JPH0416599A - ZnSe単結晶の成長方法 - Google Patents
ZnSe単結晶の成長方法Info
- Publication number
- JPH0416599A JPH0416599A JP12051490A JP12051490A JPH0416599A JP H0416599 A JPH0416599 A JP H0416599A JP 12051490 A JP12051490 A JP 12051490A JP 12051490 A JP12051490 A JP 12051490A JP H0416599 A JPH0416599 A JP H0416599A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- growth
- crystal
- ampoule
- plane
- seed crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 96
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000003708 ampul Substances 0.000 abstract description 40
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract description 5
- 238000010800 chemical transportation method Methods 0.000 abstract 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 12
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 2
- 241001070941 Castanea Species 0.000 description 1
- 235000014036 Castanea Nutrition 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体工業に於て利用されるZnSe単結晶
の結晶成長に関し、特にヨウ素輸送法等の化学輸送法を
用いて欠陥の少ないZnSe単結晶の成長方法に関する
ものである。
の結晶成長に関し、特にヨウ素輸送法等の化学輸送法を
用いて欠陥の少ないZnSe単結晶の成長方法に関する
ものである。
[従来の技術]
ZnSeは青色の発光素子材料である。素子作製はMO
VPE (メタルオーガニック ベイパーフェイズ エ
ピタキシー)やMBE(モレキコラ ビーム エピタキ
シー)などのエピタキシャル成長に依って行われる。エ
ピタキシャル成長に於て最も重要なことは、成長結晶と
基板の格子定数を同じにするか、もしくは近い値にする
ことである。ZnSeと結晶系が同じで格子定数が近い
ものとしてGaAsがある。しかしながらZnSeとG
aAsとの間には0.26%の格子不整合が存在する。
VPE (メタルオーガニック ベイパーフェイズ エ
ピタキシー)やMBE(モレキコラ ビーム エピタキ
シー)などのエピタキシャル成長に依って行われる。エ
ピタキシャル成長に於て最も重要なことは、成長結晶と
基板の格子定数を同じにするか、もしくは近い値にする
ことである。ZnSeと結晶系が同じで格子定数が近い
ものとしてGaAsがある。しかしながらZnSeとG
aAsとの間には0.26%の格子不整合が存在する。
GaAsの上にZnSeを成長させた場合に、この格子
不整合のためにミスフィツト転位が発生することが報告
されている。また成長中に基板構成元素であるGaがZ
nSe中に拡散してしまい好ましくない。さらに両者の
熱膨張係数が違うためエピタキシャル成長後に、歪が残
ってしまう。このような不都合を解消するためにはエピ
タキシャル成長する材料と同じ材料を使えば解決できる
。この意味に於てZnSe基板を使ったホモエピタキシ
ャル成長が重要になってくる。結晶基板を得る方法とし
て化学輸送法の一種であるヨウ素輸送法がある。この方
法で得られた結晶は双晶と呼ばれる結晶欠陥がきわめて
少な(、エピタキシャル成長用の基板としては好ましい
ものである。
不整合のためにミスフィツト転位が発生することが報告
されている。また成長中に基板構成元素であるGaがZ
nSe中に拡散してしまい好ましくない。さらに両者の
熱膨張係数が違うためエピタキシャル成長後に、歪が残
ってしまう。このような不都合を解消するためにはエピ
タキシャル成長する材料と同じ材料を使えば解決できる
。この意味に於てZnSe基板を使ったホモエピタキシ
ャル成長が重要になってくる。結晶基板を得る方法とし
て化学輸送法の一種であるヨウ素輸送法がある。この方
法で得られた結晶は双晶と呼ばれる結晶欠陥がきわめて
少な(、エピタキシャル成長用の基板としては好ましい
ものである。
ヨウ素輸送法では石英アンプル中に原料であるZnSe
粉末とヨウ素とを入れ、アンプルの一端に種結晶を配置
する。このアンプルを垂直に縦型もしくは横型の電気炉
にいれ、種結晶部を低温側に、原料部を高温側に配置す
ることにより種結晶上にZnSeの析出が起こり結晶成
長が行われる。
粉末とヨウ素とを入れ、アンプルの一端に種結晶を配置
する。このアンプルを垂直に縦型もしくは横型の電気炉
にいれ、種結晶部を低温側に、原料部を高温側に配置す
ることにより種結晶上にZnSeの析出が起こり結晶成
長が行われる。
(例えば、特開昭63−30396号、特開昭63−3
5492号) [発明が解決しようとする課題] ZnSeをヨウ素輸送法で育成した場合、使用する石英
アンプル等の大きさにもよるが、通常その輸送速度は、
縦型炉を用いた場合には約10mg / h r前後の
値であり5g前後の結晶を得ようとすれば、20日程度
の時間を要する。
5492号) [発明が解決しようとする課題] ZnSeをヨウ素輸送法で育成した場合、使用する石英
アンプル等の大きさにもよるが、通常その輸送速度は、
縦型炉を用いた場合には約10mg / h r前後の
値であり5g前後の結晶を得ようとすれば、20日程度
の時間を要する。
温度勾配を増加させる等の方法によって、輸送速度をこ
の値以上にすることは可能であるがそのとき得られる結
晶は多結晶となってしまう。 (例えばJ、Cr y、
G r ow、 (ジ+−ffiwtブ クリスタリン
グロース)47.326(1979))このようにこ
の成長法では成長速度が遅いという欠点があった。また
結晶加工の工数を能率的にすることを目的とし、より大
型の結晶を得るために長時間成長を行うと異常成長と呼
ばれる現象が生じる。これは成長した結晶の表面から別
の結晶粒が成長しだすことである。この原因として結晶
の表面は正規の結晶軸よりずれておりステップが形成さ
れ、これが新たな結晶核となるためである。
の値以上にすることは可能であるがそのとき得られる結
晶は多結晶となってしまう。 (例えばJ、Cr y、
G r ow、 (ジ+−ffiwtブ クリスタリン
グロース)47.326(1979))このようにこ
の成長法では成長速度が遅いという欠点があった。また
結晶加工の工数を能率的にすることを目的とし、より大
型の結晶を得るために長時間成長を行うと異常成長と呼
ばれる現象が生じる。これは成長した結晶の表面から別
の結晶粒が成長しだすことである。この原因として結晶
の表面は正規の結晶軸よりずれておりステップが形成さ
れ、これが新たな結晶核となるためである。
従ってこの方法では大型結晶が得られないというもう一
つの欠点があった。
つの欠点があった。
[1題を解決するための手段〕
本発明は前記問題点を解決するためになされたものであ
って、成長用容器の内部に種結晶および成長用原料を入
れ、温度勾配を用いて「記樗結晶を成長させる化学輸送
法を用いたZnSe単結晶の成長方法において、前記成
長用容器を5〜50度の範囲で鉛直方向より傾けて前記
種結晶の(11}A、V{111}B面を成長用容器の
底部に向けることにより、前記種結晶の成長面の成長速
度をV (11}A、V{111}B<V (1001
<V fl l 11 AC3)順番となるようにした
ことを特許とするZnS e単結晶の成長方法である。
って、成長用容器の内部に種結晶および成長用原料を入
れ、温度勾配を用いて「記樗結晶を成長させる化学輸送
法を用いたZnSe単結晶の成長方法において、前記成
長用容器を5〜50度の範囲で鉛直方向より傾けて前記
種結晶の(11}A、V{111}B面を成長用容器の
底部に向けることにより、前記種結晶の成長面の成長速
度をV (11}A、V{111}B<V (1001
<V fl l 11 AC3)順番となるようにした
ことを特許とするZnS e単結晶の成長方法である。
通常、ヨウ素輸送法で得られる結晶は、ミラー指数が+
111}A、 +111}B、1loolのそれぞれの
面によって囲まれた多面体となっている。ここで、 +
1001 は(100)面を、 (111}A面は(1
11)、 (T I T)、 (TTl)、 (111
)、(111)のいずれかの面を、 (11}A、V{
111}B面は(TTT)、 (Tll)、 (ITI
)、 (11■)のいずれかの面を指す。
111}A、 +111}B、1loolのそれぞれの
面によって囲まれた多面体となっている。ここで、 +
1001 は(100)面を、 (111}A面は(1
11)、 (T I T)、 (TTl)、 (111
)、(111)のいずれかの面を、 (11}A、V{
111}B面は(TTT)、 (Tll)、 (ITI
)、 (11■)のいずれかの面を指す。
一般に、各々の面のその面に対して垂直方向の成長速度
はその面の面積に反比例する。従来の技術の結晶成長に
おける問題点である、面のずれ、それに伴う結晶のステ
ップの形成は各々の成長面の成長速度のアンバランスに
起因している。例えば(ioo)面の成長速度が最も遅
い場合には明らかにステップが形成されている結晶が成
長してくる。従って結晶面の適正な成長速度をもたせる
ことが重要になってくる。なお各成長面の成長速度は温
度の偏り、硝子アンプル内のガスの流れ等に影響され容
易に変わってしまう。
はその面の面積に反比例する。従来の技術の結晶成長に
おける問題点である、面のずれ、それに伴う結晶のステ
ップの形成は各々の成長面の成長速度のアンバランスに
起因している。例えば(ioo)面の成長速度が最も遅
い場合には明らかにステップが形成されている結晶が成
長してくる。従って結晶面の適正な成長速度をもたせる
ことが重要になってくる。なお各成長面の成長速度は温
度の偏り、硝子アンプル内のガスの流れ等に影響され容
易に変わってしまう。
各結晶面の成長速度の順序は(11}A、V{111}
B<(1001< (111}Aのとき面ずれ、ステ、
プの形成などのない結晶が得られ、この順序を実現する
ことが重要である。例えば縦型電気炉内にアンプルを設
置する場合には通常中央に垂直に設置する。しかしなが
ら環境がアンプル中心に対して軸対称になっているため
、上記の各面の成長速度の順番を実現することは難しく
なってくる。これを解決する一方法として成長アンプル
を熱的な非対称環境に置きそれに合わせて種結晶を配置
すればよい。非対称環境をつくりだすにはアンプルを鉛
直方向より傾けることで実現でき、各方位面に関する成
長速度の維持法としては、種結晶の配置が重要になって
(る。
B<(1001< (111}Aのとき面ずれ、ステ、
プの形成などのない結晶が得られ、この順序を実現する
ことが重要である。例えば縦型電気炉内にアンプルを設
置する場合には通常中央に垂直に設置する。しかしなが
ら環境がアンプル中心に対して軸対称になっているため
、上記の各面の成長速度の順番を実現することは難しく
なってくる。これを解決する一方法として成長アンプル
を熱的な非対称環境に置きそれに合わせて種結晶を配置
すればよい。非対称環境をつくりだすにはアンプルを鉛
直方向より傾けることで実現でき、各方位面に関する成
長速度の維持法としては、種結晶の配置が重要になって
(る。
通常ヨウ素輸送法に於ては、種結晶として(111}A
面すなわち(111)、(T I T)、 (TTI)
、 (111)、(111)のいずれかの面を用いるが
、これらの面は2次元的に3回対称の対称性をもってい
る。この対称性はたとえば(111)面を例に取り、投
影図を用いて他の面との関係を示すと東2図のように配
置されていることになる。前述の成長速度の順序を実現
するために、種結晶の[121]、 [11′2コ、
[211]のいずれかの方向をアンプルの下方を向くよ
うにセットすれば、(111)8面が、結晶が成長した
ときにアンプルの底に向いて出現してくることがわかる
。このセツティングの仕方を第1図に示す。このように
して成長させると前述の各面の成長速度の順序が実現さ
れる。
面すなわち(111)、(T I T)、 (TTI)
、 (111)、(111)のいずれかの面を用いるが
、これらの面は2次元的に3回対称の対称性をもってい
る。この対称性はたとえば(111)面を例に取り、投
影図を用いて他の面との関係を示すと東2図のように配
置されていることになる。前述の成長速度の順序を実現
するために、種結晶の[121]、 [11′2コ、
[211]のいずれかの方向をアンプルの下方を向くよ
うにセットすれば、(111)8面が、結晶が成長した
ときにアンプルの底に向いて出現してくることがわかる
。このセツティングの仕方を第1図に示す。このように
して成長させると前述の各面の成長速度の順序が実現さ
れる。
[作用]
従来のヨウ素輸送法に於ては、成長環境がアンプル中心
に対して軸対称かもしくは、アンプルのセツティング等
の違いにより微妙な対称位置がらランダムな方向へのず
れを生じており、そのため各結晶成長面の成長速度が理
想的順序と翼なってしまう確率が大きいと考えられる。
に対して軸対称かもしくは、アンプルのセツティング等
の違いにより微妙な対称位置がらランダムな方向へのず
れを生じており、そのため各結晶成長面の成長速度が理
想的順序と翼なってしまう確率が大きいと考えられる。
そのために面ずれ、ステップの形成が起こる。一方アン
プルを傾けた場合にはアンプルの環境が非対称になり、
成長形態を考慮した種結晶のセツティングにより、各面
の成長速度の順序を恒に一定に保つことが可能となり、
面ずれ、異常成長などの現象を最低限に抑え大型結晶を
比較的速い成長速度で得ることができる。 : [実施例] 実施例1 結晶成長用容器としては、第1図(a)に示すように一
端が約60度の頂角を持つ円錐形で、他の端は内径的2
0mmの円筒形で、容器内側の高さが約70mmの石英
アンプルを用いた。成長用原料としては、6ナインの純
度のZ n S e 粉末’E:用いる。
プルを傾けた場合にはアンプルの環境が非対称になり、
成長形態を考慮した種結晶のセツティングにより、各面
の成長速度の順序を恒に一定に保つことが可能となり、
面ずれ、異常成長などの現象を最低限に抑え大型結晶を
比較的速い成長速度で得ることができる。 : [実施例] 実施例1 結晶成長用容器としては、第1図(a)に示すように一
端が約60度の頂角を持つ円錐形で、他の端は内径的2
0mmの円筒形で、容器内側の高さが約70mmの石英
アンプルを用いた。成長用原料としては、6ナインの純
度のZ n S e 粉末’E:用いる。
原料である多結晶体およびヨウ素を石英アンプルの底に
入れ、種結晶として直径約3mmのヨウ素輸送法で得ら
れた結晶をfIIIIA面が石英アンプルの底を向き[
1’21]、 [11’2]、 [211]の方向が石
英アンプルの底と平行となる様、石英アンプルの円錐形
頂上部に設置した。
入れ、種結晶として直径約3mmのヨウ素輸送法で得ら
れた結晶をfIIIIA面が石英アンプルの底を向き[
1’21]、 [11’2]、 [211]の方向が石
英アンプルの底と平行となる様、石英アンプルの円錐形
頂上部に設置した。
石英アンプルの固定方法および種結晶の固定方向の概略
を第1図(a)に示す。
を第1図(a)に示す。
石英アンプル(1)を常温で脱気し封止した後、縦型電
気炉(5)内に釣り線(7)を用いて釣り下げた。
気炉(5)内に釣り線(7)を用いて釣り下げた。
ここで、釣り線(7)は石英アンプル(1)の側面に取
付け、 [11’2]の方向が鉛直線となす角が最小と
なり、かつ石英アンプル(1)の中心線が鉛直方向より
約30度傾くように炉心管(6)のなかにつるした。
付け、 [11’2]の方向が鉛直線となす角が最小と
なり、かつ石英アンプル(1)の中心線が鉛直方向より
約30度傾くように炉心管(6)のなかにつるした。
第1図(b)は、種結晶(3)のab切断面の方位を示
すための図である。
すための図である。
炉の温度分布は中心位置の温度で約850’C1石英ア
ンプル(1)内の種結晶(3)とZnSe原料部(2)
の高さの位置での温度差が10℃になるように設定した
。2週間この状態で石英アンプル(1)内にヨウ素を含
むZnSe蒸気(4)を充満させて静置した後アンプル
を取り出した。
ンプル(1)内の種結晶(3)とZnSe原料部(2)
の高さの位置での温度差が10℃になるように設定した
。2週間この状態で石英アンプル(1)内にヨウ素を含
むZnSe蒸気(4)を充満させて静置した後アンプル
を取り出した。
結晶はアンプルの上部壁に沿うように成長しアンプル下
方に向かって(111) 8面が発達した結晶が得られ
た。
方に向かって(111) 8面が発達した結晶が得られ
た。
得られた結晶の、 (111) 8面の[111コ軸か
らのずれをX線回折法により測定すると、そのずれは0
.1度程度であり測定誤差の範囲内であった。
らのずれをX線回折法により測定すると、そのずれは0
.1度程度であり測定誤差の範囲内であった。
一方石英アンプルを傾けない以外は上記と同様の方法で
ZnSe結晶の成長を行い、得られる従来法による結晶
の上記のずれは、最大10度ぐらい、最低でも2度程度
であり、上記実施例で得られた結晶は従来法で得られる
結晶にくらべて、より完全に近い結晶であることがわか
る。
ZnSe結晶の成長を行い、得られる従来法による結晶
の上記のずれは、最大10度ぐらい、最低でも2度程度
であり、上記実施例で得られた結晶は従来法で得られる
結晶にくらべて、より完全に近い結晶であることがわか
る。
また上記実施例における結晶の成長速度は、14 、5
m g / h rであり、石英アンプルを傾けない
以外は上記と同様の方法で成長させるときの結晶の成長
速度の約1.5倍程度の成長速度を示し、従来よりも生
産性が向上していることがわかった。
m g / h rであり、石英アンプルを傾けない
以外は上記と同様の方法で成長させるときの結晶の成長
速度の約1.5倍程度の成長速度を示し、従来よりも生
産性が向上していることがわかった。
第2図は、成長した単結晶(9)の形状を説明するため
の図で、 (11)は本発明により成長した単結晶の成
長面、 (10)は従来の方法に得られた単結晶の成長
面を示し、 (8)は単結晶の(111) A面である
。
の図で、 (11)は本発明により成長した単結晶の成
長面、 (10)は従来の方法に得られた単結晶の成長
面を示し、 (8)は単結晶の(111) A面である
。
実施例2
実施例1と同様にアンプル、種結晶を設置し結晶成長を
行った。このときの温度差は9.7℃とした。約100
0時間成長させた後アンプルを取り出した。結晶は長さ
3cm、 直径1.5cmのものが得られた。上記の
温度条件では、従来の方法で行った場合は約500時間
程度の成長を行うと、異常成長が起こり単結晶の長さと
しては2cmから2.5cm程度の長さのものしか得ら
れなかったが、本発明によれば結晶の大型化が可能とな
った。
行った。このときの温度差は9.7℃とした。約100
0時間成長させた後アンプルを取り出した。結晶は長さ
3cm、 直径1.5cmのものが得られた。上記の
温度条件では、従来の方法で行った場合は約500時間
程度の成長を行うと、異常成長が起こり単結晶の長さと
しては2cmから2.5cm程度の長さのものしか得ら
れなかったが、本発明によれば結晶の大型化が可能とな
った。
[発明の効果]
本発明によれば従来不十分であった、ヨウ素輸送法によ
るZnSeの結晶成長に於て成長結晶の結晶面のずれ、
異常成長などを起こさずに大きい結晶を比較的速い成長
速度で育成することが可能となる。
るZnSeの結晶成長に於て成長結晶の結晶面のずれ、
異常成長などを起こさずに大きい結晶を比較的速い成長
速度で育成することが可能となる。
第1図は、本発明に於ける石英アンプルの設置方法と、
そのときの種結晶方位を示す図、第2図はZnSe結晶
の結晶格子を示す図である。 (1)石英アンプル(2)ZnSe原料(3)種結晶(
4)ヨウ素を含むZnSe蒸気(5)電気炉(6)炉心
管 (7)アップル支持材 第2図 a (b) 第1図 手続補正書 1.事件の表示 特願平2−120514号 2、発明の名称 ZnSe単結晶の成長方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 大阪府大阪市中央区道修町3丁目5番11号名
称(400)日本板硝子株式会社 代表者 中島連二 4、代理人 住所 東京都港区新橋5丁目11番3号7、補正の内
容 l)特許請求の範囲 別紙の通り 2)発明の詳細な説明の欄 (1)明細書第5頁第14行の「特許」を[特徴:に訂
正する。 (2)明細書第5頁第19行のr(lOo)面、を:(
100)、(001)、(010)、(100)、 (
001)、(010)のいずれかの面」に訂正する。 (3)明細書第6頁第5行目の「成長速度はその面の」
を「成長速度は成長後のその面の」に訂正する。 (4)明細書第7頁第13〜16行の「例に取り、投影
図を用いて他の面との関係を示すと第2図のように配置
されていることになる。前述の成長速度の順序を実現す
るために、」をrflllことると[121]、 [
112]、 [21に・のいずれかの方向にそれと1
9.5°で交わるようにfllliB面が現れてくる。 したがって」に訂正する。 (4)明細書第7頁第19〜20行の「アンプルの底に
向いて」を「下方に」に訂正する。 6、補正の対象 明細書の特許請求の範囲および発明の詳細な説明の欄(
別 紙) 2、特許請求の範囲 成長用容器の内部に種結晶および成長用原料を入れ、温
度勾配を用いて前記種結晶を成長させる化学輸送法を用
(またZnSe単結晶の成長方法において、前記成長用
容器を5〜50度の範囲で鉛直方向より傾けて前記種結
晶の(111}B面を成長用容器の底部に向けることに
より、前記種結晶の成長面の成長速度をV (11}A
、V{111}B<V (1001<V +111}A
の順番となるようにしたことをUとするZnSe単結晶
の成長方法。 ただしV fllll A、V (11}A、V{11
1}BおよびV(1001は各々(111}A面、 1
IIIIB面およびfI O01面の成長速度を示し、
+1001は(100)エユ1■工11010
100 001 010 のい れた座面を
、 (111}A面は(111)、 (111)、 (
111)、 (tTl)のいずれかの面を、 [11}
A、V{111}B面は(111)、(T 11)、(
tll)、(I IT)のいずれかの面を指す。
そのときの種結晶方位を示す図、第2図はZnSe結晶
の結晶格子を示す図である。 (1)石英アンプル(2)ZnSe原料(3)種結晶(
4)ヨウ素を含むZnSe蒸気(5)電気炉(6)炉心
管 (7)アップル支持材 第2図 a (b) 第1図 手続補正書 1.事件の表示 特願平2−120514号 2、発明の名称 ZnSe単結晶の成長方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 大阪府大阪市中央区道修町3丁目5番11号名
称(400)日本板硝子株式会社 代表者 中島連二 4、代理人 住所 東京都港区新橋5丁目11番3号7、補正の内
容 l)特許請求の範囲 別紙の通り 2)発明の詳細な説明の欄 (1)明細書第5頁第14行の「特許」を[特徴:に訂
正する。 (2)明細書第5頁第19行のr(lOo)面、を:(
100)、(001)、(010)、(100)、 (
001)、(010)のいずれかの面」に訂正する。 (3)明細書第6頁第5行目の「成長速度はその面の」
を「成長速度は成長後のその面の」に訂正する。 (4)明細書第7頁第13〜16行の「例に取り、投影
図を用いて他の面との関係を示すと第2図のように配置
されていることになる。前述の成長速度の順序を実現す
るために、」をrflllことると[121]、 [
112]、 [21に・のいずれかの方向にそれと1
9.5°で交わるようにfllliB面が現れてくる。 したがって」に訂正する。 (4)明細書第7頁第19〜20行の「アンプルの底に
向いて」を「下方に」に訂正する。 6、補正の対象 明細書の特許請求の範囲および発明の詳細な説明の欄(
別 紙) 2、特許請求の範囲 成長用容器の内部に種結晶および成長用原料を入れ、温
度勾配を用いて前記種結晶を成長させる化学輸送法を用
(またZnSe単結晶の成長方法において、前記成長用
容器を5〜50度の範囲で鉛直方向より傾けて前記種結
晶の(111}B面を成長用容器の底部に向けることに
より、前記種結晶の成長面の成長速度をV (11}A
、V{111}B<V (1001<V +111}A
の順番となるようにしたことをUとするZnSe単結晶
の成長方法。 ただしV fllll A、V (11}A、V{11
1}BおよびV(1001は各々(111}A面、 1
IIIIB面およびfI O01面の成長速度を示し、
+1001は(100)エユ1■工11010
100 001 010 のい れた座面を
、 (111}A面は(111)、 (111)、 (
111)、 (tTl)のいずれかの面を、 [11}
A、V{111}B面は(111)、(T 11)、(
tll)、(I IT)のいずれかの面を指す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 成長用容器の内部に種結晶および成長用原料を入れ、
温度勾配を用いて前記種結晶を成長させる化学輸送法を
用いたZnSe単結晶の成長方法において、前記成長用
容器を5〜50度の範囲で鉛直方向より傾けて前記種結
晶の{111}B面を成長用容器の底部に向けることに
より、前記種結晶の成長面の成長速度をV{111}B
<V{100}<V{111}Aの順番となるようにし
たことを特許とするZnSe単結晶の成長方法。 ただしV{111}A、V{111}BおよびV{10
0}は各々{111}A面、{111}B面および{1
00}面の成長速度を示し、{100}は(100)面
を、{111}A面は(111)、(@1@1@1@)
、(@1@@1@1)、(1@1@@1@)のいずれか
の面を、{111}B面は(@1@@1@@1@)、(
@1@11)、(1@1@1)、(11@1@)のいず
れかの面を指す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12051490A JPH0416599A (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | ZnSe単結晶の成長方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12051490A JPH0416599A (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | ZnSe単結晶の成長方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0416599A true JPH0416599A (ja) | 1992-01-21 |
Family
ID=14788110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12051490A Pending JPH0416599A (ja) | 1990-05-10 | 1990-05-10 | ZnSe単結晶の成長方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0416599A (ja) |
-
1990
- 1990-05-10 JP JP12051490A patent/JPH0416599A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Brice et al. | Crystal growth | |
| JPH0416599A (ja) | ZnSe単結晶の成長方法 | |
| JP2979770B2 (ja) | 単結晶の製造装置 | |
| JPS61178495A (ja) | 単結晶の成長方法 | |
| JP2823257B2 (ja) | 半導体単結晶製造装置 | |
| JP3231050B2 (ja) | 化合物半導体の結晶成長法 | |
| Wang et al. | Evolutions of Both Temperature Field and Convection Field During GaInSb THM and VB Crystal Growths and Influences of Temperature Gradient | |
| JP2690420B2 (ja) | 単結晶の製造装置 | |
| JP2733898B2 (ja) | 化合物半導体単結晶の製造方法 | |
| JPH04187585A (ja) | 結晶成長装置 | |
| JP2576239B2 (ja) | 化合物半導体結晶の育成装置 | |
| RU2023770C1 (ru) | Способ выращивания полупроводниковых соединений | |
| KR920007340B1 (ko) | Ⅲ-ⅴ화합물 반도체 단결정의 제조방법 | |
| JP2582318B2 (ja) | 化合物半導体単結晶の製造方法 | |
| JP2712247B2 (ja) | ▲ii▼−vi族化合物のバルク単結晶の製造法 | |
| JPH02311392A (ja) | 化合物半導体の結晶成長方法 | |
| JPS58176194A (ja) | 単結晶成長用容器 | |
| JPH0243723A (ja) | 溶液成長装置 | |
| JPS60122791A (ja) | 液体封止結晶引上方法 | |
| JPS6158895A (ja) | 単結晶の育成装置 | |
| JPH06168890A (ja) | 化合物半導体の結晶成長方法 | |
| JPS62197387A (ja) | 高品質種子結晶の製造装置 | |
| JPS60118700A (ja) | 半導体結晶の製造方法 | |
| JP2004277228A (ja) | 結晶成長方法 | |
| JPH05262596A (ja) | 四ホウ酸リチウム単結晶の製造方法 |