrO2微粒子と
しても同様な効果を得ることが出来も まな 本実施例では単分子吸着微粒子混合トップコート
樹脂2中及び単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹脂
3中の各微粒子に吸着する単分子番ミ フッ素含有シ
ラン系界面活性剤として、CF3 (CH2)17S
i C13を用いた力(CF3 (CF2) 3 (C
H2) 175 i Cl 3゜でも同様な効果が得ら
れた また 帯電防止剤としてカチオン系第4級アンモ
ニウム塩型の帯電防止剤を用いたカミ カチオン系第3
級アミン型や両性型でも同様な効果が得られム 更番ミ
滑剤としてステアリン酸ブチ/J オレイルオレー
トを用いた力(ラウリン酸、オレイン酸、パルチミン酸
、ミリスチン酸等の高級脂肪酸、脂肪酸エステル、ステ
アリルアルコールや、バルイミチルアルコール等の高級
アルコール等の混合物でも同様の効果が得られも そして、本実施例では第2保護膜15上に混合紫外線硬
化性樹脂2を塗布した力(第2保護膜上に反射膜を設け
、この反射膜上に単分子吸着微粒子混合オーバーコート
樹脂3を塗布した構成に於いても同様の効果が得られも また 本実施例では 光磁気記録膜14が第1保護膜1
3と第2保護膜15の間に設けられている力(光磁気記
録膜14及び反射膜を第1保護膜13と第2保護膜15
の間に設けた構成に於いても同様な効果が得られも そして、本実施例では単分子吸着微粒子混合オーバーコ
ート樹脂3を第2保護腹15上に直接塗布した力丈 第
2保護1]*15と単分子吸着微粒子混合オーバーコー
ト樹脂3間に 例えば紫外線硬化性樹脂などの中間膜を
介在した場合にも本実施例と同様の効果が得られるもの
であ本 発明の効果 以上のように本発明(よ 基板上に第1保護風光磁気記
録層及び第2保護展を順次形成L 第2保護膜上に
フッ素含有シラン系界面活性剤化学吸着単分子膜を被覆
した無機質酸化微粒子と、少なくとも1種類以上の滑剤
化学吸着単分子膜を被覆した無機質酸化微粒子と、帯電
防止剤化学吸着単分子膜を被覆した無機質酸化微粒子を
混入した熱硬化性あるいは紫外線硬化性の樹脂を設置上
基板のレーザー光投入面にフッ素含有シラン系界面活
性剤化学吸着単分子膜を被覆したSiO2微粒子と、帯
電防止剤化学吸着単分子膜を被覆したSiO2微粒子を
混入した光学的に透明な熱硬化性あるいは紫外線硬化性
の樹脂を設けることにより、スライダー、磁気ヘッドに
付着した塵が再付着することを防止し 磁気ヘッドの安
定した浮上走行を行うことができ、光磁気記録膜への磁
界印加を確実に行え 記録再生の信頼性が高い光磁気デ
ィスクを提供することができも
コート樹脂3に混合する無機質微粒子としてAl2O3
微粒子とした戟 この無機質微粒子はZrO2微粒子と
しても同様な効果を得ることが出来も まな 本実施例では単分子吸着微粒子混合トップコート
樹脂2中及び単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹脂
3中の各微粒子に吸着する単分子番ミ フッ素含有シ
ラン系界面活性剤として、CF3 (CH2)17S
i C13を用いた力(CF3 (CF2) 3 (C
H2) 175 i Cl 3゜でも同様な効果が得ら
れた また 帯電防止剤としてカチオン系第4級アンモ
ニウム塩型の帯電防止剤を用いたカミ カチオン系第3
級アミン型や両性型でも同様な効果が得られム 更番ミ
滑剤としてステアリン酸ブチ/J オレイルオレー
トを用いた力(ラウリン酸、オレイン酸、パルチミン酸
、ミリスチン酸等の高級脂肪酸、脂肪酸エステル、ステ
アリルアルコールや、バルイミチルアルコール等の高級
アルコール等の混合物でも同様の効果が得られも そして、本実施例では第2保護膜15上に混合紫外線硬
化性樹脂2を塗布した力(第2保護膜上に反射膜を設け
、この反射膜上に単分子吸着微粒子混合オーバーコート
樹脂3を塗布した構成に於いても同様の効果が得られも また 本実施例では 光磁気記録膜14が第1保護膜1
3と第2保護膜15の間に設けられている力(光磁気記
録膜14及び反射膜を第1保護膜13と第2保護膜15
の間に設けた構成に於いても同様な効果が得られも そして、本実施例では単分子吸着微粒子混合オーバーコ
ート樹脂3を第2保護腹15上に直接塗布した力丈 第
2保護1]*15と単分子吸着微粒子混合オーバーコー
ト樹脂3間に 例えば紫外線硬化性樹脂などの中間膜を
介在した場合にも本実施例と同様の効果が得られるもの
であ本 発明の効果 以上のように本発明(よ 基板上に第1保護風光磁気記
録層及び第2保護展を順次形成L 第2保護膜上に
フッ素含有シラン系界面活性剤化学吸着単分子膜を被覆
した無機質酸化微粒子と、少なくとも1種類以上の滑剤
化学吸着単分子膜を被覆した無機質酸化微粒子と、帯電
防止剤化学吸着単分子膜を被覆した無機質酸化微粒子を
混入した熱硬化性あるいは紫外線硬化性の樹脂を設置上
基板のレーザー光投入面にフッ素含有シラン系界面活
性剤化学吸着単分子膜を被覆したSiO2微粒子と、帯
電防止剤化学吸着単分子膜を被覆したSiO2微粒子を
混入した光学的に透明な熱硬化性あるいは紫外線硬化性
の樹脂を設けることにより、スライダー、磁気ヘッドに
付着した塵が再付着することを防止し 磁気ヘッドの安
定した浮上走行を行うことができ、光磁気記録膜への磁
界印加を確実に行え 記録再生の信頼性が高い光磁気デ
ィスクを提供することができも
第1図は本発明の一実施例における光磁気ディスクの概
略構成を示す断面図 第2図(a)は本発明の一実施例
における光磁気ディスクのレーザー光投入面の断面拡大
模式医 第2図(b)は本発明の一実施例における光磁
気ディスクの磁気ヘッド接触面の断面拡大模式医 第3
図は30℃(30%〜80%RH)多塵環境下での繰り
返しC3/S記録再生試験結果の特性医 第4図は従来
の光磁気ディスクの概略構成を示す断面図であムト・・
基板 2・・・単分子吸着微粒子混合トップコート樹脂
3・・・単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹脂
11・・・紫外線硬化樹脂塗a、 12・・・ポリカー
ボネート基板、 13・・・第1保護[L 14・・・
光磁気記録1111.15・・・第2保護罠 16・・
・クラッシュ防止罠 17・・・フッ化カーボン系オイ
ル皮A18・・・スライダス 19・・・磁気ヘッド、
20・・・対物レンス 21・・・レーザ光 22・
・・ディスク回転駆動装置t23.24・・・SiO2
微粒子、 31、32、33、34・・ ・Al2O3
微粒子。 代理人の氏名 弁理士 小鍜治 明 ほか2名 石 1 図 @ 2 図 Cユ) z3 24 Ib) ii3図 10 100 /I!7ρ6
1000(r経A吟閉(時間) 第4図
略構成を示す断面図 第2図(a)は本発明の一実施例
における光磁気ディスクのレーザー光投入面の断面拡大
模式医 第2図(b)は本発明の一実施例における光磁
気ディスクの磁気ヘッド接触面の断面拡大模式医 第3
図は30℃(30%〜80%RH)多塵環境下での繰り
返しC3/S記録再生試験結果の特性医 第4図は従来
の光磁気ディスクの概略構成を示す断面図であムト・・
基板 2・・・単分子吸着微粒子混合トップコート樹脂
3・・・単分子吸着微粒子混合オーバーコート樹脂
11・・・紫外線硬化樹脂塗a、 12・・・ポリカー
ボネート基板、 13・・・第1保護[L 14・・・
光磁気記録1111.15・・・第2保護罠 16・・
・クラッシュ防止罠 17・・・フッ化カーボン系オイ
ル皮A18・・・スライダス 19・・・磁気ヘッド、
20・・・対物レンス 21・・・レーザ光 22・
・・ディスク回転駆動装置t23.24・・・SiO2
微粒子、 31、32、33、34・・ ・Al2O3
微粒子。 代理人の氏名 弁理士 小鍜治 明 ほか2名 石 1 図 @ 2 図 Cユ) z3 24 Ib) ii3図 10 100 /I!7ρ6
1000(r経A吟閉(時間) 第4図
Claims (3)
- (1)フッ素含有シラン系界面活性剤化学吸着単分子膜
を被覆した無機質微粒子と、少なくとも1種類以上の滑
剤化学吸着単分子膜を被覆した無機質微粒子と、帯電防
止剤化学吸着単分子膜を被覆した無機質微粒子を混入し
た熱硬化性あるいは紫外線硬化性の樹脂で、基板上に形
成された記録部材を被覆したことを特徴とする光磁気デ
ィスク。 - (2)無機質微粒子が酸素原子を含むことを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の光磁気ディスク。 - (3)フッ素含有シラン系界面活性剤化学吸着単分子膜
を被覆したSiO_2微粒子と、帯電防止剤化学吸着単
分子膜を被覆したSiO_2微粒子を混入した光学的に
透明な熱硬化性あるいは紫外線硬化性の樹脂で、基板の
レーザー光投入面を被覆したことを特徴とする光磁気デ
ィスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2285022A JPH04159637A (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | 光磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2285022A JPH04159637A (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | 光磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04159637A true JPH04159637A (ja) | 1992-06-02 |
Family
ID=17686143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2285022A Pending JPH04159637A (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | 光磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04159637A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6249403B1 (en) * | 1997-05-23 | 2001-06-19 | Hitachi, Ltd. | Magnetic hard disk drive and process for producing the same |
-
1990
- 1990-10-22 JP JP2285022A patent/JPH04159637A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6249403B1 (en) * | 1997-05-23 | 2001-06-19 | Hitachi, Ltd. | Magnetic hard disk drive and process for producing the same |
| US6329023B2 (en) | 1997-05-30 | 2001-12-11 | Hitachi, Ltd. | Process for producing a magnetic head slider |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0467705B1 (en) | Optical disk | |
| CA2034280C (en) | Magneto-optical recording device | |
| JPH07176103A (ja) | 光磁気記録再生システムならびにこれに用いる磁気ヘッド及び光磁気記録媒体 | |
| JPH11213444A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH117657A (ja) | 光記録媒体、光ヘッド及び光記録装置 | |
| JPH04159637A (ja) | 光磁気ディスク | |
| JPH01236412A (ja) | 光―磁気ヘッド | |
| JP2730224B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
| CA2046178C (en) | Magneto-optical disk with lubricant film | |
| JPS63229643A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2563626B2 (ja) | 光磁気ディスク及びディスクカートリッジ | |
| JP2622015B2 (ja) | 光磁気ディスクの製造方法 | |
| JPH0362338A (ja) | 光ディスク用オーバーコート層およびその材料 | |
| JP3421875B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH03157836A (ja) | 光磁気ディスク | |
| JPH06162568A (ja) | 光記録媒体 | |
| JP3518887B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP2955959B2 (ja) | 光磁気ディスク及びその製造方法 | |
| JPH04315839A (ja) | 磁界変調光磁気ディスク | |
| JP3382010B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH03125352A (ja) | 光磁気記録装置 | |
| JPH07121919A (ja) | 光学的記録媒体 | |
| JPH03296902A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH1173682A (ja) | 光記録媒体、光ヘッド及び光記録装置 | |
| JPH0467447A (ja) | 光磁気ディスク及びその製造方法 |