JPH04163930A - 集積回路装置 - Google Patents

集積回路装置

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Publication number
JPH04163930A
JPH04163930A JP2291280A JP29128090A JPH04163930A JP H04163930 A JPH04163930 A JP H04163930A JP 2291280 A JP2291280 A JP 2291280A JP 29128090 A JP29128090 A JP 29128090A JP H04163930 A JPH04163930 A JP H04163930A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bonding
power supply
supply wiring
tab
tab lead
Prior art date
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Pending
Application number
JP2291280A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Iwata
岩田 勇治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP2291280A priority Critical patent/JPH04163930A/ja
Publication of JPH04163930A publication Critical patent/JPH04163930A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/701Tape-automated bond [TAB] connectors

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、LSIチップ表面のバンプにTAB(Tap
e Automated Bonding)  リード
をインナーリードボンディング(Inner Lead
 Bonding、 以下、ILBという。)接続する
集積回路装置(以下、LSI装置という。)に利用する
〔概要〕
本発明は、TAB’J−ド方式のLSI装置において、 電源供給配線の抵抗を減らすために、電源供給配線上に
搭載しボンディング接続されるTAB リード栓の一部
分に、凹状の溝を設けることにより、ボンディング時に
おけるTABリード線の伸びを吸収し、素子の破壊を防
止するようにしたものである。
〔従来の技術〕
近年、TAB方式によるコンピユータに使用されるLS
I装置では、高速化、高集積化がますます要求されてき
ている。高集積化が進みチップサィズが大きくなると、
LSIチップでの配線は細く長くなるため、結果的には
配線抵抗の増大となっていた。この影響は特に電源供給
配線(本明細書で電源供給配線は接地配線を含むものと
する。)で大きく、大電力を必要とするLSIチップで
は電圧降下を招いてしまうため、配線の電気抵抗を下げ
る必要があった。
前述のコンビ二一層に使用されるこの種のLSI装置で
は、チップサイズが約15mn+’ 、TABリード数
で500ピン程度のものが出現してきている。
第5図はかかる従来技術によるLSI装置の一例を示す
斜視図である。
LSIチップ1表面の外周部に複数個のバンプ2が形成
され、バンプ2の内側に電源供給配線4が周知のメツキ
法にて形成され、所定のバンプ2に接続されている。
テープキャリア7のデバイスホール6に突出された複数
個のTABリード3のうちのデバイスホール6の一辺か
ら他辺へ延在するTAB’J−ド(b)3bを電源供給
配線4上に搭載した後、ボンディング接続して配線抵抗
の低減化を図っていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
前述した従来のLSI装置では、電源供給配線上に搭載
されているTAB!I−ド(b)3bの部分が、ILB
Iよび電源供給配線4上でのボンディング時に発生する
ボンディングツールからの熱により伸び、塑性変形を起
こしてしまい、その結果、他の部分との間で短絡を引き
起こすことがしばしば発生し、信頼性が高められない欠
点があった。
本発明の目的は、前記の欠点を除去することにより、高
信頼性のTAB方式のLSI装置を提供することにある
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、チップ表面の周縁部に形成された複数個のバ
ンプと、前記バンプに接続され前記バンプの内側に形成
された接地配線を含む電源供給配線と、前記バンプに接
続された第一のTABIJ−ドと、前記電源供給配線上
に搭載接続された第二のTABリードとを備えた集積回
路装置において、前記第二のTABリードはその一部分
に形成された少なくとも一つの凹状の溝を有することを
特徴とする。
また、本発明は、前記溝は、前記第二のTABリードの
上面および下面に形成された複数の溝であることが好ま
しい。
〔作用〕
LSIチップ表面の電源供給配線上に搭載し、ボンディ
ング接続されているTABリードの一部分には、少なく
とも1個の凹状の溝が形成されている。
従って、ボンディング時におけるTABリードの伸びは
凹状の溝により遮られて吸収されてしまい、他の部分と
の間で短絡を引き起こすことが防止される。この結果、
高信頼性のLSI装置を得ることが可能となる。
なお、凹状の溝はTABリードの上面および下面に複数
個形成することが好ましい。ただし、何個形成するかは
、電源供給配線の抵抗の減少量との関係で定められる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第1図は本発明の第一実施例を示す斜視図、右よび第2
図はそのTABリード(ハ)の−例を示す拡大して示し
た斜視図である。
水軍−実施例は、テープキャリア7のデバイスホール6
上に搭載されたLSIチップ1表面の周縁部に形成され
た複数個のバンプ2と、所定のバンプ2に接続されバン
プ2の内側に形成された接地配線を含む電源供給配線4
および信号配線5と、各バンプ2にそれぞれ接続された
第一のTAB リードとしてのTABリード3またはT
ABリード(a) 3 aと、電源供給配線4上に搭載
ボンディング接続された第二のTAB’J−ドとしての
TABIJ−)’(b)3bとを備えた集積回路装置に
おいて、本発明の特徴とするところの、 T A B +J−ド(b)3bは、第2図に拡大して
示したように、その一部分に形成された少なくとも一つ
の凹状の溝3sを有している。
そして、この溝3Sは、TABリード(b)3bの上面
および下面に形成された複数の溝からなっている。
第3図(a、)〜(C)は本実−実施例によるテープキ
ャリアを使用したILB方法を工程順に示す模式的断面
図である。
本実−実施例によるテープキャリアを使用したILB方
法は、まず、第3図(a)に示すように、ボンディング
ツール9の凸部がバンブ2と整合する位置にLSIチッ
プlをボンディングステージ10に載置する。その後、
本実−実施例のテープキャリア7を各々のTABリード
3および(a) 3 aがLSIチップ1のバンプ2と
それぞれ整合するように配置する。
次に、第3図ら)に示すように、ボンディングツール9
を下降させTABリード3および(a) 3 aとバン
プ2とを1対1に目合わせして同時に加熱圧着する。加
熱温度は600℃前後が一般的である。
次に、第3図(C)に示すようにボンディングツール9
をLSIチップlから離すことによりILBが終了する
テープキャリア7のデバイスホール6の一辺から他辺へ
延在し、バンブ相互間を一体的にボンディング接続され
ているTABリード(b) 31]は、電源供給配線4
の上に搭載され、かつ電源供給配線4との間においても
ボンディング接続されている。
TABリード3、(a) 3 aおよび(b) 3 b
ならびにTABリード(b) 3 bのエリアに形成さ
れている凹部の溝3Sは、Cuiを周知のフォトグラフ
ィー技術とエツチング技術により所望の寸法に形成した
後、表面にAuメツキを0.5〜5μm程度施せば実現
できる(メツキはSn、ハンダ等でも実現できる)。ま
た、電源供給配線4とTABIJ−ド(b)3bとのボ
ンディングはILBと同時に行えば容易に実現できるが
、別々に行っても実現できる。
凹状の溝3SをTABリード(b)3bに設けることに
より、ILBおよび電源供給配線4上に搭載されたTA
BIJ−ド(b)3bとのボンディング時のボンディン
グツールの熱で発生する伸び(チップサイズが 15m
m口のものでは100〜400μm程度)を吸収するこ
とが可能となる。
このようにして第1図に示したLSI装置が実現できる
第4図は本発明の第二実施例を示す斜視図である。本第
二実施例は複数の異なる電源供給を必要とするLSI装
置に本発明を適用したものである。
このように、複数の異なる電源供給配線4を有する場合
、本発明の適用はさらに有効である。
なお、本発明の特徴とするTABリードら)3bに形成
される溝3Sの大きさ、数および設置箇所は、電源供給
配線4の抵抗の減少量とボンディング時の伸び吸収量と
の関係において適切に定められ、各TABリード(b)
3bに少なくとも一つ溝が形成される。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明は、接地配線を含む電源供
給配線の上に搭載しボンディング接続されたTABリー
ドの一部に凹状の溝を有しているので、ILBおよび電
源供給配線上でのボンディングの時に発生するボンディ
ングツールからの熱で生じるTABリードの伸びを凹状
の溝で吸収でき、他の部分との間での短絡が防止でき、
信頼性の高いLSI装置が実現できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第一実施例を示す斜視図。 第2図はそのTAB’J−ド3bの一例を拡大して示す
斜視図。 第3図(a)〜(C)は本発明の第一実施例によるテー
プキャリアを使用したILBの方法を工程順に示す断面
図。 第4図は本発明第二実施例を示す斜視図。 第5図は従来例を示す斜視図。 ■・・・LSIチップ、2・・・バンブ、3・・・TA
Bリード、3a−TABリード(a)、3b−TABリ
ード(社)、3s・・・溝、4・・・電源供給配線、5
・・・信号配線、6・・・デバイスホール、7・・・テ
ープキャリア、8・・・ボンディング部、9・・・ボン
ディングツール、10・・・ボンディングステージ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、チップ表面の周縁部に形成された複数個のバンプと
    、 前記バンプに接続され前記バンプの内側に形成された接
    地配線を含む電源供給配線と、 前記バンプに接続された第一のTABリードと、前記電
    源供給配線上に搭載接続された第二のTABリードと を備えた集積回路装置において、 前記第二のTABリードはその一部分に形成された少な
    くとも一つの凹状の溝を有する ことを特徴とする集積回路装置。 2、前記溝は、前記第二のTABリードの上面および下
    面に形成された複数の溝である請求項1に記載の集積回
    路装置。
JP2291280A 1990-10-29 1990-10-29 集積回路装置 Pending JPH04163930A (ja)

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