JPH04171026A - 有機溶媒再生装置 - Google Patents
有機溶媒再生装置Info
- Publication number
- JPH04171026A JPH04171026A JP29792390A JP29792390A JPH04171026A JP H04171026 A JPH04171026 A JP H04171026A JP 29792390 A JP29792390 A JP 29792390A JP 29792390 A JP29792390 A JP 29792390A JP H04171026 A JPH04171026 A JP H04171026A
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- JP
- Japan
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- organic solvent
- solvent
- evaporation tank
- membrane module
- ipa
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- Granted
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
半導体製造工程におけるウェーハなどの水洗浄後の、有
機溶媒による洗浄乾燥装置において、該有機溶媒に持ち
込まれる水分を除去するための−バーヘーバレーション
膜（以下Ｐｖ膜モジュールと略す）装置に関するもので
ある。
機溶媒による洗浄乾燥装置において、該有機溶媒に持ち
込まれる水分を除去するための−バーヘーバレーション
膜（以下Ｐｖ膜モジュールと略す）装置に関するもので
ある。
［従来の技術１
半導体製造の途中工程で、例えばウェーハの加工処理後
、水洗に引続いて行われるイソプロパツール（以下ＩＰ
Ａと略す）蒸気による洗浄を兼ねた乾燥において、この
ときに使用されるｒＰＡは、使用始めにおいては純度１
００％のものが有機溶媒蒸発槽（以下蒸発槽と略す）に
仕込まれるが、−度仕込まれたＩＰＡは使用が変型なる
につれて、被洗浄乾燥物などに付着している水分がＩＰ
Ａに持ち込まれ、該ＩＰＡの純度が次第に低下する。−
船釣には該ＩＰＡの純度が９３％以下になるとウェーハ
表面などにウォーターマークと称する不純物によるしみ
が発生して、半導体としての欠陥となる確率が高くなる
。
、水洗に引続いて行われるイソプロパツール（以下ＩＰ
Ａと略す）蒸気による洗浄を兼ねた乾燥において、この
ときに使用されるｒＰＡは、使用始めにおいては純度１
００％のものが有機溶媒蒸発槽（以下蒸発槽と略す）に
仕込まれるが、−度仕込まれたＩＰＡは使用が変型なる
につれて、被洗浄乾燥物などに付着している水分がＩＰ
Ａに持ち込まれ、該ＩＰＡの純度が次第に低下する。−
船釣には該ＩＰＡの純度が９３％以下になるとウェーハ
表面などにウォーターマークと称する不純物によるしみ
が発生して、半導体としての欠陥となる確率が高くなる
。
このために通常は洗浄及び乾燥用ＩＰＡの純度９３％を
限度として、純度１００％のものに入れ替えているのが
実状であるが、最近になって蒸発槽の装置にｐｖ膜によ
る、純度の低下したＩＰＡ中の水分を除去するための溶
媒再生装置を設け、ＩＰＡの必要な純度を保つ技術が開
発されている。
限度として、純度１００％のものに入れ替えているのが
実状であるが、最近になって蒸発槽の装置にｐｖ膜によ
る、純度の低下したＩＰＡ中の水分を除去するための溶
媒再生装置を設け、ＩＰＡの必要な純度を保つ技術が開
発されている。
［発明が解決しようとする課題］
従来技術の該溶媒再生装置の最低の構成部品を第１図に
示す。この図に示すごとくこの再生装置にはＰｖ膜モジ
ュールに溶媒を送り込むためのポンプ８が必ず設けられ
ているが、該ポンプは微量の金属または金属イオンの溶
媒への混入をさけるために、溶媒に接触する部分に金属
をを使用することが出来ない。
示す。この図に示すごとくこの再生装置にはＰｖ膜モジ
ュールに溶媒を送り込むためのポンプ８が必ず設けられ
ているが、該ポンプは微量の金属または金属イオンの溶
媒への混入をさけるために、溶媒に接触する部分に金属
をを使用することが出来ない。
さらに該ポンプは、取扱う溶媒が静電気などで容易に着
火する危険性を持っている関係上、安全対策がなされた
ものを設ける必要がある。
火する危険性を持っている関係上、安全対策がなされた
ものを設ける必要がある。
すなわち該ポンプは選定上或いは安全上に種々な問題点
を持っているのが実状である。その上、既設の蒸発槽に
上記溶媒再生装置を追加して併設しようとした場合、設
置スペースが狭くて併設が困難なケースがあり、前記溶
媒再生装置の小形化が要望されている。
を持っているのが実状である。その上、既設の蒸発槽に
上記溶媒再生装置を追加して併設しようとした場合、設
置スペースが狭くて併設が困難なケースがあり、前記溶
媒再生装置の小形化が要望されている。
［課題を解決するための手段］
本発明は、以上に示した問題点の解決と要望を満たすた
めに、パーベーパレーション法が一般の逆浸透法のごと
く、膜の原液側に圧力を加えるのでなく、透過側を負圧
にすることにより水分を取除くことであることから、原
理的には最低構成部品はｐｖ膜モジュールと真空発生装
置であることに着目し、該ポンプの省略を図ったもので
ある。すなわち該ポンプは単にＰＶ膜モジュールに溶媒
を供給するのみで、原液側に透過のための圧力を必要と
しないことから、Ｐｖ膜モジュールを蒸発槽の蒸気層に
配置して、ｐｖ膜モジュールの透過側を負圧にすること
により、該蒸発槽内蒸気層のＩＰＡ中の水分を取除くシ
ステムを発明して、該ポンプの省略を図ったものである
。
めに、パーベーパレーション法が一般の逆浸透法のごと
く、膜の原液側に圧力を加えるのでなく、透過側を負圧
にすることにより水分を取除くことであることから、原
理的には最低構成部品はｐｖ膜モジュールと真空発生装
置であることに着目し、該ポンプの省略を図ったもので
ある。すなわち該ポンプは単にＰＶ膜モジュールに溶媒
を供給するのみで、原液側に透過のための圧力を必要と
しないことから、Ｐｖ膜モジュールを蒸発槽の蒸気層に
配置して、ｐｖ膜モジュールの透過側を負圧にすること
により、該蒸発槽内蒸気層のＩＰＡ中の水分を取除くシ
ステムを発明して、該ポンプの省略を図ったものである
。
即ち本発明は、有機溶媒蒸発槽の蒸気層に、水分を除去
するためのパーベーパレーション膜モジュールを配置し
てなることを特徴とする有機溶媒再生装置に係わるもの
である。上記有機溶媒蒸発槽は、半導体材料を水洗浄後
、有機溶媒の薫気で洗浄、乾燥するシステムに用いられ
るものであるに係わるものである。
するためのパーベーパレーション膜モジュールを配置し
てなることを特徴とする有機溶媒再生装置に係わるもの
である。上記有機溶媒蒸発槽は、半導体材料を水洗浄後
、有機溶媒の薫気で洗浄、乾燥するシステムに用いられ
るものであるに係わるものである。
第１図及び第２図により、本発明の詳細な説明する。第
１図は従来技術の蒸発槽と溶媒再生装置とを組み合わせ
た場合のフローシートを示す図で、第２図は本発明によ
る蒸発槽と溶媒再生装置とを組み合わせた一例のフロー
シートを示す図である。第１図及び第２図に於いて、１
は溶媒補給パイプ、２は溶媒、３は蒸発槽、４はヒータ
ー、５はクーラー、６は被洗浄物、例えばウェーハ、７
は送液ポンプサクションパイプ、８は送液ポンプ、９は
Ｐｖ膜モジュール、１０は溶媒戻りパ・イブ、１１は真
空ポンプサクションパイプ、１２はコンデンサー、１３
は冷却水パイプ、１４はドレンパイプ、１５は真空ポン
プ、ならびに１６は排気パイプ、をそれぞれ示す。即ち
第１図と第２図を比較すると容易にわかる様に本発明で
は、第２図の例に示す通りｐｖ膜モジュール９は蒸発槽
３の蒸気層に配置されており、第１図に用いられている
送液ポンプ８とこの送液ポンプ８に関連している配管の
送液ポンプサクションパイプ７及び溶媒戻りパイプ１０
などが設けられておらず、必然的に装置全体を小型化す
ることが可能なことが分かる。
１図は従来技術の蒸発槽と溶媒再生装置とを組み合わせ
た場合のフローシートを示す図で、第２図は本発明によ
る蒸発槽と溶媒再生装置とを組み合わせた一例のフロー
シートを示す図である。第１図及び第２図に於いて、１
は溶媒補給パイプ、２は溶媒、３は蒸発槽、４はヒータ
ー、５はクーラー、６は被洗浄物、例えばウェーハ、７
は送液ポンプサクションパイプ、８は送液ポンプ、９は
Ｐｖ膜モジュール、１０は溶媒戻りパ・イブ、１１は真
空ポンプサクションパイプ、１２はコンデンサー、１３
は冷却水パイプ、１４はドレンパイプ、１５は真空ポン
プ、ならびに１６は排気パイプ、をそれぞれ示す。即ち
第１図と第２図を比較すると容易にわかる様に本発明で
は、第２図の例に示す通りｐｖ膜モジュール９は蒸発槽
３の蒸気層に配置されており、第１図に用いられている
送液ポンプ８とこの送液ポンプ８に関連している配管の
送液ポンプサクションパイプ７及び溶媒戻りパイプ１０
などが設けられておらず、必然的に装置全体を小型化す
ることが可能なことが分かる。
Ｐｖ膜モジュールとしては、中空糸膜モジュール、平膜
積層型モジュール、チューブラ型モジュール、プリーツ
型モジュールならびにスパイラル型モジュールなどが用
いられる。
積層型モジュール、チューブラ型モジュール、プリーツ
型モジュールならびにスパイラル型モジュールなどが用
いられる。
［発明の効果コ
装置ψ小形化に対し、従来技術における蒸発槽と溶媒再
生装置の組み合わせでは、蒸発槽３から離れた位置に設
置してもよいコンデンサー１２、真空ポンプ１５を除い
た場合、Ｐｖ膜モジュール９と送液ポンプ８を収納する
ケースの大きさは、５５ｃｍ Ｘ ３５ｃｍ＋ Ｘ １
５ｃｍが必要であるのに対して、本発明の場合は、ｐｖ
膜モジュール９は蒸発槽３の中に組み込まれており、か
つ送液ポンプが不要であることから、収納ケースは全く
必要としないこととなった。このことば特に既設の蒸発
槽に溶媒再生装置を取り付けたい場合に、非常に貢献す
るものである。
生装置の組み合わせでは、蒸発槽３から離れた位置に設
置してもよいコンデンサー１２、真空ポンプ１５を除い
た場合、Ｐｖ膜モジュール９と送液ポンプ８を収納する
ケースの大きさは、５５ｃｍ Ｘ ３５ｃｍ＋ Ｘ １
５ｃｍが必要であるのに対して、本発明の場合は、ｐｖ
膜モジュール９は蒸発槽３の中に組み込まれており、か
つ送液ポンプが不要であることから、収納ケースは全く
必要としないこととなった。このことば特に既設の蒸発
槽に溶媒再生装置を取り付けたい場合に、非常に貢献す
るものである。
一方、送液ポンプが設けられていないと言うことは、溶
媒の着火に対する安全性についても、該溶媒への異物の
混入についても全（その恐れがなく、安全上ならびに品
質上にも大きく貢献するものである。
媒の着火に対する安全性についても、該溶媒への異物の
混入についても全（その恐れがなく、安全上ならびに品
質上にも大きく貢献するものである。
さらに、該Ｐｖ膜モジュールが、本発明では、直接加熱
されたＩＰＡ液に触れないことから、Ｐｖ膜モジュール
からＩＰＡへの溶出物が少なく、ウェーハなどを汚染す
る物質のＩＰＡ中への蓄積が少ない。
されたＩＰＡ液に触れないことから、Ｐｖ膜モジュール
からＩＰＡへの溶出物が少なく、ウェーハなどを汚染す
る物質のＩＰＡ中への蓄積が少ない。
Ｐν膜モジュールをＩＰＡ溶液に浸漬する場合と、該Ｉ
ＰＡ溶液と平衡にあるＩＰＡ蒸気混合物中にさらす場合
とで、Ｈｐｖ膜モジュールの水分の除去性能にほとんど
差がないことが分かった。
ＰＡ溶液と平衡にあるＩＰＡ蒸気混合物中にさらす場合
とで、Ｈｐｖ膜モジュールの水分の除去性能にほとんど
差がないことが分かった。
第１図は従来技術の蒸発槽に溶媒再生装置を取り付けた
場合のフローシートを示す図、第２図は本発明の蒸発槽
の蒸気層にｐｖ膜モジュールを配した溶媒再生装置の一
例のフローシートを示す図である。 １・・溶媒補給パイプ ２・・溶媒 ３・・蒸発槽 ４・・ヒーター５・・クーラ
ー ６・・被洗浄物９・・ＰＶｙモジュール １１・・真空ポンプサクションパイプ １２・・コンデンサー １３・・冷却水パイプ１４
・・ドレンパイプ １５・・真空ポンプ１６・・排
気パイプ 出願人代理人 古 谷 馨 （外３名）
場合のフローシートを示す図、第２図は本発明の蒸発槽
の蒸気層にｐｖ膜モジュールを配した溶媒再生装置の一
例のフローシートを示す図である。 １・・溶媒補給パイプ ２・・溶媒 ３・・蒸発槽 ４・・ヒーター５・・クーラ
ー ６・・被洗浄物９・・ＰＶｙモジュール １１・・真空ポンプサクションパイプ １２・・コンデンサー １３・・冷却水パイプ１４
・・ドレンパイプ １５・・真空ポンプ１６・・排
気パイプ 出願人代理人 古 谷 馨 （外３名）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 有機溶媒蒸発槽の蒸気層に、水分を除去するための
パーベーパレーション膜モジュールを配置してなること
を特徴とする有機溶媒再生装置。 ２ 有機溶媒蒸発槽が、半導体材料を水洗浄後、有機溶
媒の蒸気で洗浄、乾燥するシステムに用いられるもので
あることを特徴とする請求項１記載の有機溶媒再生装置
。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29792390A JP2894573B2 (ja) | 1990-11-02 | 1990-11-02 | 有機溶媒再生装置 |
| EP19910918996 EP0509105A4 (en) | 1990-11-02 | 1991-11-01 | Device for regenerating organic solvent |
| PCT/JP1991/001499 WO1992007647A1 (fr) | 1990-11-02 | 1991-11-01 | Dispositif de regeneration d'un solvant organique |
| KR1019920701568A KR920703187A (ko) | 1990-11-02 | 1991-11-01 | 유기용매 재생장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29792390A JP2894573B2 (ja) | 1990-11-02 | 1990-11-02 | 有機溶媒再生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04171026A true JPH04171026A (ja) | 1992-06-18 |
| JP2894573B2 JP2894573B2 (ja) | 1999-05-24 |
Family
ID=17852841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29792390A Expired - Lifetime JP2894573B2 (ja) | 1990-11-02 | 1990-11-02 | 有機溶媒再生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2894573B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05123503A (ja) * | 1991-11-08 | 1993-05-21 | Daikin Ind Ltd | 水切り乾燥装置 |
| US5243768A (en) * | 1991-02-18 | 1993-09-14 | Mitsubishi Kasei Corporation | Vapor drier |
| JPH07222902A (ja) * | 1994-02-15 | 1995-08-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JPH11285601A (ja) * | 1999-02-05 | 1999-10-19 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JP2017124396A (ja) * | 2016-01-07 | 2017-07-20 | 三菱ケミカル株式会社 | 多管式分離膜モジュール及び液体処理方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWM263581U (en) | 2004-08-11 | 2005-05-01 | Jstac Corp | Data accessing device with fingerprint identification |
-
1990
- 1990-11-02 JP JP29792390A patent/JP2894573B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5243768A (en) * | 1991-02-18 | 1993-09-14 | Mitsubishi Kasei Corporation | Vapor drier |
| JPH05123503A (ja) * | 1991-11-08 | 1993-05-21 | Daikin Ind Ltd | 水切り乾燥装置 |
| JPH07222902A (ja) * | 1994-02-15 | 1995-08-22 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JPH11285601A (ja) * | 1999-02-05 | 1999-10-19 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JP2017124396A (ja) * | 2016-01-07 | 2017-07-20 | 三菱ケミカル株式会社 | 多管式分離膜モジュール及び液体処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2894573B2 (ja) | 1999-05-24 |
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