JPH04168639A - 複製スタンパーの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 光ディスク用スタンパ−の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、複製スタンバ−を製造する場合、マスタースタン
バーに対する複製スタンバ−の剥離性を良くする目的で
、マスタースタンバー表面をクロム酸塩あるいは硫化物
等の溶液で処理を行なっていた。これらの処理によりマ
スタースタンバーの表面に皮膜が形成され、その皮膜の
作用によって１マスタースタンバ−から複製スタンバ−
が剥離すると考えられている。

しかし、かかる方法には次のような欠点があった。

（１）処理に使用するクロム酸塩及び硫化物は毒性を有
するため、取り扱いに注意を要する。また廃液処理を行
なり必要が有る。

（２）　　マスタースタンバー表面の溝深さ（ビット深
さ）のちがいによって、剥離性が異なる（−船釣に深い
程剥離しにく（なる。また剥離する時、キズがつ゛き易
くなる）ため、処理液の配合、処理時間温度等を溝深さ
に合わせて適当にコントロールする必要が有る。量産時
には、処理液の温度、配合を溝深さによって、その都度
変化させることは不可能なため、処理時間をコントロー
ルすることによって、剥離性を調節している。

しかし、処理時間が１０秒〜４５秒と非常に短かいため
、処理時間が数秒異なっても、剥離性が変化し、電鋳中
に複製スタンノく−が剥離してしまったり、電鋳後に５
まく剥離出来な（・場合カニある〔発明が解決しようと
する課題〕 本発明は、かかる欠点を有する、溶液処理方法にかえて
、毒性がなく、廃液処理の必要もなく、溝深さの異なっ
たマスタースタンノく−から安定して複製スタンバ−を
製造する方法を提供する事を目的としている。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の複製スタンバ−の製造方法は、マスタースタン
バ−の表面を、酸素雰囲気中で、一定時間紫外線照射す
ることにより、複製スタンノ（−の剥離性の向上をはか
ることを特徴として（・る。

〔実施例〕

（実施例１） （１１電鋳後のマスタースタンノ＜−（厚み２００μ〜
２５０μ）を直ちに純水で洗浄する。

＋２１　　洗ｉ？１＆のマスタースタンバ−表面に窒素
ガス等の不活性ガスを吹きつけ、表面の水分を完全に除
去する。

（３）水分を完全に除去した、溝深さ約１５５０＾厚さ
２００μのＣＤのマスタースタンバーを、２０℃〜２５
℃の大気中にて、■ケミトロニクス社製ＭＵＳ−２００
Ｈ型ＵＶ洗浄機にて、紫外線を照射した後、５０Ｖ−１
０Ａ／漏の条件で５００μの厚さの複製スタンバ−を製
造した。この場合、水分除去後、１時間以内に、好まし
くは、５０分以内に紫外線を照射する必要がある。上記
条件により、製造した複製スタンバ−の剥離性の、評価
結果を表−１に示す。

表−１実施例１ 変化の少ない程、複製スタンバ−が剥離時に受けたダメ
ージが少ない。

比較例として、同様のマスタースタンバーを３０℃の重
クロム酸カリウム水溶液（濃度６　ｆ／ｌ　）に１０秒
〜４０秒間浸漬した後、同様の条件で複製スタンバ−を
製造した場合の剥離性の評価結果を表−２に示す。

表−２比較例１ 実施例の場合、５分〜５分間の照射により、剥離性が良
好となるとともに、欠陥率の増加が少な（て外観の良い
複製スタンバ−が得られた。一方、比較例の場合は６０
秒間の浸漬により剥離性が良好で欠陥率の増加が少な（
、外観の良い複製スタンバ−が得られるが、２５秒以下
の浸漬では良好な剥離が行なわれず、６５秒以上の浸漬
では、電鋳中に複製が剥離してしまう。従って、浸漬時
間を厳しく管理する必要があるとともに、外乱があった
場合、剥離性が著しく変化する恐れがある。

しかし、本発明による方法では、５分〜５分という広い
製造マージンを確保することが可能なため、外乱に対し
ても、安定した剥離性を得ることが出来る。

（実施例２） 実施例１と同様の方法で、溝深さ１７００＾及び２００
０＾のＵ溝プリグループのマスタースタンバ−の複製を
製造した場合の剥離性の評価結果を表−３に示す。

溝深さ１７０　Ｄ　’Ａの場合は５分間の照射で剥離性
が良好で欠陥率の増加の少ない複製スタンバ−が得られ
た。また、溝深さ２０００Ｘの場合には、７分間の照射
で剥離性が良好で、欠陥率の増加の少ない複製スタンパ
−が得られた。

比較例２として従来法（比較例１と同様の方法）により
、複製スタンパ−を製造した場合の剥離性の評価結果を
表−４に示す。

表−４比較例２ 従来法の場合、５５秒の浸漬で剥離は行なわれるが、欠
陥率の増加が大きい。また４０秒以上の浸漬では、いず
れも、電鋳中に、複製スタンパ−が剥離してしまった。

〔発明の効果〕

本発明の方法によれば、溝深さが１５５０Ｘ〜２［］０
０Ｘのマスタースタンバ−について、紫外線（波長１１
００ｒＬ〜４００ｒＬｍ：主として１８４ｒＬｍと２５
０ｒＬｙｙｔの波長に強度のピークを有する紫外線）の
照射時間を６分〜７分と変化させることによって、剥離
性が良好で、欠陥率の増加の少ない複製スタンパ−を安
定して製造することが可能である。

更に、有毒性もな（、廃液処理等の必要がないため、安
全性の面及び作業環境の面が著しく改善されるものであ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の方法による複製スタンパ−の製造工
程のフローを示した図である。 以上 出願人　　セイコーエブソ／株式会社 代理人　弁理士　銘木喜三部（他１名）第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. マスタースタンバーの表面を、酸素雰囲気中で、一定時
   間紫外線照射することにより、複製スタンバーの剥離性
   の向上をはかることを特徴とする複製スタンバーの製造
   方法。