JPH04175645A - X線回折ゴニオメータおよびx線回折方法 - Google Patents

X線回折ゴニオメータおよびx線回折方法

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JPH04175645A
JPH04175645A JP2301029A JP30102990A JPH04175645A JP H04175645 A JPH04175645 A JP H04175645A JP 2301029 A JP2301029 A JP 2301029A JP 30102990 A JP30102990 A JP 30102990A JP H04175645 A JPH04175645 A JP H04175645A
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JP
Japan
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rotation
arm
rotating shaft
shaft
fine
Prior art date
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Pending
Application number
JP2301029A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuo Kikuchi
哲夫 菊池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
Original Assignee
Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
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Publication date
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Publication of JPH04175645A publication Critical patent/JPH04175645A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野] この発明は、試料とX線検出器の回転角度を高精度に制
御するX線回折ゴニオメータに関する。
[従来の技術] 半導体集積回路等に使用するシリコン、GaAs、その
他の半導体には完全度の極めて高い単結晶を必要とする
。したがって、このような単結晶の研究開発あるいは検
査等には高精度のX線回折ゴニオメータを必要とする。
このようなX線回折ゴニオメータは、試料の回転に関し
て、180度に及ぶ大きい角度範囲にわたって、例えば
十分の1度ステップの角度刻みで粗回転ができるように
すると共に、その任意の角度位置で、例えば百分の1秒
ステップの角度刻みで微回転ができるようにすることが
要望される。このような、試料の粗回転と微回転とが可
能なX線回折ゴニオメータは、特開昭64−86045
号に開示されている(この文献に開示されているX線回
折ゴニオメータを以下「従来のゴニオメータ」という)
。
上述の従来のゴニオメータは、試料台を粗回転軸に取り
付け、この粗回転軸を微回転軸上のモータによって駆動
するようにしたもので、微回転軸はサインバーまたはタ
ンジェントバーを利用して微回転ができるようになって
いる。
[発明が解決しようとする課題〕 従来のゴニオメータは、試料については粗回転と微回転
ができるが、X線検出器については粗回転だけができる
ようになっていて微回転はできなかった。試料の回折ピ
ークのロツキンクカーブを精密に測定するには、従来の
ゴニオメータを利用すれば十分であるが、次のような精
密測定をするには従来のゴニオメータでは不可能であっ
た。例えば、超格子の結晶構造を評価する場合や結晶の
歪みを評価する場合などに、逆格子空間において、目的
の格子面の逆格子ベクトルの近傍で、回折強度マツプを
測定することが行われる。この回折強度マツプは、逆格
子空間上で、試事4の回転角ωの微小角度変化ΔωとX
線検出器の回転角2θの微小角度変化Δ2θとについて
、両者の数値の組み合わせを網羅するような形で、回折
強度分布を求めるものである。このような測定をするに
は、2θの角度についても微小回転ができるような構造
のゴニオメータが必要になる。
この発明の目的は、試料とX線検出器の両方について粗
回転と微回転とが可能なX線回折ゴニオメータを提供す
ることにある。
[課題を解決するための手段] 第1の発明のX線回折ゴニオメータは次の構成を備えて
いる。
(a)試料台を搭載する第1回転軸。
(b)第1回転軸と同軸的に配置されて第1回転軸に対
して相対回転可能な第2回転軸。
(C)第2回転軸に固定されて第2回転軸の回転軸線に
垂直に延びた第1の腕。
(d)第1の腕の先端を移動させる第1の微回転駆動機
構。
(e)第1の腕に固定された第1の粗回転駆動モ〜り。
(1’)第1の粗回転駆動モータの回転を第1回転軸に
伝達する伝動機構。
(g)第1回転軸と同軸的に配置されてX線検出器を搭
載する第3回転軸。
(h)第3回転軸と同軸的に配置されて第3回転軸に対
して相対回転可能な第4回転軸。
(1)第4回転軸に固定されて第4回転軸の回転軸線に
垂直に延びた第2の腕。
(j)第2の腕の先端を移動させる第2の微回転駆動機
構。
(k)第2の腕に固定された第2の粗回転駆動モータ。
(m)第2の粗回転駆動モータの回転を第3回転軸に伝
達する伝動機構。
第2の発明のX線回折方法は、」−述の第1の発明のX
線回折ゴニオメータを利用する方法であって、試料台の
微回転とX線検出器の微回転とを任意の関係で組み合わ
せて単結晶試料の結晶構造を評価することを特徴として
いる。
[作用] 試料台は第1回転軸と第2回転軸とによって回転駆動さ
れる。第2回転軸はその腕の先端の第1の微回転駆動機
構によって微回転でき、第1回転軸は第2回転軸に対し
て相対的に粗回転できる。
したがって、試料台を粗回転するときは、第1の微回転
駆動機構を停止して(すなわち、第2回転軸を静止して
おいて)、第2回転軸に搭載した第1の粗回転駆動モー
タによって第1回転軸を粗回転させる。試料台を微回転
するときは、第1回転軸を所望の角度位置に静止した状
態で、第1の微回転駆動機構を動作して第2回転軸を微
回転させる。第1回転軸は第2回転軸に対して相対的に
静止しているので、第1回転軸に取り付けた試料台は第
2回転軸の微回転に伴って微回転する。
一方、X線検出器についても試料台と同様の動作ができ
る。すなわち、X線検出器は第3回転軸と第4回転軸と
によって回転駆動される。第4回転軸はその腕の先端の
第2の微回転駆動機構によって微回転でき、第3回転軸
は第4回転軸に対して相対的に粗回転できる。したがっ
て、X線検出器を粗回転するときは、第2の微回転駆動
機構を停止して(すなわち、第4回転軸を静止しておい
て)、第4回転軸に搭載した第2の粗回転駆動モータに
よって第3回転軸を粗回転させる。X線検出器を微回転
するときは、第3回転軸を所望の角度位置に静止した状
態で、第2の微回転駆動機構を動作して第4回転軸を微
回転させる。第3回転軸は第4回転軸に対して相対的に
静止しているので、第3回転軸に取り付けたX線検出器
は第4回転輪の微回転に伴って微回転する。
この発明では、微回転軸に粗回転軸を搭載することによ
って微回転と粗回転を可能にしているが、原理的には粗
回転軸に微回転軸を搭載しても微回転と粗回転は可能に
なる。しかし、後者のようにすると次のような不都合が
生じる。粗回転軸に微回転軸を搭載すると、粗回転軸は
例えば180度の広い角度範囲にわたって回転するので
、これに搭載した微回転軸も広い角度範囲にわたって移
動することになる。この微回転軸にはサインバーやタン
ジェントバーなどの腕が固定されているので、その長い
腕が広い角度範囲にわたって回転することになる。その
ためには、広いスペースを確保する必要が生じ、ゴニオ
メータの設計上、現実性に欠ける。したがって、この発
明では、試料台およびX線検出器について、微回転軸に
粗回転軸を搭載するような構成を採用している。
試料台とX線検出器を粗回転する場合は、試料台の回転
角ωとX線検出器の回転角2θとが1対2の角度比とな
るように回転するのが一般的である。これに対して、試
料台とX線検出器を微回転する場合は、さまざまな方法
が考えられる。例えば、(1)試料台の回転角ωを特定
の値に固定しておいてX線検出器の回転角2θを特定の
値の近傍で微小角度△θのステップずつ変化させて回折
強度を測定し、次にωを微小角度Δωだけ変化させてか
ら同様の作業を行い、これを繰り返す。あるいは、(2
)2θを特定の値に固定しておいてωを特定の値の近傍
で微小角度Δωのステップずつ変化させて回折強度を測
定し、次に2θを微小角度Δ2θだけ変化させてから同
様の作業を行い、これを繰り返す。などの方法が考えら
れる。このように、試料台とX線検出器の微回転の組み
合わせを任意に変化させることによって、目的とする結
晶格子面の近傍での回折強度マツプを自由に作成するこ
とができる。
[実施例] 第1図はこの発明の一実施例の正面断面図である。この
X線回折ゴニオメータは四つの回転軸を備えている。試
料14を取り付ける試料台13は第1回転軸12の」二
端に固定され、この第1回転軸と同軸的に第2回転軸1
1、第3回転軸29、第4回転軸3が配置されている。
第3回転軸29には2θ目盛板4が取り付けられ、これ
に取付腕6が固定される。取付腕6にはX線検出器5が
固定される。
まず、試料台13の回転すなわちω回転に関する機構を
説明する。
第2回転軸11は軸受10によって基台1に保持されて
いる。この第2回転軸11には軸に垂直に、十分に長い
第1の腕15が固定されていて、この腕15の先端には
後述の第1の微回転駆動機構31が設けられている。す
なわち、第1の腕15は基台1に対して微回転でき、こ
れにより第2回転軸11も基台1に対して微回転できる
。
第1の腕15の下面には第1の粗回転駆動モータ23が
固定され、このモータ23により第1回転軸12が粗回
転される。すなわち、モータ23の出力軸にはウオーム
24が固定され、一方、第1回転軸12の下端には歯車
25が固定されていて、モータ23の回転はウオーム2
4と歯車25を介して第1回転軸12に伝達される。ウ
オーム24と歯車25は、この発明における第1伝動機
構を構成する。
第1回転軸12の回転角度はカップリング26を介して
エンコーダ27で検出される。
第2図は第1図のA−A線断面図であり、第1の腕15
の先端に作用する第1の微回転駆動機構31を示してい
る。第1の腕15の先端の一方の側には、コイルばね1
6の圧力を受けたピン17が接触しており、他方の側に
は調整棒18が接触している。調整棒18は歯車19の
回転によって矢印aの方向に進退するようになっている
。調整棒18と歯車19とを支持する支持筒2oは基台
1に固定されている。基台1にはモータ21が固定され
、このモータ21の出力軸にウオーム22が固定されて
いる。モータ21の回転はウオーム22と歯車19を介
して調整棒18に伝わり、この調整棒18を進退させて
いる。したがって、モータ21の回転により第1の腕1
5の先端が微小距離だけ移動し、その結果、第1図の第
2回転軸11が微回転するようになっている。
第1の腕15は、いわゆるサインバーを構成し、腕の先
端の微小移動を軸の微小回転に変換している。この実施
例では、第1の腕15の先端の調整棒18が作用する点
から、第2回転軸1]の中心までの距離は206.4m
mである。歯車19の1回転によって調整棒18は50
0μmだけ移動する。したがって、歯車19の1回転に
よって第2回転軸11は500秒の角度たけ回転する。
すなわち、調整棒18が1μm移動すると第2回転軸1
1が1秒だけ回転するようになっている。−方、モータ
21の回転はウオーム22によって250分の1に減速
されて歯車19に伝わる。したがって、モータ21の1
回転により第2回転軸11は2秒だけ回転する。さらに
、モータ21はパルスモータであり、500パルスで1
回転するので、モータ21の1パルス当たり、第2回転
軸11は0.004秒だけ回転する。試料台の通常の粗
回転では最小制御単位は十分の1度すなわち3゜6抄枠
度であるので、この実施例では、微回転ノ精度は粗回転
の精度の900倍になる。
次Cご、X線検出器5の回転すなわち2θ回転に関する
機構を説明する。
第1図において、第4回転軸3は軸受2によって基台1
に保持されている。この第4回転軸3には軸に垂直に、
十分に長い第2の腕3θが固定されていて、この腕30
の先端には後述の第2の微回転駆動機構32が設けられ
ている。すなわち、第2の腕30は基台1に対して微回
転でき、これにより第4回転軸3も基台1に対して微回
転できる。
第2の腕30の上面には第2の粗回転駆動モータ8が固
定され、このモータ8により第3回転軸29が粗回転さ
れる。すなわち、モータ8の出力軸にはウオーム9が固
定され、一方、第3回転軸29の外周には歯車7が固定
されていて、モータ8の回転はウオーム9と歯車7を介
して第3回転軸29に伝達される。ウオーム9と歯車7
は、この発明における第2伝動機構を構成する。
第2の腕30の先端には第2の微回転駆動機構32が設
けられている。この第2の微回転駆動機構32は、第2
図に示す第1の微回転駆動機構31と同じ構成なので、
その図示および説明は省略する。
第3図は第1図のゴニオメータの概略平面図である。所
定の波長の入射X線pを試料14に入射すると、その回
折X線qがX線検出器5で検出される。基台1は特定の
方向(第3図では右方向)にたけ突き出していて、この
突き出した部分の内部には第1図の第1の腕15が収納
され、突き出した部分の上方には第1図の第2の腕30
が配置されている(第3図では第2の腕30および第2
の微回転駆動機構の図示は省略しである)。
次に、このX線回折ゴニオメータの使用方法を説明する
。粉末試料などの通常の回折パターンを測定する場合に
は、第1の微回転駆動機構31と第2の微回転駆動機構
32を停止しておいて、第1の粗回転駆動モータ23と
第2の粗回転駆動モータ8を利用して、第1回転軸12
と第3回転輪2つを1対2の角速度比で回転する。この
使用方法は通常のゴニオメータと同様である。
単結晶試料について特定の結晶格子面の回折ピークを精
密に測定するには次のようにする。単に回折ピークのロ
ッキングカーブを精密に測定するだけならば、目的の角
度位置に試料とX線検出器をもってきてから、受光スリ
ットを広くあけておいてX線検出器を固定しておき、第
1の微回転駆動機構31を動作させて第2回転軸11を
微回転させながら回折強度を測定する。
また、このゴニオメータでは、試料の微回転とX線検出
器の微回転とを組み合わせて、特定の結晶格子面につい
て逆格子空間」二での回折強度マツプを求めることがで
きる。このような測定が必要な例としては、半導体超格
子で観察されるブラッグ反射や衛星反射の位置を逆格子
空間内で精密に決定するとか、反射を起こす領域の空間
的な広がりをfllJ定することにより超格子の構造パ
ラメータの決定や完全性の評価を行う場合などがある。
このような場合は、試料結晶の前に第1の結晶を配置し
、かっ、取付腕6上に配置したアナライザ結晶(モノク
ロメータ結晶)の選択反射を利用する、いわゆる三結晶
回折法を用いる。アナライザ結晶として良質の結晶を用
いれば、その選択反射幅を数秒から数十秒に調整でき(
この際、選択反射幅はΔ2θとして働く)、高分解能が
達成される。
このように良質のアナライザ結晶を用いた測定では、当
然Δ2θに見合った高精度の2o回転が必要とされ、こ
のことはこの発明によって実現することができる。
[発明の効果〕 この発明のX線回折ゴニオメータでは、試料台の粗回転
と微回転およびX線検出器の粗回転と微回転とを可能に
したので、通常のθ−20走査による回折測定以外にも
、特殊な高精度測定が可能となった。特に単結晶試料の
評価に当たっては、試料の微回転とX線検出器の微回転
とを組み合わせることにより特殊な回折強度マツプを求
めることができるなどの利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例の正面断面図、第2図は第
1図のA−A線断面図、 第3図は第1図のゴニオメータの概略平面図である。 3・・・第4回転軸 5・・・X線検出器 8・・・第2の粗回転駆動モータ 7.9・・・第2伝動機構 11・・・第2回転軸 12・・・第1回転軸 13・・・試料台 15・・・第1の腕 23・・・第、1の粗回転駆動モータ 24.25・・・第1伝動機構 29・・・第3回転軸 30・・・第2の腕 31・・・第1の微回転駆動機構 32・・・第2の微回転駆動機構

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)次の構成を備えるX線回折ゴニオメータ。 (a)試料台を搭載する第1回転軸。 (b)第1回転軸と同軸的に配置されて第1回転軸に対
    して相対回転可能な第2回転軸。(c)第2回転軸に固
    定されて第2回転軸の回転軸線に垂直に延びた第1の腕
    。 (d)第1の腕の先端を移動させる第1の微回転駆動機
    構。 (e)第1の腕に固定された第1の粗回転駆動モータ。 (f)第1の粗回転駆動モータの回転を第1回転軸に伝
    達する第1伝動機構。 (g)第1回転軸と同軸的に配置されてX線検出器を搭
    載する第3回転軸。 (h)第3回転軸と同軸的に配置されて第3回転軸に対
    して相対回転可能な第4回転軸。(i)第4回転軸に固
    定されて第4回転軸の回転軸線に垂直に延びた第2の腕
    。 (j)第2の腕の先端を移動させる第2の微回転駆動機
    構。 (k)第2の腕に固定された第2の粗回転駆動モータ。 (m)第2の粗回転駆動モータの回転を第3回転軸に伝
    達する第2伝動機構。
  2. (2)請求項1記載のX線回折ゴニオメータを利用して
    、試料台の微回転とX線検出器の微回転とを任意の関係
    で組み合わせて単結晶試料の結晶構造を評価するX線回
    折方法。
JP2301029A 1990-11-08 1990-11-08 X線回折ゴニオメータおよびx線回折方法 Pending JPH04175645A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1114561A (ja) * 1997-04-30 1999-01-22 Rigaku Corp X線測定装置およびその方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1114561A (ja) * 1997-04-30 1999-01-22 Rigaku Corp X線測定装置およびその方法

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