JPH04162685A - 半導体レーザ励起固体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ励起固体レーザ装置Info
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- JPH04162685A JPH04162685A JP29044790A JP29044790A JPH04162685A JP H04162685 A JPH04162685 A JP H04162685A JP 29044790 A JP29044790 A JP 29044790A JP 29044790 A JP29044790 A JP 29044790A JP H04162685 A JPH04162685 A JP H04162685A
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- Japan
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- laser
- excitation light
- optical material
- light
- optical film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、半導体レーザを励起光源とし、レーザ共振器
内にレーザ媒質と非線形光学材料を配置した固体レーザ
装置に関する。
内にレーザ媒質と非線形光学材料を配置した固体レーザ
装置に関する。
「従来の技術」
近年、半導体レーザ、特にレーザダイオード(以下LD
という)を励起光源とする固体レーザ装置の研究開発が
盛んに行なわれている。このLD励起固体レーザは、従
来のランプ励起に比べ、励起光源の寿命が長いことや、
レーザ媒質での熱的影響がほとんどなく水冷の必要がな
いことから、小型・長寿命の全固体素子レーザとして注
目されている。
という)を励起光源とする固体レーザ装置の研究開発が
盛んに行なわれている。このLD励起固体レーザは、従
来のランプ励起に比べ、励起光源の寿命が長いことや、
レーザ媒質での熱的影響がほとんどなく水冷の必要がな
いことから、小型・長寿命の全固体素子レーザとして注
目されている。
全固体素子レーザとしては、現在LDがよく知られてい
るが、LDは空間出力形状が楕円であることや、瞬間端
面破壊などの問題がある。LD励起固体レーザでは、そ
れらの問題は解消された上、励起準位での寿命が長いた
め、エネルギーを蓄えることができ、そのためQスイッ
チ発振によって高いピーク出力が得られる等の特徴を有
している。
るが、LDは空間出力形状が楕円であることや、瞬間端
面破壊などの問題がある。LD励起固体レーザでは、そ
れらの問題は解消された上、励起準位での寿命が長いた
め、エネルギーを蓄えることができ、そのためQスイッ
チ発振によって高いピーク出力が得られる等の特徴を有
している。
また、レーザ共振器内部に非線形光学材料を設けること
により、LDによっては発光が難しい緑色や青色等の可
視光を波長変換により容易に発生させることもできる。
により、LDによっては発光が難しい緑色や青色等の可
視光を波長変換により容易に発生させることもできる。
LD励起固体レーザは、このような特徴を有するため、
光情報伝達装置、例えば光記録再生装置などの分野にお
ける応用が期待されている。
光情報伝達装置、例えば光記録再生装置などの分野にお
ける応用が期待されている。
第7図には、レーザ共振器内部に非線形光学材料を備え
た従来のLD励起固体レーザ装置の一例が示されている
。すなわち、励起光源としてLD41が配置され、その
励起光51の出射方向には、集光レンズ系43が配置さ
れている。集光レンズ系43の光出射方向には、例えば
YAGなどのレーザ媒質45が配置されている。レーザ
媒質45の励起光51の入射面には、励起光51を透過
し、レーザ発振光52を反射する光学膜53が設けられ
ている。この光学膜53は、ミラーとして機能し、光学
膜53と出力ミラー49とでレーザ共振器を構成する。
た従来のLD励起固体レーザ装置の一例が示されている
。すなわち、励起光源としてLD41が配置され、その
励起光51の出射方向には、集光レンズ系43が配置さ
れている。集光レンズ系43の光出射方向には、例えば
YAGなどのレーザ媒質45が配置されている。レーザ
媒質45の励起光51の入射面には、励起光51を透過
し、レーザ発振光52を反射する光学膜53が設けられ
ている。この光学膜53は、ミラーとして機能し、光学
膜53と出力ミラー49とでレーザ共振器を構成する。
そして、レーザ媒質45と出力ミラー49との間には非
線形光学材料47が配置されている。出力ミラー49の
入射面には、レーザ発振光を反射し、非線形光学材料4
7で変換された波長変換光54を透過する光学膜50が
形成されている。
線形光学材料47が配置されている。出力ミラー49の
入射面には、レーザ発振光を反射し、非線形光学材料4
7で変換された波長変換光54を透過する光学膜50が
形成されている。
LD41から出射される励起光51は、集光レンズ系4
3を通過して細いビームに絞られ、光学膜53を通して
レーザ媒質45の一方の端面から入射する。励起光51
は、レーザ媒質45内を通過するときに大部分が吸収さ
れ、レーザ媒質から特定の波長のレーザ光が発生する。
3を通過して細いビームに絞られ、光学膜53を通して
レーザ媒質45の一方の端面から入射する。励起光51
は、レーザ媒質45内を通過するときに大部分が吸収さ
れ、レーザ媒質から特定の波長のレーザ光が発生する。
このレーザ光は、非線形光学材料47を通過して出力ミ
ラー49の光学膜50で反射され、レーザ媒質45の入
射面に形成された光学膜53との間で反射を繰り返して
、レーザ発振光52となる。このレーザ発振光52は、
非線形光学材料47を通過するときに一部が波長1/2
の第2高調波に変換され、この波長変換光54が出力ミ
ラー49を透過して出力される。
ラー49の光学膜50で反射され、レーザ媒質45の入
射面に形成された光学膜53との間で反射を繰り返して
、レーザ発振光52となる。このレーザ発振光52は、
非線形光学材料47を通過するときに一部が波長1/2
の第2高調波に変換され、この波長変換光54が出力ミ
ラー49を透過して出力される。
上記の装置において、非線形光学材料47における第2
高調波への変換を効率よく行なうには、位相整合をとる
ことが必要である。位相整合の方法としては、レーザ発
振光52の光軸に対する非線形光学材料47の結晶軸の
角度を所定の値にする方法(角度整合)が多用されてい
る。
高調波への変換を効率よく行なうには、位相整合をとる
ことが必要である。位相整合の方法としては、レーザ発
振光52の光軸に対する非線形光学材料47の結晶軸の
角度を所定の値にする方法(角度整合)が多用されてい
る。
[発明が解決しようとする課題」
しかしながら、非線形光学材料の波長変換効率が最大と
なるように、レーザ発振光52の光軸に対する非線形光
学材料47の角度を一度調整しても、非線形光学材料4
7の温度が変化すると、位相整合が最適条件からズして
変換効率の低下をもたらす0通常、変換効率が172に
低下する温度幅を温度許容幅と呼ぶが、特に、この温度
許容幅が狭い材料(例えば、KNbO3やBBO等)を
用いた場合に問題となる。
なるように、レーザ発振光52の光軸に対する非線形光
学材料47の角度を一度調整しても、非線形光学材料4
7の温度が変化すると、位相整合が最適条件からズして
変換効率の低下をもたらす0通常、変換効率が172に
低下する温度幅を温度許容幅と呼ぶが、特に、この温度
許容幅が狭い材料(例えば、KNbO3やBBO等)を
用いた場合に問題となる。
非線形光学材料47の温度変動の原因としては、外気か
らの影響、レーザ媒質45に吸収されずに透過してきた
未吸収励起光による影響などが挙げられる。外気からの
影響に対しては、ベルチェ素子等による非線形光学材料
47の温度調節によって対処することが可能である。こ
れに対して、未吸収励起光は、光入出射面を通して非線
形光学材料内47に入ってきたり、また、非線形光学材
料47の周辺に位置する部品へ入射するなどして、かな
りの温度上昇を引き起こす、特に、レーザ媒質45の再
吸収のため、レーザ媒質の長さを十分にとれない3準位
レーザ(YAGの9460I11発振ライン)などは、
レーザ媒質長が短いため未吸収励起光が強く、非線形光
学材料47の温度上昇が顕著となる。従来、この未吸収
励起光による温度上昇に対して特別な配慮はなされてお
らず、このため、しばしば波長変換効率を低下させてい
た。
らの影響、レーザ媒質45に吸収されずに透過してきた
未吸収励起光による影響などが挙げられる。外気からの
影響に対しては、ベルチェ素子等による非線形光学材料
47の温度調節によって対処することが可能である。こ
れに対して、未吸収励起光は、光入出射面を通して非線
形光学材料内47に入ってきたり、また、非線形光学材
料47の周辺に位置する部品へ入射するなどして、かな
りの温度上昇を引き起こす、特に、レーザ媒質45の再
吸収のため、レーザ媒質の長さを十分にとれない3準位
レーザ(YAGの9460I11発振ライン)などは、
レーザ媒質長が短いため未吸収励起光が強く、非線形光
学材料47の温度上昇が顕著となる。従来、この未吸収
励起光による温度上昇に対して特別な配慮はなされてお
らず、このため、しばしば波長変換効率を低下させてい
た。
したがって、本発明の目的は、未吸収励起光が非線形光
学材料に照射されるのを防ぎ、非線形光学材料の温度上
昇を防止して、波長変換効率を向上させた半導体レーザ
励起固体レーザ装置を提供することにある。
学材料に照射されるのを防ぎ、非線形光学材料の温度上
昇を防止して、波長変換効率を向上させた半導体レーザ
励起固体レーザ装置を提供することにある。
「課題を解決するための手段」
上記目的を達成するため、本発明は、半導体レーザを励
起光源とし、共振器内にレーザ媒質と非線形光学材料と
を備えた半導体レーザ励起固体レーザ装置において、前
記レーザ媒質と前記非線形光学材料との間に、励起光に
対して高反射性を有し、レーザ発振光に対して高透過性
を有する光学膜を設けたことを特徴とする。
起光源とし、共振器内にレーザ媒質と非線形光学材料と
を備えた半導体レーザ励起固体レーザ装置において、前
記レーザ媒質と前記非線形光学材料との間に、励起光に
対して高反射性を有し、レーザ発振光に対して高透過性
を有する光学膜を設けたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様においては、前記光学膜が、前記
非線形光学材料の前記励起光の入射面に設けられている
。
非線形光学材料の前記励起光の入射面に設けられている
。
本発明の別の好ましい態様においては、前記光学膜が、
前記レーザ媒質の前記励起光の入射面に対向する面に設
けられている。
前記レーザ媒質の前記励起光の入射面に対向する面に設
けられている。
本発明の更に別の好ましい態様においては、前記レーザ
媒質と前記非線形光学材料との間に光学材料を配し、こ
の光学材料の少なくとも一面に前記光学膜が設けられて
いる。
媒質と前記非線形光学材料との間に光学材料を配し、こ
の光学材料の少なくとも一面に前記光学膜が設けられて
いる。
「作用」
前述したように、半導体レーザから出射された励起光は
、レーザ媒質を通過する間に大部分が吸収され、レーザ
媒質から特定波長のレーザ光が発生するが、励起光の一
部は、未吸収励起光となってレーザ媒質を通過する。し
かし、本発明においては、未吸収励起光がレーザ媒質か
ら出射して非線形光学材料に照射されるまでに、その間
に配置された光学膜によって反射されるので、未吸収励
起光が非線形光学材料に吸収されるのを防止でき、非線
形光学材料の温度上昇を防止することができる。このた
め、非線形光学材料の位相整合が最適条件からズレるこ
とを防止し、波長変換効率を良好な状態に維持すること
ができる。また、上記光学膜は、励起光に対しては高反
射性を有するが、レーザ発振光に対しては高透過性を有
しているので、レーザ発振に与える損失は極めて少ない
。
、レーザ媒質を通過する間に大部分が吸収され、レーザ
媒質から特定波長のレーザ光が発生するが、励起光の一
部は、未吸収励起光となってレーザ媒質を通過する。し
かし、本発明においては、未吸収励起光がレーザ媒質か
ら出射して非線形光学材料に照射されるまでに、その間
に配置された光学膜によって反射されるので、未吸収励
起光が非線形光学材料に吸収されるのを防止でき、非線
形光学材料の温度上昇を防止することができる。このた
め、非線形光学材料の位相整合が最適条件からズレるこ
とを防止し、波長変換効率を良好な状態に維持すること
ができる。また、上記光学膜は、励起光に対しては高反
射性を有するが、レーザ発振光に対しては高透過性を有
しているので、レーザ発振に与える損失は極めて少ない
。
本発明の好ましい態様において、光学膜が非線形光学材
料の励起光の入射面に設けられている場合には、励起光
は上記入射面で反射される。
料の励起光の入射面に設けられている場合には、励起光
は上記入射面で反射される。
本発明の別の好ましい態様において、光学膜がレーザ媒
質の励起光の入射面に対向する面に設けられている場合
には、励起光はレーザ媒質の出射面で反射される。
質の励起光の入射面に対向する面に設けられている場合
には、励起光はレーザ媒質の出射面で反射される。
本発明の更に別の好ましい態様において、レーザ媒質と
非線形光学材料との間に光学材料が配置され、この光学
材料の少なくとも一面に光学膜が設けられている場合に
は、励起光はこの光学材料の少な(とも一方の面で反射
される。
非線形光学材料との間に光学材料が配置され、この光学
材料の少なくとも一面に光学膜が設けられている場合に
は、励起光はこの光学材料の少な(とも一方の面で反射
される。
「実施例」
第1図には、本発明の半導体レーザ励起固体レーザ装置
の一実施例が示されている。
の一実施例が示されている。
図において、11は励起光源をなす半導体レーザ(LD
)であり、励起光21を出射する。励起光21の出射方
向には、集光レンズ系13が配置されており、励起光2
1を細く絞る。集光レンズ系13の絞り方向には、レー
ザ媒質15が設けられている。レーザ媒質15としては
、例えばYAG、YLF、YAP、YVO,等の結晶が
用いられるが、この実施例では、YAGが用いられてい
る。レーザ媒質15の励起光入射面には、励起光を透過
し、レーザ発振光を反射する光学膜23が形成されてい
る。光学膜23は、レーザ媒質15のレーザ光出射方向
に配置された出力ミラー19と協動して共振用ミラーの
役割を果す。
)であり、励起光21を出射する。励起光21の出射方
向には、集光レンズ系13が配置されており、励起光2
1を細く絞る。集光レンズ系13の絞り方向には、レー
ザ媒質15が設けられている。レーザ媒質15としては
、例えばYAG、YLF、YAP、YVO,等の結晶が
用いられるが、この実施例では、YAGが用いられてい
る。レーザ媒質15の励起光入射面には、励起光を透過
し、レーザ発振光を反射する光学膜23が形成されてい
る。光学膜23は、レーザ媒質15のレーザ光出射方向
に配置された出力ミラー19と協動して共振用ミラーの
役割を果す。
レーザ媒質15と出力ミラー19との間には非線形光学
材料17が設置されている。非線形光字材料17として
は、例えばKNbO,、L i N b Os、KT
i OPO、、KH、PO4、BBO等が用いられる。
材料17が設置されている。非線形光字材料17として
は、例えばKNbO,、L i N b Os、KT
i OPO、、KH、PO4、BBO等が用いられる。
非線形光学材料17の未吸収励起光入射面には、光学膜
25が形成されている。この光学膜25は、励起光に対
して高反射性を有し、レーザ発振光に対して高透過性(
反射防止性)を有する。光学膜25は、例えばT i
O2、S 10 z、Z r Oz、M g F x及
びこれらを組合わせた単層又は多層膜で構成され、各層
の厚さや屈折率は、励起光の波長に応じて決定される。
25が形成されている。この光学膜25は、励起光に対
して高反射性を有し、レーザ発振光に対して高透過性(
反射防止性)を有する。光学膜25は、例えばT i
O2、S 10 z、Z r Oz、M g F x及
びこれらを組合わせた単層又は多層膜で構成され、各層
の厚さや屈折率は、励起光の波長に応じて決定される。
出力ミラー19のレーザ光入射面には、レーザ発振光を
反射し、非線形光学材料17で変換された波長変換光を
透過する光学膜20が形成されている、そして、前記レ
ーザ媒質15の光学膜23と出力ミラー19の光学膜2
0とで共振器が構成されている。
反射し、非線形光学材料17で変換された波長変換光を
透過する光学膜20が形成されている、そして、前記レ
ーザ媒質15の光学膜23と出力ミラー19の光学膜2
0とで共振器が構成されている。
次に、この半導体レーザ励起固体レーザ装置の発振動作
について説明する。
について説明する。
半導体レーザ11は、例えば波長808nmの励起光2
1を出射し、この励起光21は、集光レンズ系13によ
り細いビームに絞られ、光学膜23を透過して固体レー
ザー媒質15に入射する。励起光21は、レーザ媒質1
5中で大部分が吸収されて、レーザ媒質15から波長]
D64ntmのレーザ光が発生する。なお、励起光2
1の一部は、レーザ媒質15に吸収されずに未吸収励起
光としてレーザ媒質15から出射する。
1を出射し、この励起光21は、集光レンズ系13によ
り細いビームに絞られ、光学膜23を透過して固体レー
ザー媒質15に入射する。励起光21は、レーザ媒質1
5中で大部分が吸収されて、レーザ媒質15から波長]
D64ntmのレーザ光が発生する。なお、励起光2
1の一部は、レーザ媒質15に吸収されずに未吸収励起
光としてレーザ媒質15から出射する。
レーザ媒質15から出射したレーザ光は、非線形光学材
料17を通過し、出力ミラー19の光学膜20で反射さ
れ、共振器を構成するレーザ媒質15の光学膜23との
間で反射を繰り返し、レーザ発振光22となる。このレ
ーザ発振光22は、非線形光学材料17を通過するとき
に、その一部が」/2の波長、この例では波長532n
mの第2高調波に波長変換され、出力ミラー19の光学
膜20を透過し、波長変換光24として出力される。
料17を通過し、出力ミラー19の光学膜20で反射さ
れ、共振器を構成するレーザ媒質15の光学膜23との
間で反射を繰り返し、レーザ発振光22となる。このレ
ーザ発振光22は、非線形光学材料17を通過するとき
に、その一部が」/2の波長、この例では波長532n
mの第2高調波に波長変換され、出力ミラー19の光学
膜20を透過し、波長変換光24として出力される。
一方、レーザ媒質15に吸収されなかった未吸収励起光
21は、非線形光学材料17の入射面に形成された光学
膜25で反射され、非線形光学材料17に入射されない
。このため、非線形光学材料17が未吸収励起光21の
影響を受けて温度上昇することが防止され、位相整合条
件を最適にして安定した波長変換を実現することができ
る。
21は、非線形光学材料17の入射面に形成された光学
膜25で反射され、非線形光学材料17に入射されない
。このため、非線形光学材料17が未吸収励起光21の
影響を受けて温度上昇することが防止され、位相整合条
件を最適にして安定した波長変換を実現することができ
る。
第2図には、本発明の半導体レーザ励起固体レーザ装置
の他の実施例が示されている。なお、以下の実施例にお
いては、第1図の実施例の装置と実質的に同一部分には
同符合を付し、その説明を省略することにする。
の他の実施例が示されている。なお、以下の実施例にお
いては、第1図の実施例の装置と実質的に同一部分には
同符合を付し、その説明を省略することにする。
この実施例は、いわゆるファイバ結合型と呼ばれるもの
で、半導体レーザ11から出射される励起光21の出射
方向に集光レンズ系27が配置されており、集光レンズ
系27によって絞られた励起光21が、光ファイバー2
9を通して集光レンズ系13に照射されるようになって
いる。そして、集光レンズ系13で再び絞られた励起光
21がレーザ媒質15に入射するようになっている。
で、半導体レーザ11から出射される励起光21の出射
方向に集光レンズ系27が配置されており、集光レンズ
系27によって絞られた励起光21が、光ファイバー2
9を通して集光レンズ系13に照射されるようになって
いる。そして、集光レンズ系13で再び絞られた励起光
21がレーザ媒質15に入射するようになっている。
他の構成及び発振動作は、第1図の実施例と同様である
。
。
なお、第1図及び第2図の実施例において、非線形光学
材料17の光学膜25として、前述した性質の他に、波
長変換光24に対しても高反射性の性質を有する光学膜
を用いてもよい、その場合には、波長変換光24の一方
向への取出しが可能となり、波長変換効率を高めること
ができる。
材料17の光学膜25として、前述した性質の他に、波
長変換光24に対しても高反射性の性質を有する光学膜
を用いてもよい、その場合には、波長変換光24の一方
向への取出しが可能となり、波長変換効率を高めること
ができる。
第3図には、本発明の半導体レーザ励起固体レーザ装置
の更に他の実施例が示されている。
の更に他の実施例が示されている。
この実施例は、第1図の実施例とほぼ同じ構成をなすも
のであるが、光学膜25がレーザ媒質15の励起光出射
面に設けられている点が異なっている。この場合にも、
レーザ媒質15で吸収されなかった未吸収励起光は、レ
ーザ媒質I5の出射面で反射され、非線形光学材料17
へ入射されることが防止されるので、非線形光学材料1
7の温度上昇を防止することができる。また、未吸収励
起光が光学膜25で反射されて再びレーザ媒質15内を
通るので、励起光21をレーザ媒質15に効率良く吸収
させることができる。
のであるが、光学膜25がレーザ媒質15の励起光出射
面に設けられている点が異なっている。この場合にも、
レーザ媒質15で吸収されなかった未吸収励起光は、レ
ーザ媒質I5の出射面で反射され、非線形光学材料17
へ入射されることが防止されるので、非線形光学材料1
7の温度上昇を防止することができる。また、未吸収励
起光が光学膜25で反射されて再びレーザ媒質15内を
通るので、励起光21をレーザ媒質15に効率良く吸収
させることができる。
なお、前述したように、光学膜25は、波長変換光24
に対しでも高反射性を有する膜を用いてもよい。
に対しでも高反射性を有する膜を用いてもよい。
第4図には、本発明の半導体レーザ励起固体レーザ装置
の更に他の実施例が示されている。
の更に他の実施例が示されている。
この実施例は、第3図に示した実施例をファイバ結合型
にしたものであり、半導体レーザ11から出射される励
起光21の出射方向に集光レンズ系27を配置し、集光
レンズ系27によって絞られた励起光21を、光ファイ
バー29を通して集光レンズ系13に照射させ、集光レ
ンズ系13で再び絞られた励起光21をレーザ媒質15
に入射させるようにしている。他の構成は、第3図の実
施例と同様である。
にしたものであり、半導体レーザ11から出射される励
起光21の出射方向に集光レンズ系27を配置し、集光
レンズ系27によって絞られた励起光21を、光ファイ
バー29を通して集光レンズ系13に照射させ、集光レ
ンズ系13で再び絞られた励起光21をレーザ媒質15
に入射させるようにしている。他の構成は、第3図の実
施例と同様である。
第5図には、本発明の半導体レーザ励起固体レーザ装置
の更に他の実施例が示されている。
の更に他の実施例が示されている。
この実施例では、レーザ共振器内に配された前記レーザ
媒質15と非線形光学材料17との間に平行平面基板3
Jが設けられている。平行平面基板31の材質としては
、BK−7や石英などの光学材料が用いられる。この平
行平面基板31のレーザ光入出射面には、未吸収励起光
に対して高反射性を有し、レーザ発振光に対して高透過
性(反射防止性)を有する光学膜25が形成されている
6ただし、この光学膜25は、平行平面基板31の必ず
しも両面に設けられている必要はなく、任意の一面に設
けられていればよい。この実施例においても、レーザ媒
質15によって吸収されずに残存した未吸収励起光は、
平行平面基板31に設けられた光学膜25によって反射
されるため、レーザ発振光のみが非線形光学材料17に
入射される。
媒質15と非線形光学材料17との間に平行平面基板3
Jが設けられている。平行平面基板31の材質としては
、BK−7や石英などの光学材料が用いられる。この平
行平面基板31のレーザ光入出射面には、未吸収励起光
に対して高反射性を有し、レーザ発振光に対して高透過
性(反射防止性)を有する光学膜25が形成されている
6ただし、この光学膜25は、平行平面基板31の必ず
しも両面に設けられている必要はなく、任意の一面に設
けられていればよい。この実施例においても、レーザ媒
質15によって吸収されずに残存した未吸収励起光は、
平行平面基板31に設けられた光学膜25によって反射
されるため、レーザ発振光のみが非線形光学材料17に
入射される。
第6図には、本発明の半導体レーザ励起固体レーザ装置
の更に他の実施例が示されている。
の更に他の実施例が示されている。
この実施例は、第5図に示した実施例をファイバ結合型
にしたものであり、半導体レーザ11から出射される励
起光21の出射方向に集光レンズ系27を配置し、集光
レンズ系27によって絞られた励起光21を、光ファイ
バー29を通して集光レンズ系13に照射させ、集光レ
ンズ系13で再び絞られた励起光21をレーザ媒質15
に入射させるようにしている。更に、この実施例では、
第5図の実施例における平行平面基板31の代わりに凸
面基板33が配置され、凸面基板33の未吸収励起光2
1の入射面には、レーザ発振光22の反射を防止する光
学膜35が形成され、その対向する面には、レーザ発振
光22の反射を防止し、かつ、未吸収励起光21を反射
する光学膜25が形成されている。ただし、凸面基板3
3の両面に光学膜25が設けられていてもよい。
にしたものであり、半導体レーザ11から出射される励
起光21の出射方向に集光レンズ系27を配置し、集光
レンズ系27によって絞られた励起光21を、光ファイ
バー29を通して集光レンズ系13に照射させ、集光レ
ンズ系13で再び絞られた励起光21をレーザ媒質15
に入射させるようにしている。更に、この実施例では、
第5図の実施例における平行平面基板31の代わりに凸
面基板33が配置され、凸面基板33の未吸収励起光2
1の入射面には、レーザ発振光22の反射を防止する光
学膜35が形成され、その対向する面には、レーザ発振
光22の反射を防止し、かつ、未吸収励起光21を反射
する光学膜25が形成されている。ただし、凸面基板3
3の両面に光学膜25が設けられていてもよい。
この装置では、共振器内に凸面基板33を設けたことに
より、非線形光学材料17中にキャビティモードのビー
ムウェストが形成される。そして、凸面基板33の光学
膜35から入射した未吸収励起光21は、対向する面の
光学膜25で反射され、非線形光学材料17に入射する
ことが防止される。また、光学膜25で反射された未吸
収励起光21は、凸面基板33内を通って反対方向に出
射するので、レーザ媒質15中のキャビティモードと一
致させることができ、レーザ媒質15中における吸収効
率を高めることができる。
より、非線形光学材料17中にキャビティモードのビー
ムウェストが形成される。そして、凸面基板33の光学
膜35から入射した未吸収励起光21は、対向する面の
光学膜25で反射され、非線形光学材料17に入射する
ことが防止される。また、光学膜25で反射された未吸
収励起光21は、凸面基板33内を通って反対方向に出
射するので、レーザ媒質15中のキャビティモードと一
致させることができ、レーザ媒質15中における吸収効
率を高めることができる。
「発明の効果」
以上説明したように、本発明によれば、レーザ媒質と非
線形光学材料との間に、半導体レーザの励起光に対して
は高反射性を有し、レーザ発振光に対しては高透過性を
有する光学膜を設けたことにより、レーザ媒質中で吸収
されなかった未吸収励起光が非線形光学材料に入射する
のを防止することができ、それによって非線形光学材料
の温度上昇を抑制し、非線形光学材料の位相整合が最適
条件からズレることを防止し、安定した波長変換効率を
得ることができる。
線形光学材料との間に、半導体レーザの励起光に対して
は高反射性を有し、レーザ発振光に対しては高透過性を
有する光学膜を設けたことにより、レーザ媒質中で吸収
されなかった未吸収励起光が非線形光学材料に入射する
のを防止することができ、それによって非線形光学材料
の温度上昇を抑制し、非線形光学材料の位相整合が最適
条件からズレることを防止し、安定した波長変換効率を
得ることができる。
第1図、第2図、第3図、第4図、第5図及び第6図は
本発明の半導体レーザ励起固体レーザ装置のそれぞれ異
なる実施例を示すブロック図、第7図は従来の半導体レ
ーザ励起固体レーザ装置を示すブロック図である。 図中、11は半導体レーザ、13は集光レンズ系、15
はレーザ媒質、17は非線形光学材料。 19は出力ミラー、2」は励起光、22はレーザ発振光
、24は波長変換光、25は光学膜、31は平行平面基
板、33は凸面基板である。
本発明の半導体レーザ励起固体レーザ装置のそれぞれ異
なる実施例を示すブロック図、第7図は従来の半導体レ
ーザ励起固体レーザ装置を示すブロック図である。 図中、11は半導体レーザ、13は集光レンズ系、15
はレーザ媒質、17は非線形光学材料。 19は出力ミラー、2」は励起光、22はレーザ発振光
、24は波長変換光、25は光学膜、31は平行平面基
板、33は凸面基板である。
Claims (4)
- (1)半導体レーザを励起光源とし、共振器内にレーザ
媒質と非線形光学材料とを備えた半導体レーザ励起固体
レーザ装置において、前記レーザ媒質と前記非線形光学
材料との間に、励起光に対して高反射性を有し、レーザ
発振光に対して高透過性を有する光学膜を設けたことを
特徴とする半導体レーザ励起固体レーザ装置。 - (2)前記光学膜が、前記非線形光学材料の前記励起光
の入射面に設けられている請求項1記載の半導体レーザ
励起固体レーザ装置。 - (3)前記光学膜が、前記レーザ媒質の前記励起光の入
射面に対向する面に設けられている請求項1記載の半導
体レーザ励起固体レーザ装置。 - (4)前記レーザ媒質と前記非線形光学材料との間に光
学材料を配し、この光学材料の少なくとも一面に前記光
学膜が設けられている請求項1記載の半導体レーザ励起
固体レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29044790A JPH04162685A (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29044790A JPH04162685A (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04162685A true JPH04162685A (ja) | 1992-06-08 |
Family
ID=17756152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29044790A Pending JPH04162685A (ja) | 1990-10-25 | 1990-10-25 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04162685A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2025135001A1 (ja) * | 2023-12-18 | 2025-06-26 | ヌヴォトンテクノロジージャパン株式会社 | 固体レーザ装置、及び固体レーザ装置の製造方法 |
-
1990
- 1990-10-25 JP JP29044790A patent/JPH04162685A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2025135001A1 (ja) * | 2023-12-18 | 2025-06-26 | ヌヴォトンテクノロジージャパン株式会社 | 固体レーザ装置、及び固体レーザ装置の製造方法 |
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