JPH04173782A - 2-sulfonamido-4,5-diphenylthiazole derivative - Google Patents
2-sulfonamido-4,5-diphenylthiazole derivativeInfo
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- JPH04173782A JPH04173782A JP2302853A JP30285390A JPH04173782A JP H04173782 A JPH04173782 A JP H04173782A JP 2302853 A JP2302853 A JP 2302853A JP 30285390 A JP30285390 A JP 30285390A JP H04173782 A JPH04173782 A JP H04173782A
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- hexane
- trifluoromethanesulfonamide
- phenylthiazol
- dichloromethane
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、新規2−スルホンアミド−4,5−ジフェニ
ルチアゾール誘導体およびその製薬学的に許容される塩
類に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to novel 2-sulfonamido-4,5-diphenylthiazole derivatives and pharmaceutically acceptable salts thereof.
更に詳しくは、本発明は、抗炎症作用、解熱作用、鎮痛
作用、抗アレルギー作用等を有する2−スルホンアミド
−4,5−ジフェニルチアゾール誘導体およびその製薬
学的に許容される塩類に関するものである。More specifically, the present invention relates to 2-sulfonamide-4,5-diphenylthiazole derivatives and pharmaceutically acceptable salts thereof having anti-inflammatory, antipyretic, analgesic, and antiallergic effects. .
従ヌ1(7)1支賓
2−アミノ−4,5−ジフェニルチアゾール誘導体に関
しては特開昭50−121269号、特開昭54−16
0369号、特開昭64−75475号などがあるが、
本発明の2−スルホンアミド−4,5−ジフェニルチア
ゾール誘導体に関しては全く開示されていない。Regarding 2-amino-4,5-diphenylthiazole derivatives, see JP-A-50-121269 and JP-A-54-16.
No. 0369, JP-A No. 64-75475, etc.
There is no disclosure whatsoever regarding the 2-sulfonamido-4,5-diphenylthiazole derivative of the present invention.
明が解決しようとする
従来の酸性非ステロイド抗炎症剤は、臨床上の副作用と
して特に消化管障害が問題になっている。本発明は副作
用が少なく、長期投与に耐えうる安全性の高い薬剤を提
供することを目的とする。Conventional acidic non-steroidal anti-inflammatory drugs, which Ming is trying to solve, have had clinical side effects, particularly gastrointestinal disorders. An object of the present invention is to provide a highly safe drug that has few side effects and can withstand long-term administration.
課題を解決するだめの手段
本発明者らは、上記を目的に鋭意検討した結果、抗炎症
、解熱、鎮痛、抗アレルギーなどの作用を有するため抗
炎症剤、解熱剤、鎮痛剤、抗アレルギー剤として有用で
あり、しかも消化管障害などの副作用が少ない、安全性
の高い化合物を見出し本発明を完成した。Means to Solve the Problems As a result of intensive studies aimed at the above-mentioned purpose, the present inventors found that it has anti-inflammatory, antipyretic, analgesic, and antiallergic effects, so it can be used as an anti-inflammatory, antipyretic, analgesic, and antiallergic agent. The present invention was completed by discovering a highly safe compound that is useful, has few side effects such as gastrointestinal disorders, and has a high degree of safety.
R′)
(式中、R1はハロゲン原子で置換きれた低級アルキル
基であり、R1、R1、R4およびR5はそれぞれ同一
または異っていてもよく水素原子、ハロゲン原子、低級
アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基
、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキ
ルスルホニル基、二l〜ロ基、フェニル基またはフエ/
キシ基である。)で表わきれる2−スルポンアミド−4
,5−ジフェニルチアゾール誘導体およびその製薬学的
に許容される塩である。R') (In the formula, R1 is a lower alkyl group substituted with a halogen atom, and R1, R1, R4, and R5 may be the same or different, and a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, a halogen atom) a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, a lower alkylsulfonyl group, a dil-ro group, a phenyl group or a phenyl group substituted with
It is a xyl group. ) 2-Sulponamide-4
, 5-diphenylthiazole derivatives and pharmaceutically acceptable salts thereof.
本発明の範囲に包含きれる上記の種々の定義の具体例は
以下にのべる。Specific examples of the above various definitions that are within the scope of the present invention are given below.
ハロゲン原子で置換きれた低級アルキル基とはフッ素、
塩素、臭素などで置換きれた炭素数1〜4のアルキル基
であり、それらはたとえはクロロメチル基、ジクロロメ
チル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジフル
オロメチル基、1−リフルオロメチル基などである。Lower alkyl groups substituted with halogen atoms are fluorine,
An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms substituted with chlorine, bromine, etc., such as chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, difluoromethyl group, 1-lifluoromethyl group, etc. be.
ハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子また
はヨウ素原子である。A halogen atom is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
低級アルキル基とは炭素数1〜5の直鎖状または分枝鎖
状のアルキル基であり、たとえばメチル基、エチル基、
n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソ
ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル
基などである。A lower alkyl group is a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group,
Examples include n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, and n-pentyl group.
低級アルコキシ基とは炭素数1〜5の直鎖状または分枝
鎖状のアルコキシ基であり、たとえばメトキシ基、エト
キシ基、n−プロポキシ基、インプロポキシ基、n−ブ
トキシ基、インブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペン
チルオキシ基などである。A lower alkoxy group is a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, such as methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, impropoxy group, n-butoxy group, imbutoxy group, Examples include t-butoxy group and n-pentyloxy group.
低級アルキルチオ基とは炭素数1〜5の直鎖状または分
枝鎖状のアルキルチオ基であり、たとえばメチルチオ基
、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、イソプロピルチ
オ基、n−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基などであ
る。A lower alkylthio group is a linear or branched alkylthio group having 1 to 5 carbon atoms, such as methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, isopropylthio group, n-butylthio group, n-pentylthio group. etc.
低級アルキルスルホニル基とは炭素数1〜5の直鎖状ま
たは分枝鎖状のアルキルスルホニル基であり、たとえば
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、n−プロピ
ルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、n−ブチ
ルスルホニル基、n−ペンチルスルホニル基などである
。A lower alkylsulfonyl group is a linear or branched alkylsulfonyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, n-propylsulfonyl group, isopropylsulfonyl group, n-butylsulfonyl group. group, n-pentylsulfonyl group, etc.
製薬学的に許容きれる塩は、リチウム、ナトリウム、カ
リウムなどのアルカリ金属との塩、1〜リエチルアミン
、エタノールアミンなどの有機アミンとの塩などである
。Pharmaceutically acceptable salts include salts with alkali metals such as lithium, sodium, and potassium, and salts with organic amines such as 1-ethylamine and ethanolamine.
本発明の化合物は、たとえは公知の化合物から下記に示
す方法によって製造することができる。The compound of the present invention can be produced, for example, from a known compound by the method shown below.
(1)式
(式中、R2、R1、R4およびR5は、前記と同意義
である。)で表される化合物をハロゲン化剤の存在下、
チオ尿素と反応きせることにより、式(式中、R′、R
8、R4およびR5は、前記と同意義である。)で表さ
れる化合物を得る。(1) A compound represented by the formula (wherein R2, R1, R4 and R5 have the same meanings as above) in the presence of a halogenating agent,
By reacting with thiourea, the formula (where R', R
8, R4 and R5 have the same meanings as above. ) is obtained.
本反応におけるハロゲン化剤とは、臭素、ヨウ素、N−
ブロモコハク酸イミド、過臭化臭化ピリジニウムなどで
あり、無溶媒またはクロロホルム、四塩化戻素、ピリジ
ン、N、N−ジメチルホルムアミド、ジオキサンなどの
溶媒中で行うことができる。The halogenating agents used in this reaction include bromine, iodine, N-
Bromosuccinimide, pyridinium bromide perbromide, etc., and can be carried out without a solvent or in a solvent such as chloroform, back tetrachloride, pyridine, N,N-dimethylformamide, dioxane, etc.
次いで、式■の化合物を有機溶媒中、式R’SO,H(
式中、R1は前記と同意義である。)で表されるスルホ
ン酸化合物またはその反応性誘導体(たとえば、酸ハロ
ゲン化物、酸無水物など)と反応させることにより式I
で表される本発明の化合物を得ることができる。Next, the compound of formula
In the formula, R1 has the same meaning as above. ) or its reactive derivatives (e.g., acid halides, acid anhydrides, etc.).
The compound of the present invention represented by can be obtained.
本反応において、スルホン酸化合物を使用する場合には
N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド等の縮合剤
の存在下に反応を行うのが好ましく、また反応性誘導体
を使用する場合にはトリエチルアミン、4−メチルモル
ホリン、1−メチルピペリジン、ピリジン、N、N−ジ
メチルアミノピリジン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウムなどの塩基の存在下に反応を行
うのが好ましい。In this reaction, when using a sulfonic acid compound, it is preferable to carry out the reaction in the presence of a condensing agent such as N,N'-dicyclohexylcarbodiimide, and when using a reactive derivative, triethylamine, - Carry out the reaction in the presence of a base such as methylmorpholine, 1-methylpiperidine, pyridine, N,N-dimethylaminopyridine, potassium carbonate, sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc. is preferable.
また、本反応における有機溶媒とは、ジクロロメタン、
クロロホルム、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、ピリジン、アセト
ン、アセトニトリル、酢酸エチル、N、N−ジメチルボ
ルムアミドなどである。In addition, the organic solvent in this reaction includes dichloromethane,
These include chloroform, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, benzene, toluene, pyridine, acetone, acetonitrile, ethyl acetate, N,N-dimethylbormamide, and the like.
(2)前記式■で表きれる中間体は、下記の方法によっ
ても製造することができる。(2) The intermediate represented by the above formula (2) can also be produced by the following method.
すなわち、式■の化合物を水または有機溶媒中ハロゲン
化剤と反応させることにより、式(式中、Xは塩素原子
、臭素原子またはヨウ素原子であり、R8、R”、R’
およびR″は前記と同意義である。)で表わきれる化合
物を得る。That is, by reacting the compound of formula (1) with a halogenating agent in water or an organic solvent, a compound of the formula (wherein X is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom,
and R'' have the same meanings as above.) A compound represented by the following formula is obtained.
本反応におけるハロゲン化剤とは、塩素、塩化スルフリ
ル、臭素、N−ブロモコハク酸イミド、過臭化臭化ピリ
ジニウム、ヨウ素などであり、有機溶媒とは、ジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化戻素、ジエチルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ピリジン、酢酸な
どである。The halogenating agents used in this reaction include chlorine, sulfuryl chloride, bromine, N-bromosuccinimide, pyridinium bromide perbromide, and iodine, and the organic solvents include dichloromethane, chloroform, back tetrachloride, and diethyl ether. , tetrahydrofuran, dioxane, pyridine, acetic acid, etc.
次いで、式■の化合物を水および/または有機溶媒中、
チオ尿素と反応きせることにより式■の化合物を得るこ
とができる。Then, a compound of formula (■) is dissolved in water and/or an organic solvent,
A compound of formula (1) can be obtained by reaction with thiourea.
本反応における有機溶媒とは、メタノール、エタノール
、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエ
ーテル類、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ピリジン、
N、N−ジメチルホルムアミド、酢酸などである。The organic solvents used in this reaction include alcohols such as methanol, ethanol, and isopropyl alcohol, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane, benzene, toluene, hexane, pyridine,
N,N-dimethylformamide, acetic acid and the like.
(3)式Iの化合物の製薬学的に許容される塩は、式1
の化合物を水または有機溶媒中、塩基で処理することに
より得ることができる。本反応における塩基とは水酸化
リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのア
ルカリ金属水酸化物、トリエチルアミン、エタノールア
ミンなどの有機アミンが挙げられる。(3) A pharmaceutically acceptable salt of a compound of formula I is a compound of formula I
can be obtained by treating the compound with a base in water or an organic solvent. Examples of the base in this reaction include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, and potassium hydroxide, and organic amines such as triethylamine and ethanolamine.
λ魁夏盈1
本発明の化合物は、抗炎症、解熱、鎮痛、抗アレルギー
作用などを示し、しかも消化管障害を主とした毒性試験
において、従来の化合物と比較して副作用が少なかった
。従って、本発明の化合物は、抗炎症剤、解熱剤、鎮痛
剤、抗アレルギー剤として有用である。The compound of the present invention exhibits anti-inflammatory, antipyretic, analgesic, and antiallergic effects, and has fewer side effects than conventional compounds in toxicity tests mainly for gastrointestinal disorders. Therefore, the compounds of the present invention are useful as anti-inflammatory agents, antipyretics, analgesics, and antiallergic agents.
この目的のためには、この化合物は経口または非経口的
に慣用の投与剤型で投与することができる。これらは、
たとえば錠剤、粉剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、液剤
、乳剤、懸濁剤、注射剤などであり、いずれも通常の製
剤技術で製造することができる。人に対して抗炎症剤、
解熱剤、鎮痛剤、抗アレルギー剤として用いる場合、そ
の投与量は年齢、体重、症状、投与経路、投与回数など
によって異なるが、通常20〜1000mgである。For this purpose, the compounds can be administered orally or parenterally in customary dosage forms. these are,
Examples include tablets, powders, granules, powders, capsules, liquids, emulsions, suspensions, and injections, all of which can be manufactured using conventional formulation techniques. anti-inflammatory drugs for humans,
When used as an antipyretic, analgesic, or antiallergic agent, the dosage varies depending on age, body weight, symptoms, route of administration, number of administrations, etc., but is usually 20 to 1000 mg.
以下、試験例を挙げさらに詳細に説明する。Hereinafter, a more detailed explanation will be given using test examples.
試験例1
[カラゲニンを用いる浮腫抑制試験]
カラゲニンを用いるウィンターらの方法[Jou−rn
al of Pharmacology and Ex
perimental Thera−peutics
、第141巻、第369頁(1963年)]に準拠して
行った。ウィスター系雄性ラット(1群6匹)に、本発
明化合物を5%アラビアゴム水溶液に懸濁した液を体重
100g当り1mlの投与容量で50mg/kgをカラ
ゲニン投与の1時間前に経口投与し、イブプロフェンを
対照薬としてその浮腫抑制率を求めて抗炎症作用を調べ
た。Test Example 1 [Edema suppression test using carrageenan] Winter et al.'s method using carrageenan [Jour-rn
al of Pharmacology and Ex
peripheral Thera-peutics
, Vol. 141, p. 369 (1963)]. A suspension of the compound of the present invention in a 5% aqueous gum arabic solution was orally administered to male Wistar rats (6 rats per group) at a dose of 50 mg/kg at a dose of 1 ml per 100 g of body weight, 1 hour before carrageenan administration. Using ibuprofen as a control drug, its anti-inflammatory effect was investigated by determining its edema suppression rate.
その結果を第1表に示した。The results are shown in Table 1.
第1表
a:N−[4−(4−メトキシフェニル)−5−フェニ
ルチアゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホン
アミド
b:N−[4−(4−クロロフェニル)−5−フェニル
チアゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンア
ミド
c:N−[5−(4−ニトロフェニル)−4−フェニル
チアゾール−2−イル]トリフルオロメタ′ンスルホン
アミド
d:N−[5−フェニル−4−(4−トリフルオロメチ
ルフェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオロメタ
ンスルポンアミド
e:N−[4−(4−メトキシフェニル)−5−(4−
トリフルオロメチルフェニル)チアソール−2−イル]
トリフルオロメタンスルホンアミド
実施例
以下、実施例を挙げて本発明をきらに詳細に説明する。Table 1 a: N-[4-(4-methoxyphenyl)-5-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide b: N-[4-(4-chlorophenyl)-5-phenylthiazol-2- yl]trifluoromethanesulfonamide c: N-[5-(4-nitrophenyl)-4-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide d: N-[5-phenyl-4-(4- trifluoromethylphenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulponamide e: N-[4-(4-methoxyphenyl)-5-(4-
trifluoromethylphenyl)thiazol-2-yl]
Trifluoromethanesulfonamide Examples The present invention will now be explained in more detail with reference to Examples.
実施例1
(1)1−(4−クロロフェニル)−2−フェニルエタ
ノン4.61g、チオ尿素3.04 g及びヨウ素5、
08 gを混合し、110〜120℃で8時間攪拌した
。Example 1 (1) 4.61 g of 1-(4-chlorophenyl)-2-phenylethanone, 3.04 g of thiourea and 5 iodine,
08 g were mixed and stirred at 110-120°C for 8 hours.
反応混合物を室温に戻した後、10%アンモニア水10
0m1を加え、ジクロロメタンで抽出した。ジクロロメ
タン層を、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得た粗結晶を、ジ
クロロメタン−n−ヘキサンで再結晶し、2−アミノ−
4−(4−クロロフェニル)−5−フェニルチアゾール
3.12gヲ得り。After returning the reaction mixture to room temperature, 10% aqueous ammonia
0ml was added and extracted with dichloromethane. The dichloromethane layer was washed successively with water and saturated brine, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. The crude crystals obtained by distilling off the solvent were recrystallized from dichloromethane-n-hexane to give 2-amino-
3.12 g of 4-(4-chlorophenyl)-5-phenylthiazole was obtained.
m、p、 187〜189℃
(2)2−アミノ−4−(4−クロロフェニル)−5−
フェニルチアゾール2.0gを含むジクロロメタン40
m1l溶液に水冷攪拌しながら、無水トリフルオロメタ
ンスルホン酸2.26 g及びトリエチルアミン0.9
1 gを順次加え、2時間攪拌した。次いでジクロロメ
タンで抽出、ジクロロメタン層を2N塩酸、水、飽和食
塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。m, p, 187-189°C (2) 2-amino-4-(4-chlorophenyl)-5-
40 dichloromethane containing 2.0 g phenylthiazole
2.26 g of trifluoromethanesulfonic anhydride and 0.9 g of triethylamine in a water-cooled and stirred solution.
1 g were added one after another and stirred for 2 hours. Next, the mixture was extracted with dichloromethane, and the dichloromethane layer was washed successively with 2N hydrochloric acid, water, and saturated brine, and then dried over anhydrous magnesium sulfate.
溶媒を留去して得た油状物を、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶媒;n−ヘキサン:酢酸エチル=
5:1〜2:1)で精製後、酢酸エチル−n−ヘキサン
で再結晶し、N−[4−(4−クロロフェニル)−5−
フェニルチアゾール−2−イル]トリフルオロメタンス
ルホンアミド1.12gを得た。The oil obtained by distilling off the solvent was subjected to silica gel column chromatography (elution solvent: n-hexane: ethyl acetate =
5:1 to 2:1), recrystallized from ethyl acetate-n-hexane to obtain N-[4-(4-chlorophenyl)-5-
1.12 g of phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide was obtained.
m、p、 224〜225℃ 実施例1と同様にして、下記に示きれる化合物を得た。m, p, 224-225℃ In the same manner as in Example 1, the following compounds were obtained.
融点のあとのかっこ内は再結晶溶媒を示す。The number in parentheses after the melting point indicates the recrystallization solvent.
N−[4−(4−メトキシフェニル)−5−フェニルチ
アゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミ
ド
m、p、 205〜206℃(エタノール−n−ヘキサ
ン)
N−(4,5−ジフェニルチアゾール−2−イル)トリ
フルオロメタンスルホンアミドm、p、 191〜1
93℃(エタノール−水)N−[4−(4−メチルフェ
ニル)−5−フェニルチアゾール−2−イル]トリフル
オロメタンスルホンアミド
fll、I)、 188〜189℃(エーテル−n−ヘ
キサン)
N−[4,5−ビス(4−メトキシフェニル)チアゾー
ル−2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 236〜237°C(酢酸エチル−n−へキ
サン)
N−[4−(2−メトキシフェニル)−5−フェニルチ
アゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミ
ド
m、p、 205.5〜206.5℃(エタノール)
N−[4−(3−メトキシフェニル)−5−フェニルチ
アゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミ
ド
m、p、 153〜154℃(エタノール)N−[4−
(4−フルオロフェニル)−5−フェニルチアゾール−
2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 174.5〜175.5℃(エーテル−n−
ヘキサン)
N−[5−(4−メチルフェニル)−4−フェニルチア
ゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 209.5〜211℃(エタノール−n−ヘ
キサン)
N−[5−(4−クロロフェニル)−4−フェニルチア
ゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 203.5〜204.5℃(エタノール−n
−ヘキサン)
N−[5−(4−ニトロフェニル)−4−フェニルチア
ゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 207〜208℃(エタノール−n−ヘキサ
ン)
N−[4−(4−メチルチオフェニル)−5−フェニル
チアゾール−2−イルコトリフルオロメタンスルホンア
ミド
m、p、 201〜202℃(ジクロロメタン−n−ヘ
キサン)
N−[4−(4−エチルフェニル)−5−フェニルチア
ゾール−2−イルコトリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 164〜165℃(エーテル−n−ヘキサン
)
N−[4−(4−フェノキシフェニル)−5−フェニル
チアゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンア
ミド
m、p、 131.5〜132℃(エーテル−n−ヘキ
サン)
N−[5−フェニル−4−(4−トリフルオロメチルフ
ェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオロメタンス
ルホンアミド
m、p、 193〜194℃(エーテル−n−ヘキサン
)
N−[5−(4−メトキシフェニル)−4−フェニルチ
アゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミ
ド
m、p、 187.5〜188℃(エタノール−n−ヘ
キサン)
N−[4−(4−ビフェニリル)−5−フェニルチアゾ
ール−2−イルコトリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 215〜215.5℃(エタノール−n−ヘ
キサン)
N−[4−(2,4−ジメチルフェニル)−5−フェニ
ルチアゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホン
アミド
m、p、 162〜162.5℃(エタノール−n−ヘ
キサン)
N−[5−(4−フルオロフェニル)−4−(4−メト
キシフェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオロメ
タンスルホンアミドm、p、 209〜210℃(ジク
ロロメタン−n−ヘキサン)
N−[5−(4−クロロフェニル)−4−(4−メトキ
シフェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオロメタ
ンスルホンアミド
m、p、 201〜202℃(ジクロロメタン−n−ヘ
キサン)
N−[4−(4−メトキシフェニル)−5−(4−メチ
ルフェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオロメタ
ンスルホンアミド
m、p、 214〜215.5℃(ジクロロメタン−n
−ヘキサン)
N−[4−(4−ブロモフェニル)−5−フェニルチア
ゾール−2−イルコトリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 229.5〜230.5℃(ジクロロメタン
−n−ヘキサン)
N−[5−(4−ブロモフェニル)−4−フェニルチア
ゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 198〜200℃(ジクロロメタン−n−ヘ
キサン)
N−[5−(4−フルオロフェニル)−4−フェニルチ
アゾール−2−イルコトリフルオロメタンスルホンアミ
ド
m、p、 190〜191.5℃(ジクロロメタン−n
−ヘキサン)
N−[4,5−ビス(4−メチルフェニル)チアゾール
−2−イルコトリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 215〜217℃(エタノール−n−ヘキサ
ン)
実施例2
(1)1−(4−メトキシフェニル)−2−(4−トリ
フルオロメチルフェニル)エタノン1.0gを含むクロ
ロホルム7ynQ溶液に、触媒量の無水塩化アルミニウ
ム存在下、臭素0.60gをゆっくり加え、1時間攪拌
した。次いで5%チオ硫酸ナトリウム水溶液5mlを加
え5分間攪拌した後、クロロホルムで抽出、クロロホル
ム層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去して得た油状物に、エタノ
ール7ml及びチオ尿素0.39gを加え6時間還流し
た。反応液を室温に戻した後、28%アンモニア水を加
え、析出した結晶を濾取し、水洗した後乾燥した。粗結
晶をエタノール−n−ヘキサンで再結晶することにより
、2−アミノ−4−(4−メトキシフェニル)−5−(
4−トリフルオロメチルフェニル)チアゾール1.1g
を得た。N-[4-(4-methoxyphenyl)-5-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 205-206°C (ethanol-n-hexane) N-(4,5-diphenylthiazole- 2-yl) trifluoromethanesulfonamide m, p, 191-1
93°C (ethanol-water) N-[4-(4-methylphenyl)-5-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide full, I), 188-189°C (ether-n-hexane) N- [4,5-bis(4-methoxyphenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 236-237°C (ethyl acetate-n-hexane) N-[4-(2-methoxyphenyl) )-5-phenylthiazol-2-yl] trifluoromethanesulfonamide m, p, 205.5-206.5°C (ethanol)
N-[4-(3-methoxyphenyl)-5-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 153-154°C (ethanol) N-[4-
(4-fluorophenyl)-5-phenylthiazole-
2-yl] trifluoromethanesulfonamide m, p, 174.5-175.5°C (ether-n-
hexane) N-[5-(4-methylphenyl)-4-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 209.5-211°C (ethanol-n-hexane) N-[5-( 4-chlorophenyl)-4-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 203.5-204.5°C (ethanol-n
-hexane) N-[5-(4-nitrophenyl)-4-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 207-208°C (ethanol-n-hexane) N-[4-(4 -Methylthiophenyl)-5-phenylthiazol-2-ylcotrifluoromethanesulfonamide m, p, 201-202°C (dichloromethane-n-hexane) N-[4-(4-ethylphenyl)-5-phenylthiazole- 2-ylkotrifluoromethanesulfonamide m, p, 164-165°C (ether-n-hexane) N-[4-(4-phenoxyphenyl)-5-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 131.5-132°C (ether-n-hexane) N-[5-phenyl-4-(4-trifluoromethylphenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 193-194°C (ether-n-hexane) N-[5-(4-methoxyphenyl)-4-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 187.5-188°C (ethanol-n-hexane) N -[4-(4-biphenylyl)-5-phenylthiazol-2-ylcotrifluoromethanesulfonamide m, p, 215-215.5°C (ethanol-n-hexane) N-[4-(2,4- dimethylphenyl)-5-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 162-162.5°C (ethanol-n-hexane) N-[5-(4-fluorophenyl)-4-(4 -Methoxyphenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 209-210°C (dichloromethane-n-hexane) N-[5-(4-chlorophenyl)-4-(4-methoxyphenyl)thiazole- 2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 201-202°C (dichloromethane-n-hexane) N-[4-(4-methoxyphenyl)-5-(4-methylphenyl)thiazol-2-yl]trifluoro lomethanesulfonamide m, p, 214-215.5°C (dichloromethane-n
-hexane) N-[4-(4-bromophenyl)-5-phenylthiazol-2-ylcotrifluoromethanesulfonamide m, p, 229.5-230.5°C (dichloromethane-n-hexane) N-[ 5-(4-bromophenyl)-4-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 198-200°C (dichloromethane-n-hexane) N-[5-(4-fluorophenyl)-4 -Phenylthiazol-2-ylcotrifluoromethanesulfonamide m, p, 190-191.5°C (dichloromethane-n
-hexane) N-[4,5-bis(4-methylphenyl)thiazol-2-ylcotrifluoromethanesulfonamide m, p, 215-217°C (ethanol-n-hexane) Example 2 (1) 1- To a chloroform 7ynQ solution containing 1.0 g of (4-methoxyphenyl)-2-(4-trifluoromethylphenyl)ethanone in the presence of a catalytic amount of anhydrous aluminum chloride, 0.60 g of bromine was slowly added and stirred for 1 hour. Next, 5 ml of a 5% aqueous sodium thiosulfate solution was added and stirred for 5 minutes, followed by extraction with chloroform. The chloroform layer was washed successively with water and saturated brine, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. To the oily substance obtained by distilling off the solvent, 7 ml of ethanol and 0.39 g of thiourea were added, and the mixture was refluxed for 6 hours. After the reaction solution was returned to room temperature, 28% aqueous ammonia was added, and the precipitated crystals were collected by filtration, washed with water, and then dried. By recrystallizing the crude crystals from ethanol-n-hexane, 2-amino-4-(4-methoxyphenyl)-5-(
1.1 g of 4-trifluoromethylphenyl)thiazole
I got it.
m、p、 175〜178℃
(2)2−アミノ−4−(4−メトキシフェニル) −
5−(4−トリフルオロメチルフェニル)チアゾールを
実施例1(2)と同様に反応させることにより、N−[
4−(4−メトキシフェニル)−5−(4−トリフルオ
ロメチルフェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオ
ロメタンスルホンアミドを得た。m, p, 175-178°C (2) 2-amino-4-(4-methoxyphenyl) -
By reacting 5-(4-trifluoromethylphenyl)thiazole in the same manner as in Example 1 (2), N-[
4-(4-methoxyphenyl)-5-(4-trifluoromethylphenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide was obtained.
m、p、 160〜162℃(ジクロロメタン−n−ヘ
キサン)
実施例2と同様にして、下記に示きれる化合物を得た。m, p, 160-162°C (dichloromethane-n-hexane) In the same manner as in Example 2, the following compound was obtained.
N−[4−(4−ニトロフェニル)−5−フェニルチア
ゾール−2−イルコトリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 220〜221℃(ジクロロメタン−n−ヘ
キサン)
N−[4−(4−メチルスルホニルフェニル)−5−フ
ェニルチアゾール−2−イル]トリフルオロメタンスル
ホンアミド
m、p、 264〜266℃(酢酸エチル−n−ヘキサ
ン)
N−[4−(2,4−ジメトキシフェニル)−5−フェ
ニルチアゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルボ
ンアミド
m、p、 203〜205℃(エタノール−n−ヘキサ
ン)
N−[5−(4−ブロモフェニル)−4−(4−メトキ
シフェニル)チアゾール−2−イルコトリフルオロメタ
ンスルホンアミド
m、p、 196〜198℃(分解)(ジクロロメタン
−n−ヘキサン)
N−[4−(4−メトキシフェニル)−5−(4−ニト
ロフェニル)チアゾール−2−イルコトリフルオロメタ
ンスルホンアミド
m、p、 234〜235°C(ジクロロメタン−n−
ヘキサン)
N−[5−(4−ニトロフェニル)−4−(4−フェノ
キシフェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオロメ
タンスルホンアミド
m、p、 173〜175℃(ジクロロメタン−n−ヘ
キサン)
N−[5−(4−フルオロフェニル)−4−(4−メチ
ルスルホニルフェニル)チアゾール−2−イル]トリフ
ルオロメタンスルホンアミドm、p、 243〜244
℃(ジクロロメタン−n−ヘキサン)
N−[4−(4−メチルチオフェニル)−5−(4−ニ
トロフェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオロメ
タンスルホンアミド
m、p、 198〜199℃(ジクロロメタン−n−ヘ
キサン)
N−[5−(4−ビフェニリル)−4−フェニルチアゾ
ール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 209〜210℃(エタノール−n−ヘキサ
ン)
N−[5−(4−ビフェニリル)−4−(4−メトキシ
フェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオロメタン
スルホンアミド
m、p、 223〜225℃(酢酸エチル−n−ヘキサ
ン)
N−[5−(4−ブロモフェニル)−5−(4−ニトロ
フェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオロメタン
スルホンアミド
m、p、 252〜254℃(酢酸エチル−n−ヘキサ
ン)
N−[4−(4−フルオロフェニル)−5−(4−ニト
ロフェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオロメタ
ンスルホンアミド
m、p、 207〜208℃(エタノール−n−ヘキサ
ン)
N−[4−(4−クロロフェニル)−5−(4−ニトロ
フェニル)チアゾール−2−イルコトリフルオロメタン
スルホンアミド
m、p、 245〜247℃(エタノール−n−ヘキサ
ン)
N−[5−(4−エチルフェニル)−4−フェニルチア
ゾール−2−イルコトリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 181.5°C〜182.5℃(酢酸エチル
−n−ヘキサン)
N−[5−(2−ニトロフェニル)−4−フェニルチア
ゾール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 140.5〜142℃(エーテル−n−ヘキ
サン)
N−[4,5−ビス(4−クロロフェニル)チアゾール
−2−イルコトリフルオロメタンスルホンアミド
!11.p、 221〜222℃(酢酸エチル−n−ヘ
キサン)
N−[5−(4−エチルフェニル)−4−(4−メトキ
シフェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオロメタ
ンスルホンアミド
fli、p、 192〜194℃(ジクロロメタン−n
−ヘキサン)
N−[4−(4−エチルフェニル)−5−(4−二トロ
フェニル)チアゾール−2−イルコトリフルオロメタン
スルホンアミド
tll、I)、 181〜182℃(ジクロロメタン−
〇−ヘキサン)
N−[4−(4−ビフェニリル)−5−(4−二トロフ
ェニル)チアゾール−2−イル]トリプルオロメタンス
ルホンアミド
m、p、 238〜239℃(クロロホルム)N−[5
−(2,4−ジニトロフェニル)−4−フェニルチアゾ
ール−2−イル]トリフルオロメタンスルホンアミド
m、p、 178〜180℃(ジクロロメタン−n−ヘ
キサン)
N−[5−(4−メチルスルホニルフェニル)−4−フ
ェニルチアゾール−2−イル]トリフルオロメタンスル
ホンアミド
m、p、 235〜237°C(ジクロロメタン−n−
ヘキサン)
実施例3
N−[4−(4−クロロフェニル)−5−(4−ニトロ
フェニル)チアゾール−2−イル]トリフルオロメタン
スルホンアミド0.20 gを含むエタノール5mQ溶
液に、水酸化ナトリウム17蒐を含む水0.45m1l
溶液を加え攪拌した。溶媒を留去することにより、N−
[4−(4−クロロフェニル)−5−(4−ニトロフェ
ニル)チアゾール−2−イルコトリフルオロメタンスル
ホンアミドナトリウム塩0.18 gを得た。N-[4-(4-nitrophenyl)-5-phenylthiazol-2-ylcotrifluoromethanesulfonamide m, p, 220-221°C (dichloromethane-n-hexane) N-[4-(4-methylsulfonyl) phenyl)-5-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 264-266°C (ethyl acetate-n-hexane) N-[4-(2,4-dimethoxyphenyl)-5-phenylthiazole -2-yl] trifluoromethanesulfonamide m, p, 203-205°C (ethanol-n-hexane) N-[5-(4-bromophenyl)-4-(4-methoxyphenyl)thiazol-2-yl Cotrifluoromethanesulfonamide m, p, 196-198°C (decomposition) (dichloromethane-n-hexane) N-[4-(4-methoxyphenyl)-5-(4-nitrophenyl)thiazol-2-ylcotrifluoro Methanesulfonamide m, p, 234-235°C (dichloromethane-n-
hexane) N-[5-(4-nitrophenyl)-4-(4-phenoxyphenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 173-175°C (dichloromethane-n-hexane) N-[ 5-(4-fluorophenyl)-4-(4-methylsulfonylphenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 243-244
°C (dichloromethane-n-hexane) N-[4-(4-methylthiophenyl)-5-(4-nitrophenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 198-199 °C (dichloromethane-n -hexane) N-[5-(4-biphenylyl)-4-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 209-210°C (ethanol-n-hexane) N-[5-(4- biphenylyl)-4-(4-methoxyphenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 223-225°C (ethyl acetate-n-hexane) N-[5-(4-bromophenyl)-5 -(4-nitrophenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 252-254°C (ethyl acetate-n-hexane) N-[4-(4-fluorophenyl)-5-(4- nitrophenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 207-208°C (ethanol-n-hexane) N-[4-(4-chlorophenyl)-5-(4-nitrophenyl)thiazole-2 -ylkotrifluoromethanesulfonamide m, p, 245-247°C (ethanol-n-hexane) N-[5-(4-ethylphenyl)-4-phenylthiazol-2-ylkotrifluoromethanesulfonamide m, p , 181.5°C to 182.5°C (ethyl acetate-n-hexane) N-[5-(2-nitrophenyl)-4-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 140. 5-142°C (ether-n-hexane) N-[4,5-bis(4-chlorophenyl)thiazol-2-ylcotrifluoromethanesulfonamide! 11. p, 221-222°C (ethyl acetate-n-hexane) N-[5-(4-ethylphenyl)-4-(4-methoxyphenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide fli, p, 192- 194°C (dichloromethane-n
-hexane) N-[4-(4-ethylphenyl)-5-(4-nitrophenyl)thiazol-2-ylcotrifluoromethanesulfonamide tll, I), 181-182°C (dichloromethane-
〇-hexane) N-[4-(4-biphenylyl)-5-(4-nitrophenyl)thiazol-2-yl]triple olomethanesulfonamide m, p, 238-239°C (chloroform) N-[5
-(2,4-dinitrophenyl)-4-phenylthiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide m, p, 178-180°C (dichloromethane-n-hexane) N-[5-(4-methylsulfonylphenyl) -4-phenylthiazol-2-yl] trifluoromethanesulfonamide m, p, 235-237°C (dichloromethane-n-
Example 3 To a 5 mQ solution of ethanol containing 0.20 g of N-[4-(4-chlorophenyl)-5-(4-nitrophenyl)thiazol-2-yl]trifluoromethanesulfonamide, 17 m of sodium hydroxide was added. 0.45ml of water containing
The solution was added and stirred. By distilling off the solvent, N-
[0.18 g of 4-(4-chlorophenyl)-5-(4-nitrophenyl)thiazol-2-ylcotrifluoromethanesulfonamide sodium salt was obtained.
m、p、 121〜135°C 実施例3と同様にして、下記の化合物を得た。m, p, 121-135°C In the same manner as in Example 3, the following compound was obtained.
N−[4−(4−ブロモフェニル)−5−(4−二トロ
フェニル)チアゾール−2−イルコトリフルオロメタン
スルホンアミドナトリウム塩。N-[4-(4-bromophenyl)-5-(4-nitrophenyl)thiazol-2-ylcotrifluoromethanesulfonamide sodium salt.
m、p、 143〜155℃m, p, 143-155℃
Claims (1)
ル基であり、R^2、R^3、R^4およびR^5はそ
れぞれ同一または異っていてもよく水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキル基、ハロゲン原子で置換された低級
アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、
低級アルキルスルホニル基、ニトロ基、フェニル基また
はフェノキシ基である。)で表わされる2−スルホンア
ミド−4,5−ジフェニルチアゾール誘導体およびその
製薬学的に許容される塩。(1) Formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^1 is a lower alkyl group substituted with a halogen atom, and R^2, R^3, R^4 and R^5 are Hydrogen atoms, halogen atoms, lower alkyl groups, lower alkyl groups substituted with halogen atoms, lower alkoxy groups, lower alkylthio groups, which may be the same or different, respectively;
It is a lower alkylsulfonyl group, nitro group, phenyl group or phenoxy group. ) and a pharmaceutically acceptable salt thereof.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2302853A JPH04173782A (en) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | 2-sulfonamido-4,5-diphenylthiazole derivative |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2302853A JPH04173782A (en) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | 2-sulfonamido-4,5-diphenylthiazole derivative |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04173782A true JPH04173782A (en) | 1992-06-22 |
Family
ID=17913887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2302853A Pending JPH04173782A (en) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | 2-sulfonamido-4,5-diphenylthiazole derivative |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04173782A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5449783A (en) * | 1991-03-07 | 1995-09-12 | Hisamitsu Pharmaceutical Co., Inc. | Diphenylthiazole derivative |
| EP0790057A4 (en) * | 1994-11-29 | 1998-10-21 | Hisamitsu Pharmaceutical Co | Antibacterial or bactericide comprising 2-aminothiazole derivative and salts thereof |
| EP1125932A3 (en) * | 1994-07-27 | 2001-08-29 | G.D. Searle & Co. | Substituted thiazoles for the treatment of inflammation |
| EP1423113A4 (en) * | 2001-08-13 | 2007-04-18 | Phenex Pharmaceuticals Ag | Nr1h4 nuclear receptor binding compounds |
-
1990
- 1990-11-08 JP JP2302853A patent/JPH04173782A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5449783A (en) * | 1991-03-07 | 1995-09-12 | Hisamitsu Pharmaceutical Co., Inc. | Diphenylthiazole derivative |
| EP1125932A3 (en) * | 1994-07-27 | 2001-08-29 | G.D. Searle & Co. | Substituted thiazoles for the treatment of inflammation |
| EP0790057A4 (en) * | 1994-11-29 | 1998-10-21 | Hisamitsu Pharmaceutical Co | Antibacterial or bactericide comprising 2-aminothiazole derivative and salts thereof |
| EP1423113A4 (en) * | 2001-08-13 | 2007-04-18 | Phenex Pharmaceuticals Ag | Nr1h4 nuclear receptor binding compounds |
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