JPH0416955B2 - - Google Patents
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- JPH0416955B2 JPH0416955B2 JP2458988A JP2458988A JPH0416955B2 JP H0416955 B2 JPH0416955 B2 JP H0416955B2 JP 2458988 A JP2458988 A JP 2458988A JP 2458988 A JP2458988 A JP 2458988A JP H0416955 B2 JPH0416955 B2 JP H0416955B2
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- iodine
- oxygen generator
- oxygen
- rotating body
- water vapor
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/095—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using chemical or thermal pumping
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、長期間、連続安定なレーザー出力を
得ることができるよう素レーザー装置に関するも
のである。
得ることができるよう素レーザー装置に関するも
のである。
最近、化学励起よう素レーザー（chemically
pumped iodine laser：CPIL）の研究がなされ、
1.315μｍ波長の高出力レーザー発振に成功してい
る。このCPILはレーザー発振のためのポンピン
グ源として電気エネルギを必要とせず、化学燃料
でレーザー発振でき比較的簡単な構造であるとい
う利点を有している。
pumped iodine laser：CPIL）の研究がなされ、
1.315μｍ波長の高出力レーザー発振に成功してい
る。このCPILはレーザー発振のためのポンピン
グ源として電気エネルギを必要とせず、化学燃料
でレーザー発振でき比較的簡単な構造であるとい
う利点を有している。
CPILの基本原理は次式によるエネルギ移乗反
応である。
応である。
O2 *（ 1Δ）＋Ｉ（ 2P3/2）O2
（ 3Σ）＋I*（ 2P1/2）……(1) (1)式で左辺から右辺への反応が速いため、効率
良くポンピングが行われI*（ 2P1/2）生成される。
このI*（ 2P1/2）がレーザー媒質となり、波長
1.315μｍのレーザー光を発生する。ここで最も重
要なことは、ポンピング源であるO2 *（ 1Δ）をい
かに効率よく発生するかである。現在知られてい
る最も効率のよい方法は、次式で示す過酸化水素
の分解反応である。
（ 3Σ）＋I*（ 2P1/2）……(1) (1)式で左辺から右辺への反応が速いため、効率
良くポンピングが行われI*（ 2P1/2）生成される。
このI*（ 2P1/2）がレーザー媒質となり、波長
1.315μｍのレーザー光を発生する。ここで最も重
要なことは、ポンピング源であるO2 *（ 1Δ）をい
かに効率よく発生するかである。現在知られてい
る最も効率のよい方法は、次式で示す過酸化水素
の分解反応である。
H2O2＋2NaOH＋Cl2→O2 *＋2H2O＋2
NaCl……(2) 高濃度過酸化水素溶液に水酸化ナトリウム溶液
を加えアルカリ性にした上で、この混合溶液中に
塩素ガスをバブリングすることによりO2 *（ 1Δ）
は容易に発生する。
NaCl……(2) 高濃度過酸化水素溶液に水酸化ナトリウム溶液
を加えアルカリ性にした上で、この混合溶液中に
塩素ガスをバブリングすることによりO2 *（ 1Δ）
は容易に発生する。
従来、励起酸素を発生させる酸素発生器と、レ
ーザー共振器とを主構成機器とする化学励起よう
素レーザー装置においては、アルカリ性過酸化水
素溶液から発生する水蒸気を氷として凝集させて
除去するための水蒸気トラツプが設けられてい
る。しかし従来の水蒸気トラツプはバツチ式で、
導管内壁面に氷が多量に付着・堆積した段階で操
業を停止し、氷を除去しなければならず、連続運
転を行うことができないという不都合点があつ
た。また酸素発生器とレーザー共振器とが水蒸気
トラツプおよびダクトを介して接続されていたの
で、励起酸素の失活率が増加するという不都合点
もあつた。
ーザー共振器とを主構成機器とする化学励起よう
素レーザー装置においては、アルカリ性過酸化水
素溶液から発生する水蒸気を氷として凝集させて
除去するための水蒸気トラツプが設けられてい
る。しかし従来の水蒸気トラツプはバツチ式で、
導管内壁面に氷が多量に付着・堆積した段階で操
業を停止し、氷を除去しなければならず、連続運
転を行うことができないという不都合点があつ
た。また酸素発生器とレーザー共振器とが水蒸気
トラツプおよびダクトを介して接続されていたの
で、励起酸素の失活率が増加するという不都合点
もあつた。
本発明は上記の不都合点を解決するためになさ
れたもので、定常的かつ連続的に付着・堆積した
氷を除去・回収することができ、かつ励起酸素の
失活率の減少を図ることができるよう素レーザー
装置の提供を目的とするものである。
れたもので、定常的かつ連続的に付着・堆積した
氷を除去・回収することができ、かつ励起酸素の
失活率の減少を図ることができるよう素レーザー
装置の提供を目的とするものである。
本願の第１の発明のよう素レーザー装置を、図
面を参照して説明すれば、アルカリ性過酸化水素
溶液と塩素または塩素化合物とを接触させて励起
酸素を発生させる酸素発生器１と、この励起酸素
を導入しその中によう素を供給して励起酸素から
よう素へのエネルギ移乗反応によりよう素を励起
し、レーザー発振を得るレーザー共振器３とを主
構成機器とする化学励起よう素レーザー装置にお
いて、 前記酸素発生器１内に水蒸気トラツプ２を配設
するとともに、酸素発生器１に密接してレーザー
共振器３を連設し、 前記水蒸気トラツプ２は、略水平方向に設けら
れた円柱状または円筒状の回転体４と、この回転
体に略垂直に設けられた多数のデイスク５と、回
転体内およびデイスク内に設けられた冷媒通路
６，７と、多数のデイスク５の間に固定・配設さ
れた付着氷掻落し部材８とからなつている。
面を参照して説明すれば、アルカリ性過酸化水素
溶液と塩素または塩素化合物とを接触させて励起
酸素を発生させる酸素発生器１と、この励起酸素
を導入しその中によう素を供給して励起酸素から
よう素へのエネルギ移乗反応によりよう素を励起
し、レーザー発振を得るレーザー共振器３とを主
構成機器とする化学励起よう素レーザー装置にお
いて、 前記酸素発生器１内に水蒸気トラツプ２を配設
するとともに、酸素発生器１に密接してレーザー
共振器３を連設し、 前記水蒸気トラツプ２は、略水平方向に設けら
れた円柱状または円筒状の回転体４と、この回転
体に略垂直に設けられた多数のデイスク５と、回
転体内およびデイスク内に設けられた冷媒通路
６，７と、多数のデイスク５の間に固定・配設さ
れた付着氷掻落し部材８とからなつている。
また本願の第２の発明のよう素レーザー装置
を、図面を参照して説明すれば、アルカリ性過酸
化水素溶液と塩素または塩素化合物とを接触させ
て励起酸素を発生させる酸素発生器１と、この励
起酸素を導入しその中によう素を供給して励起酸
素からよう素へのエネルギ移乗反応によりよう素
を励起し、レーザー発振を得るレーザー共振器３
とを主構成機器とする化学励起よう素レーザー装
置において、 前記酸素発生器１内に水蒸気トラツプ２を配設
するとともに、酸素発生器１に密接してレーザー
共振器３を連設し、 前記水蒸気トラツプ２は、略水平方向に設けら
れた円柱状または円筒状の回転体４と、この回転
体に略垂直に設けられた多数のデイスク５と、回
転体内およびデイスク内に設けられた冷媒通路
６，７と、多数のデイスク５の間に固定・配設さ
れた付着氷掻落し部材８とからなり、 さらに前記酸素発生器１の上流側に、新たに過
酸化水素、アルカリ、水を適量供給し予混合する
溶液成分調整槽２６を設け、この溶液成分調整槽
と酸素発生器とを、酸素発生器で一部反応した溶
液を回収できるように溶液循環ライン２７を介し
て接続して形成されている。
を、図面を参照して説明すれば、アルカリ性過酸
化水素溶液と塩素または塩素化合物とを接触させ
て励起酸素を発生させる酸素発生器１と、この励
起酸素を導入しその中によう素を供給して励起酸
素からよう素へのエネルギ移乗反応によりよう素
を励起し、レーザー発振を得るレーザー共振器３
とを主構成機器とする化学励起よう素レーザー装
置において、 前記酸素発生器１内に水蒸気トラツプ２を配設
するとともに、酸素発生器１に密接してレーザー
共振器３を連設し、 前記水蒸気トラツプ２は、略水平方向に設けら
れた円柱状または円筒状の回転体４と、この回転
体に略垂直に設けられた多数のデイスク５と、回
転体内およびデイスク内に設けられた冷媒通路
６，７と、多数のデイスク５の間に固定・配設さ
れた付着氷掻落し部材８とからなり、 さらに前記酸素発生器１の上流側に、新たに過
酸化水素、アルカリ、水を適量供給し予混合する
溶液成分調整槽２６を設け、この溶液成分調整槽
と酸素発生器とを、酸素発生器で一部反応した溶
液を回収できるように溶液循環ライン２７を介し
て接続して形成されている。
酸素発生器１において、アルカリ性過酸化水素
溶液と塩素ガスまたは塩素化合物とを接触させて
励起酸素を発生させる。この励起酸素をレーザー
共振器３に導入し、励起酸素中によう素ガスをア
ルゴンガス、窒素ガスなどのキヤリアガスととも
に供給して、励起酸素からよう素へのエネルギ移
乗反応によりよう素を励起し、よう素原子間に逆
転分布を形成させることによつてレーザー光を得
る。
溶液と塩素ガスまたは塩素化合物とを接触させて
励起酸素を発生させる。この励起酸素をレーザー
共振器３に導入し、励起酸素中によう素ガスをア
ルゴンガス、窒素ガスなどのキヤリアガスととも
に供給して、励起酸素からよう素へのエネルギ移
乗反応によりよう素を励起し、よう素原子間に逆
転分布を形成させることによつてレーザー光を得
る。
酸素発生器１で発生した水蒸気は、水蒸気トラ
ツプ２のデイスク５の表面および回転体４の表面
で氷結し、この氷を付着氷掻落し部材８で掻き落
して、酸素発生器１内の溶液中に落下・回収す
る。
ツプ２のデイスク５の表面および回転体４の表面
で氷結し、この氷を付着氷掻落し部材８で掻き落
して、酸素発生器１内の溶液中に落下・回収す
る。
以下、図面を参照して本発明の好適な実施例を
詳細に説明する。ただしこの実施例に記載されて
いる構成機器の形状、その相対配置などは、とく
に特定的な記載がない限りは、本発明の範囲をそ
れらのみに限定する趣旨のものではなく、単なる
説明例にすぎない。
詳細に説明する。ただしこの実施例に記載されて
いる構成機器の形状、その相対配置などは、とく
に特定的な記載がない限りは、本発明の範囲をそ
れらのみに限定する趣旨のものではなく、単なる
説明例にすぎない。
第１図および第２図は本発明の一実施例を示し
ている。１は励起酸素を発生させる酸素発生器
で、この酸素発生器内にデイスク型の水蒸気トラ
ツプ２を配設するとともに、酸素発生器に密接し
てレーザー共振器３を連設している。
ている。１は励起酸素を発生させる酸素発生器
で、この酸素発生器内にデイスク型の水蒸気トラ
ツプ２を配設するとともに、酸素発生器に密接し
てレーザー共振器３を連設している。
水蒸気トラツプ２は、第３図および第４図に示
すように、略水平方向に設けられた円柱状の回転
体４と、この回転体に略垂直に設けられた多数の
デイスク５と、回転体内およびデイスク内に設け
られた冷媒通路６，７と、多数のデイスク５の間
に固定・配設された付着氷掻落し部材８とからな
つている。９は冷凍機である。なお回転体を円筒
状とすることも可能である。回転体４は酸素発生
器１の側板の外側において軸受１０，１１により
支承され、駆動源（図示せず）に接続されたスプ
ロケツトホイール１２により5rpm前後の低速で
回転駆動されるように構成されている。１３は冷
媒入口、１４は冷媒出口、１５は回転継手、１６
は塩素ガスヘツダ、１７は塩素ガスバブリングチ
ユーブ、１８は支持部材、２０はNaCl沈殿槽、
２１は溶液・NaCl抜出管、２２はよう素インジ
エクタ、２３，２４は反射ミラーである。
すように、略水平方向に設けられた円柱状の回転
体４と、この回転体に略垂直に設けられた多数の
デイスク５と、回転体内およびデイスク内に設け
られた冷媒通路６，７と、多数のデイスク５の間
に固定・配設された付着氷掻落し部材８とからな
つている。９は冷凍機である。なお回転体を円筒
状とすることも可能である。回転体４は酸素発生
器１の側板の外側において軸受１０，１１により
支承され、駆動源（図示せず）に接続されたスプ
ロケツトホイール１２により5rpm前後の低速で
回転駆動されるように構成されている。１３は冷
媒入口、１４は冷媒出口、１５は回転継手、１６
は塩素ガスヘツダ、１７は塩素ガスバブリングチ
ユーブ、１８は支持部材、２０はNaCl沈殿槽、
２１は溶液・NaCl抜出管、２２はよう素インジ
エクタ、２３，２４は反射ミラーである。
上記のように構成されたよう素レーザー装置に
おいて、酸素発生器１において、アルカリ性過酸
化水素溶液２５中に塩素ガスバブリングチユーブ
１７から塩素ガスをバブリングさせて励起酸素を
発生させる。この励起酸素中には、前述の(2)式で
示すように水蒸気が含まれ、この水蒸気はよう素
原子のエネルギを失活させるので、水蒸気トラツ
プ２で冷媒により冷却することにより氷として除
去する。すなわち、冷媒を低速回転している回転
体４内の通路６内、および低速回転しているデイ
スク５内の通路７内に流すことにより、回転体４
およびデイスク５を冷却して、これらの表面に氷
を付着・堆積させ、この氷を回転しないで固定さ
れている付着氷掻落し部材８により掻き落とし
て、酸素発生器１内の溶液中に落下させる。付着
氷掻落し部材８は溶液中に配置されているので、
掻き落された氷がレーザー共振器３の方へ飛んで
行くのを防止することができる。
おいて、酸素発生器１において、アルカリ性過酸
化水素溶液２５中に塩素ガスバブリングチユーブ
１７から塩素ガスをバブリングさせて励起酸素を
発生させる。この励起酸素中には、前述の(2)式で
示すように水蒸気が含まれ、この水蒸気はよう素
原子のエネルギを失活させるので、水蒸気トラツ
プ２で冷媒により冷却することにより氷として除
去する。すなわち、冷媒を低速回転している回転
体４内の通路６内、および低速回転しているデイ
スク５内の通路７内に流すことにより、回転体４
およびデイスク５を冷却して、これらの表面に氷
を付着・堆積させ、この氷を回転しないで固定さ
れている付着氷掻落し部材８により掻き落とし
て、酸素発生器１内の溶液中に落下させる。付着
氷掻落し部材８は溶液中に配置されているので、
掻き落された氷がレーザー共振器３の方へ飛んで
行くのを防止することができる。
冷媒としては、一例として、アルコール、トリ
クロルエチレン、メタノール、フロン系物質など
が用いられる。
クロルエチレン、メタノール、フロン系物質など
が用いられる。
水蒸気を除去した励起酸素をレーザー共振器３
に導入し、励起酸素中によう素ガスをよう素ガス
のみまたはキヤリアガス（アルゴンガス、窒素ガ
スなどの不活性ガス）とともによう素インジエク
タ２２から供給して、励起酸素からよう素へのエ
ネルギ移乗反応によりよう素を励起し、よう素原
子間に逆転分布を形成させることによつてレーザ
ー光が得られる。
に導入し、励起酸素中によう素ガスをよう素ガス
のみまたはキヤリアガス（アルゴンガス、窒素ガ
スなどの不活性ガス）とともによう素インジエク
タ２２から供給して、励起酸素からよう素へのエ
ネルギ移乗反応によりよう素を励起し、よう素原
子間に逆転分布を形成させることによつてレーザ
ー光が得られる。
つぎに第５図に基づいて本発明の他の実施例を
説明する。本例は第１図〜第４図に示す装置に加
えて、酸素発生器１の上流側に、新たに過酸化水
素、アルカリおよび水を適量供給し予混合する溶
液成分調整槽２６を設け、この槽２６と酸素発生
器１とを、酸素発生器で一部反応した溶液を回収
できるように溶液循環ライン２７を介して接続し
たものである。２８は塩素ボンベ、３０は窒素ボ
ンベ、３１はよう素気化器、３２は溶液循環ポン
プ、３３はNaClトラツプ、３４は水蒸気トラツ
プ、３５は真空ポンプである。
説明する。本例は第１図〜第４図に示す装置に加
えて、酸素発生器１の上流側に、新たに過酸化水
素、アルカリおよび水を適量供給し予混合する溶
液成分調整槽２６を設け、この槽２６と酸素発生
器１とを、酸素発生器で一部反応した溶液を回収
できるように溶液循環ライン２７を介して接続し
たものである。２８は塩素ボンベ、３０は窒素ボ
ンベ、３１はよう素気化器、３２は溶液循環ポン
プ、３３はNaClトラツプ、３４は水蒸気トラツ
プ、３５は真空ポンプである。
酸素発生器１内で一部反応した溶液を溶液循環
ライン２７により溶液成分調整槽２６に循環・回
収し、この槽２６内の回収溶液に新たに過酸化水
素、アルカリ（NaOH、KOHなど）および水を
供給して所定の濃度に調節する。したがつて、本
例は、運転とともに増加する水を回収・循環し、
酸素発生器内へ供給する溶液の成分を適正に調整
することができるという利点を有している。
ライン２７により溶液成分調整槽２６に循環・回
収し、この槽２６内の回収溶液に新たに過酸化水
素、アルカリ（NaOH、KOHなど）および水を
供給して所定の濃度に調節する。したがつて、本
例は、運転とともに増加する水を回収・循環し、
酸素発生器内へ供給する溶液の成分を適正に調整
することができるという利点を有している。
槽２６から排出される気体は、水蒸気トラツプ
３４で水蒸気を除去した後、真空ポンプ３５に導
入される。一方、レーザー共振器３から排出され
る気体は、よう素トラツプ（図示せず）でよう素
を除去した後、真空ポンプ３５に導入され、真空
ポンプ３５から酸素ガスと塩素ガスとの混合ガス
として排気される。この混合ガスは塩素トラツプ
（図示せず）に導入されて処理される。なお塩素
トラツプをよう素トラツプと真空ポンプとの間に
設ける場合もある。
３４で水蒸気を除去した後、真空ポンプ３５に導
入される。一方、レーザー共振器３から排出され
る気体は、よう素トラツプ（図示せず）でよう素
を除去した後、真空ポンプ３５に導入され、真空
ポンプ３５から酸素ガスと塩素ガスとの混合ガス
として排気される。この混合ガスは塩素トラツプ
（図示せず）に導入されて処理される。なお塩素
トラツプをよう素トラツプと真空ポンプとの間に
設ける場合もある。
真空ポンプ３５の入口の圧力は、通常1Torr前
後、レーザー共振器３内では1.2Torr前後、酸素
発生器１内では1.4Torr前後である。また酸素発
生器１内の温度は、−20℃前後、槽２６内の温度
も酸素発生器とほぼ同程度の温度にコントロール
される。
後、レーザー共振器３内では1.2Torr前後、酸素
発生器１内では1.4Torr前後である。また酸素発
生器１内の温度は、−20℃前後、槽２６内の温度
も酸素発生器とほぼ同程度の温度にコントロール
される。
本発明は上記のように構成されているので、つ
ぎのような効果を有している。
ぎのような効果を有している。
(1) 水蒸気トラツプを、定常的に氷を除去・回収
できる構成としたので、長時間運転を行うこと
ができ、かつ安定出力を得ることができる。
できる構成としたので、長時間運転を行うこと
ができ、かつ安定出力を得ることができる。
(2) 酸素発生器とレーザー共振器との距離が短か
いので、励起酸素の失活率が減少する。
いので、励起酸素の失活率が減少する。
(3) このため高圧操業が可能となり、真空ポンプ
を従来の真空ポンプの数分の１と小型化するこ
とができる。
を従来の真空ポンプの数分の１と小型化するこ
とができる。
第１図は本発明のよう素レーザー装置の一実施
例を示す縦断面説明図、第２図は第１図における
Ａ−Ａ線断面説明図、第３図は第１図におけるデ
イスク型水蒸気トラツプの縦断面説明図（第４図
におけるＢ−Ｂ線縮小断面説明図）、第４図は同
拡大横断面説明図、第５図は本発明のよう素レー
ザー装置の他の実施例を示す斜視説明図である。 １……酸素発生器、２……水蒸気トラツプ、３
……レーザー共振器、４……回転体、５……デイ
スク、６，７……冷媒通路、８……付着氷掻落し
部材、９……冷凍機、１０，１１……軸受、１２
……スプロケツトホイール、１３……冷媒入口、
１４……冷媒出口、１５……回転継手、１６……
塩素ガスヘツダ、１７……塩素ガスバブリングチ
ユーブ、１８……支持部材、２０……NaCl沈殿
槽、２１……溶液・NaCl抜出管、２２……よう
素インジエクタ、２３，２４……反射ミラー、２
５……アルカリ性過酸化水素溶液、２６……溶液
成分調整槽、２７……溶液循環ライン、２８……
塩素ボンベ、３０……窒素ボンベ、３１……よう
素気化器、３２……溶液循環ポンプ、３３……
NaClトラツプ、３４……水蒸気トラツプ、３５
……真空ポンプ。
例を示す縦断面説明図、第２図は第１図における
Ａ−Ａ線断面説明図、第３図は第１図におけるデ
イスク型水蒸気トラツプの縦断面説明図（第４図
におけるＢ−Ｂ線縮小断面説明図）、第４図は同
拡大横断面説明図、第５図は本発明のよう素レー
ザー装置の他の実施例を示す斜視説明図である。 １……酸素発生器、２……水蒸気トラツプ、３
……レーザー共振器、４……回転体、５……デイ
スク、６，７……冷媒通路、８……付着氷掻落し
部材、９……冷凍機、１０，１１……軸受、１２
……スプロケツトホイール、１３……冷媒入口、
１４……冷媒出口、１５……回転継手、１６……
塩素ガスヘツダ、１７……塩素ガスバブリングチ
ユーブ、１８……支持部材、２０……NaCl沈殿
槽、２１……溶液・NaCl抜出管、２２……よう
素インジエクタ、２３，２４……反射ミラー、２
５……アルカリ性過酸化水素溶液、２６……溶液
成分調整槽、２７……溶液循環ライン、２８……
塩素ボンベ、３０……窒素ボンベ、３１……よう
素気化器、３２……溶液循環ポンプ、３３……
NaClトラツプ、３４……水蒸気トラツプ、３５
……真空ポンプ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ アルカリ性過酸化水素溶液と塩素または塩素
化合物とを接触させて励起酸素を発生させる酸素
発生器と、この励起酸素を導入しその中によう素
を供給して励起酸素からよう素へのエネルギ移乗
反応によりよう素を励起し、レーザー発振を得る
レーザー共振器とを主構成機器とする化学励起よ
う素レーザー装置において、 前記酸素発生器内に水蒸気トラツプを配設する
とともに、酸素発生器に密接してレーザー共振器
を連設し、 前記水蒸気トラツプは、略水平方向に設けられ
た円柱状または円筒状の回転体と、この回転体に
略垂直に設けられた多数のデイスクと、回転体内
およびデイスク内に設けられた冷媒通路と、多数
のデイスクの間に固定・配設された付着氷掻落し
部材とからなることを特徴とするよう素レーザー
装置。 ２ アルカリ性過酸化水素溶液と塩素または塩素
化合物とを接触させて励起酸素を発生させる酸素
発生器と、この励起酸素を導入しその中によう素
を供給して励起酸素からよう素へのエネルギ移乗
反応によりよう素を励起し、レーザー発振を得る
レーザー共振器とを主構成機器とする化学励起よ
う素レーザー装置において、 前記酸素発生器内に水蒸気トラツプを配設する
とともに、酸素発生器に密接してレーザー共振器
を連設し、 前記水蒸気トラツプは、略水平方向に設けられ
た円柱状または円筒状の回転体と、この回転体に
略垂直に設けられた多数のデイスクと、回転体内
およびデイスク内に設けられた冷媒通路と、多数
のデイスクの間に固定・配設された付着氷掻落し
部材とからなり、 さらに前記酸素発生器の上流側に、新たに過酸
化水素、アルカリ、水を適量供給し予混合する溶
液成分調整槽を設け、この溶液成分調整槽と酸素
発生器とを、酸素発生器で一部反応した溶液を回
収できるように溶液循環ラインを介して接続した
ことを特徴とするよう素レーザー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2458988A JPH01200685A (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | よう素レーザー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2458988A JPH01200685A (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | よう素レーザー装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2077704A Division JPH0636851B2 (ja) | 1990-03-27 | 1990-03-27 | ディスク型水蒸気トラップ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01200685A JPH01200685A (ja) | 1989-08-11 |
| JPH0416955B2 true JPH0416955B2 (ja) | 1992-03-25 |
Family
ID=12142343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2458988A Granted JPH01200685A (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | よう素レーザー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01200685A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4442463A1 (de) * | 1994-11-29 | 1996-05-30 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Generator und Verfahren zur Erzeugung eines Produktgases |
| JP2006269499A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Miki Pulley Co Ltd | 化学励起酸素‐沃素レーザ装置用励起酸素発生装置 |
| EP3101743A4 (en) | 2014-01-30 | 2017-09-13 | Kiwamu Takehisa | Molecular oxygen laser oscillator |
-
1988
- 1988-02-04 JP JP2458988A patent/JPH01200685A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01200685A (ja) | 1989-08-11 |
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