JPH04176665A - Manufacture of ion generating device for electrostatic recording - Google Patents

Manufacture of ion generating device for electrostatic recording

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JPH04176665A
JPH04176665A JP30517690A JP30517690A JPH04176665A JP H04176665 A JPH04176665 A JP H04176665A JP 30517690 A JP30517690 A JP 30517690A JP 30517690 A JP30517690 A JP 30517690A JP H04176665 A JPH04176665 A JP H04176665A
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JP
Japan
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electrode
adhesive
electrodes
opening
dielectric layer
Prior art date
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Application number
JP30517690A
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Japanese (ja)
Inventor
Naohito Shiga
直仁 志賀
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To form a highly durable, high-definition image by forming a specified pattern of metal foil on an insulating substrate through an adhesive layer and squeezing the metal foil, thermally pressed, into the adhesive layer to form the first electrodes. CONSTITUTION:A specified pattern of copper foil is bonded to an insulating substrate 11 through an epoxy adhesive layer 12, then the adhesive is cured and the copper foil is selectively etched to form the first electrodes 13. After that, the entire surfaces of the first electrodes 13 are pressed using a chromium-plated flat metal plate heated, for example, at 160 deg.C. In addition, a dielectric paste is applied to the surface of the first electrode 13 and then is dried, cured to form a dielectric layer 15. Further, the second electrode 16 to which an adhesive is applied is matched to the position of the first electrode 14, then both layers are tightened under pressure to become fixed with the dielectric layer 15. Following this procedure, an opening corresponding to the opening of the second electrode 16 is provided on the second electrode 16 and further, the third stainless steel electrode is positioned over the opening so that the opening corresponds to the opening of a photosensitive insulating resin film. Then the third stainless steel electrode is bonded using a silicon adhesive. Thus it is possible to generate ions stably over a long period of time.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、静電記録用イオン発生装置の製造方法に係り
、特に静電式の印刷や複写に利用されるイオンフロー静
電記録用イオン発生装置の製造方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing an ion generator for electrostatic recording, and in particular to a method for producing an ion generator for electrostatic recording, and in particular, an ion generator for ion flow electrostatic recording used in electrostatic printing and copying. The present invention relates to a method of manufacturing a generator.

[従来の技術] 静電印刷等において、高電流密度のイオンを発生させ、
これを抽出して選択的に被帯電部材に付与し、画像状に
帯電させる方法か知られており、そのための装置が例え
ば特開昭57−501348号に開示されている。この
方法に用いられるイオン発生装置は、誘電体層の一方の
面に一方向に伸びる複数の第1の電極を固着し、誘電体
層の他方の面に第1の電極とは交差する方向に伸びる複
数の第2の電極を固着してなり、第1の電極と第2の電
極とでマトリックスを構成するものである。
[Conventional technology] In electrostatic printing, etc., ions are generated at a high current density,
A method is known in which this is extracted and selectively applied to a member to be charged to imagewise charge it, and an apparatus for this purpose is disclosed, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. 57-501348. The ion generator used in this method has a plurality of first electrodes fixedly extending in one direction on one surface of the dielectric layer, and a plurality of first electrodes extending in one direction on the other surface of the dielectric layer, and a plurality of first electrodes extending in one direction on the other surface of the dielectric layer. It is made by fixing a plurality of extending second electrodes, and the first electrode and the second electrode constitute a matrix.

このマトリックスの選択された部分に対応する第1の電
極と第2の電極との間に交互に高電圧を印加すると、そ
の部分に対応する第2の電極の近傍に正負のイオンか発
生する。この発生したイオンを第3の電極により選択的
に抽出し、被帯電部材に付与することにより、被帯電部
材を帯電させることが出来る。従って、マトリックス構
造の電極を選択的に駆動することにより、ドツトによる
静電記録を行うことか出来る。
When a high voltage is applied alternately between the first electrode and the second electrode corresponding to a selected portion of the matrix, positive and negative ions are generated near the second electrode corresponding to the selected portion. The generated ions are selectively extracted by the third electrode and applied to the member to be charged, thereby making it possible to charge the member to be charged. Therefore, electrostatic recording using dots can be performed by selectively driving the electrodes in the matrix structure.

ここで使用される第1の電極は、通常はポリイミド等の
絶縁基板上に接着剤を用いてラミネートされた約9μm
の厚さの銅箔を、エツチングによりパターニングするこ
とにより得られる。また、第2の電極は、通常は約9μ
mの厚さのステンレス箔やニッケル箔をエツチングによ
りパターニングすることにより得られる。
The first electrode used here is usually about 9 μm thick and laminated with adhesive on an insulating substrate such as polyimide.
It is obtained by patterning a copper foil with a thickness of . Also, the second electrode is typically about 9μ
It is obtained by patterning stainless steel foil or nickel foil with a thickness of m by etching.

一方、これら銅箔、ステンレス箔、ニッケル箔を用いず
に蒸着により第1及び第2の電極を形成する方法が、特
開昭61−185879号に開示されている。
On the other hand, a method of forming the first and second electrodes by vapor deposition without using these copper foils, stainless steel foils, and nickel foils is disclosed in JP-A-61-185879.

次に、第1の電極上に、酸化チタンの粉末をフィラーと
して充填したシリコーン変性ポリエステルアルキド樹脂
からなる誘電体ペーストを、スクリーン印刷等により塗
布し、乾燥硬化させて誘電体層を形成した後、紫外線硬
化型接着剤により第2の電極を張り付ける。
Next, a dielectric paste made of a silicone-modified polyester alkyd resin filled with titanium oxide powder as a filler is applied onto the first electrode by screen printing or the like, and is dried and hardened to form a dielectric layer. A second electrode is attached using an ultraviolet curable adhesive.

[発明か解決しようとする課題] しかし、以上の方法では、第1の電極上に誘電体ペース
トを塗布すると、ペーストは、第1の電極のパターン間
の溝にも入り込むので、誘電体層の表面は、溝に対応し
たなだらかな谷が形成される。この谷の深さは溝の深さ
の約半分にも達する。
[Problem to be solved by the invention] However, in the above method, when the dielectric paste is applied on the first electrode, the paste also enters the grooves between the patterns of the first electrode, so that the dielectric layer is On the surface, gentle valleys corresponding to the grooves are formed. The depth of this valley is about half the depth of the trench.

誘電体層の形成後、接着剤を介して第2の電極を張り付
けるが、谷の存在のため、充分な接着面積が確保出来ず
、その結果、時間の経過により第2の電極が誘電体層か
ら剥離してしまい、イオンの発生が妨げられるという現
象が生じ易い。谷に深さが2μmを越える場合、例えば
2.1μmの場合、接着剤層の厚さを2μm以上とすれ
ば、接着剤層の表面を平坦化することか出来るが、そう
した場合、第1及び第2の電極間でのイオンの発生が極
端に悪くなる。従って、接着剤層の厚さは2μm以下に
制限されている。
After forming the dielectric layer, a second electrode is attached using an adhesive, but due to the presence of valleys, it is not possible to secure a sufficient bonding area, and as a result, over time, the second electrode becomes attached to the dielectric layer. It is easy to peel off from the layer and prevent the generation of ions. If the depth of the valley exceeds 2 μm, for example, 2.1 μm, the surface of the adhesive layer can be flattened by making the thickness of the adhesive layer 2 μm or more. Ion generation between the second electrodes becomes extremely poor. Therefore, the thickness of the adhesive layer is limited to 2 μm or less.

特開昭61−185879号に開示された方法では、第
1及び第2の電極を蒸着により形成しており、これによ
れば上述の問題点は解決するように思われる。しかし、
通常のイオン発生装置では、第1及び第2の電極の間に
1000〜3000Vもの高電圧を印加してイオンを発
生させている。
In the method disclosed in JP-A-61-185879, the first and second electrodes are formed by vapor deposition, which seems to solve the above-mentioned problems. but,
In a normal ion generator, ions are generated by applying a high voltage of 1000 to 3000 V between the first and second electrodes.

蒸着により形成された電圧は、ピンホール等の欠陥が数
多く存在するため、そのような高電圧では長期耐久性が
ない。また、小型化を目的としてフレキシブルな絶縁基
板を用いるような場合、蒸着で1μm以上の層を形成す
ると、蒸着時の残留応力により絶縁基板が蒸着膜側に大
きく沿ってしまい、これを強制的に平坦化しようとする
と、経時的な蒸着膜の破壊につながってしまう。
Voltages formed by vapor deposition have many defects such as pinholes, so such high voltages do not have long-term durability. In addition, when using a flexible insulating substrate for the purpose of miniaturization, if a layer of 1 μm or more is formed by vapor deposition, the insulating substrate will largely follow the vapor-deposited film side due to residual stress during vapor deposition, and this will be forced. Attempts to planarize the layer will lead to destruction of the deposited film over time.

本発明は、このような課題を解決するためになされ、電
極表面の均一な平坦性を確保するとともに、ピンホール
等の欠陥や蒸着時の残留応力を防止し、耐久力のある高
精細な画像形成を可能とする静電記録用イオン発生装置
の製造方法を提供することを目的とする。
The present invention was made to solve these problems, and it ensures uniform flatness of the electrode surface, prevents defects such as pinholes, and residual stress during vapor deposition, and produces durable, high-definition images. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an ion generator for electrostatic recording.

[課題を解決するための手段] 本発明は、絶縁性基板上に一方向にかつ平行に延設され
た複数の第1の電極と、この第1の電極に一方の面が固
着された誘電体層と、この誘電体層の他方の面に固着さ
れ第1の電極と交差する方向に延設された複数の第2の
電極とを具備する誘電記録用イオン発生装置の製造方法
において、前記第1の電極は、前記絶縁性基板上に接着
剤層を介して所定のパターンの金属箔を形成し、次いで
この金属箔を熱プレスして前記接着剤層中に押し込むこ
とにより形成されることを特徴とする静電記録用イオン
発生装置の製造方法を提供する。
[Means for Solving the Problem] The present invention includes a plurality of first electrodes extending in one direction and parallel to each other on an insulating substrate, and a dielectric electrode having one surface fixed to the first electrode. In the method of manufacturing an ion generator for dielectric recording, the ion generator comprises a body layer and a plurality of second electrodes fixed to the other surface of the dielectric layer and extending in a direction intersecting the first electrode. The first electrode is formed by forming a metal foil in a predetermined pattern on the insulating substrate via an adhesive layer, and then pressing the metal foil into the adhesive layer by hot pressing. A method for manufacturing an ion generator for electrostatic recording is provided.

本発明の方法では、金属箔の厚さは、4〜18μmであ
るのが好ましい。金属箔としては、例えば銅箔、ステン
レス箔、ニッケル箔を用いることが出来る。
In the method of the invention, the thickness of the metal foil is preferably 4 to 18 μm. As the metal foil, for example, copper foil, stainless steel foil, or nickel foil can be used.

金属箔は、絶縁性基板上に接着剤層を介して張り付けた
後バターニングしてもよいが、既にパターニングしたも
のをシト張り付けてもよい。この場合、シート状接着剤
を用いることが好ましいが。
The metal foil may be pasted onto the insulating substrate via an adhesive layer and then patterned, or a metal foil that has already been patterned may be pasted. In this case, it is preferable to use a sheet adhesive.

接着剤を均一の厚さに絶縁基板上に塗布することも可能
である。
It is also possible to apply the adhesive to a uniform thickness on the insulating substrate.

接着剤としては、エポキシ系、アクリル等、種々のもの
を用いることが出来る。
Various adhesives such as epoxy and acrylic can be used as the adhesive.

所定のパターンの金属箔は、パターン間の溝の深さが2
μm以下となるように接着剤層中に押し込むことが好ま
しい。このパターン間の溝の深さは、熱プレス条件を制
御することにより行なうことが出来る。
The metal foil with a predetermined pattern has a groove depth of 2 between the patterns.
It is preferable to press it into the adhesive layer so that the thickness is .mu.m or less. The depth of the grooves between the patterns can be determined by controlling the hot press conditions.

[作用] 本発明の方法では、所定のパターンの金属箔が接着剤層
中に押し込まれる。そのため、パターン間の溝の深さを
2μm以下にすることが可能であり、その結果、金属箔
上に形成される誘電体層の表面に形成される四部の深さ
は1μm以下となる。
[Operation] In the method of the present invention, a predetermined pattern of metal foil is forced into the adhesive layer. Therefore, it is possible to make the depth of the groove between the patterns 2 μm or less, and as a result, the depth of the four parts formed on the surface of the dielectric layer formed on the metal foil is 1 μm or less.

この程度の深さの凹部は、その上に形成される接着剤に
より容易に埋めることが出来、それによって充分な接着
面積を確保することか可能となり、ひいてはイオン発生
装置の耐久性を大幅に向上させることが出来る。
A recess of this depth can be easily filled with the adhesive formed on it, making it possible to secure a sufficient adhesive area, which in turn greatly improves the durability of the ion generator. I can do it.

また、電極は、金属箔により形成しているため、ピンホ
ール等の欠陥は存在せず、高電圧下においても充分な耐
久性を有する。更に、蒸着法により1μm以上の膜厚を
堆積すると、残留応力の影響によりフレキシブルな絶縁
基板に反りか発生するが、本発明の方法では金属箔を採
用しているため、このような問題は何ら発生せず、経時
的は耐久性も確保出来る。
Further, since the electrodes are formed of metal foil, there are no defects such as pinholes, and they have sufficient durability even under high voltage. Furthermore, if a film with a thickness of 1 μm or more is deposited by vapor deposition, the flexible insulating substrate will warp due to the influence of residual stress, but since the method of the present invention uses metal foil, such problems do not occur. This does not occur and durability can be ensured over time.

[実施例] 以下、図面を参照して、本発明の具体的実施例につき、
説明する。
[Examples] Hereinafter, with reference to the drawings, specific examples of the present invention will be described.
explain.

第1図は、本発明の方法により製造されたイオン発生装
置の断面を模式的に示す図、第2図はその斜視図を模式
的に示す図である。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a cross section of an ion generator manufactured by the method of the present invention, and FIG. 2 is a diagram schematically showing a perspective view thereof.

第1図において、絶縁性基板1上に形成された複数の第
1の電極2か、紙面に垂直な方向に平行に伸びており、
この第1の電極2と異なる方向に、複数の第2の電極4
が伸びている。これら第1及び第2の電極の間に誘電体
層3が挟まれている。
In FIG. 1, a plurality of first electrodes 2 formed on an insulating substrate 1 extend parallel to a direction perpendicular to the plane of the paper,
A plurality of second electrodes 4 are arranged in a direction different from this first electrode 2.
is growing. A dielectric layer 3 is sandwiched between these first and second electrodes.

第2の電極4は、第1の電極2に対応した位置、即ち交
差領域に開口を有している。第2の電極4の第1の電極
2の反対側には第3の電極6が配置され、この第3の電
極6は第2の電極4の開口と対応した開口を有している
。第2の電極4と第3の電極6との間には絶縁体層5が
挟まれており、この絶縁体層5は第2の電極4と第3の
電極6の開口に対応した開17を有している。
The second electrode 4 has an opening at a position corresponding to the first electrode 2, that is, at a crossing region. A third electrode 6 is arranged on the opposite side of the second electrode 4 from the first electrode 2, and this third electrode 6 has an opening corresponding to the opening of the second electrode 4. An insulator layer 5 is sandwiched between the second electrode 4 and the third electrode 6, and this insulator layer 5 has an opening 17 corresponding to the opening of the second electrode 4 and the third electrode 6. have.

以上のように構成されたイオン発生装置において、複数
の第1の電極2と第2の電極4との間に選択的に電圧を
印加することにより、選択された部分に対応する第2の
電極4の開口内近傍に正・負のイオンが発生する。第2
の電極4と第3の電極6との間にはバイアス電圧が印加
され、その極性により決定されるイオンのみが発生した
イオン中から抽出される。この抽出されたイオンは絶縁
体層5と第3の電極6の開口を通過し、第3の電極6に
対向して配置されている被帯電部材(図示せず)を選択
的に帯電させる。このようにして、複数の第1の電極2
と第2の電極4の選択的駆動により、被帯電部材上にド
ツト潜像が形成される。
In the ion generator configured as described above, by selectively applying a voltage between the plurality of first electrodes 2 and the second electrodes 4, the second electrode corresponding to the selected portion is Positive and negative ions are generated near the opening of No. 4. Second
A bias voltage is applied between the electrode 4 and the third electrode 6, and only ions determined by the polarity are extracted from the generated ions. The extracted ions pass through the insulator layer 5 and the opening of the third electrode 6, and selectively charge a member to be charged (not shown) disposed opposite the third electrode 6. In this way, the plurality of first electrodes 2
By selectively driving the second electrode 4, a dot latent image is formed on the charged member.

即ち、このイオン発生装置は、静電記録ヘッドとして作
用する。
That is, this ion generator functions as an electrostatic recording head.

以下、以上説明したイオン発生装置を具体的に製造する
実施例について、第3及び4図を参照して説明する。
Hereinafter, an example of specifically manufacturing the ion generator described above will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

実施例1 第3図に示すように、厚さ125μmのポリイミドフィ
ルムからなる絶縁基板11上に厚さ18μmの銅箔13
を、20μmの厚さのエポキシ系接着剤層12を介して
貼り合わせた。接着剤層12を硬化させた後、通常のフ
ォトリソグラフィーにより銅箔を選択的にエツチングし
、所定のパターンの複数の第1の電極13を形成した。
Example 1 As shown in FIG. 3, a copper foil 13 with a thickness of 18 μm is placed on an insulating substrate 11 made of a polyimide film with a thickness of 125 μm.
were bonded together via an epoxy adhesive layer 12 with a thickness of 20 μm. After the adhesive layer 12 was cured, the copper foil was selectively etched by ordinary photolithography to form a plurality of first electrodes 13 in a predetermined pattern.

その後、第1の電極13全面を、接着剤層12のガラス
転移点付近の温度、例えば160℃に加熱された、クロ
ムメツキを施した金属平板により加圧した。加圧条件は
、接着剤層12の厚さ、軟化点、軟化時の粘度に応じて
加圧時間及び圧力を調節するが、本実施例では60 k
 g / c m 2の圧力で10分であった。その結
果、第1の電極13は、その厚さ18μmのほぼすべて
が接着剤層12中に押し込まれた。即ち、接着剤層12
から突出する部分の厚さはごくわずかであった。
Thereafter, the entire surface of the first electrode 13 was pressed by a chrome-plated metal flat plate heated to a temperature near the glass transition point of the adhesive layer 12, for example, 160°C. As for the pressurizing conditions, the pressurizing time and pressure are adjusted depending on the thickness, softening point, and viscosity of the adhesive layer 12 when softened, but in this example, the pressure was 60 k.
It was 10 minutes at a pressure of g/cm2. As a result, almost all of the first electrode 13 with a thickness of 18 μm was pushed into the adhesive layer 12. That is, the adhesive layer 12
The thickness of the part protruding from the surface was very small.

次に、この上に誘電体ペーストをスクリーン印刷により
塗布し、乾燥及び硬化させることにより厚さ22μmの
誘電体層15を形成した。この誘電体層15の表面に現
れた谷の厚さは殆ど0であった。
Next, a dielectric paste was applied thereon by screen printing, dried and cured to form a dielectric layer 15 having a thickness of 22 μm. The thickness of the valleys appearing on the surface of this dielectric layer 15 was almost zero.

次いで、誘電体層15上に、あらかじめバターニングさ
れ、表面に厚さ2μmの接着剤を塗布した第2の電極1
6を、第1の電極14と位置合せを行なって、圧締し、
誘電体層15と固着させた。
Next, a second electrode 1 is placed on the dielectric layer 15, which has been patterned in advance and whose surface is coated with an adhesive to a thickness of 2 μm.
6 is aligned with the first electrode 14 and clamped,
It was fixed to the dielectric layer 15.

更にこの上に厚さ100μmの感光性絶縁フィルムを真
空ラミネートし、このフィルムをフォトリソグラフィー
によりパターニングして第2の電極16の開口に対応し
た開口を設けた。そして、更にその上に、厚さ30μm
のステンレス製の第3の電極(図示せず)を、その開口
部が感光性絶縁樹脂フィルムの開口に対応するように位
置決めし、2μmの厚さのシリコーン系接着剤により接
着することにより、イオン発生装置を得た。
Further, a photosensitive insulating film having a thickness of 100 μm was vacuum laminated thereon, and this film was patterned by photolithography to provide openings corresponding to the openings of the second electrode 16. Then, on top of that, a thickness of 30 μm
A third electrode made of stainless steel (not shown) is positioned so that its opening corresponds to the opening of the photosensitive insulating resin film, and is bonded with a silicone adhesive with a thickness of 2 μm. Obtained a generator.

このようにして製造されたイオン製造装置では、誘電体
表面の谷の深さが殆ど0となり、誘電体表面と第2の電
極との間の充分な接着面積が確保出来る。そのため、長
時間の使用によっても、第2の電極16が誘電体層15
から剥離することがなく、長期にわたり安定してイオン
が発生した。
In the ion production device manufactured in this manner, the depth of the valleys on the dielectric surface is almost 0, and a sufficient bonding area between the dielectric surface and the second electrode can be secured. Therefore, even if used for a long time, the second electrode 16 may be damaged by the dielectric layer 15.
Ions were generated stably over a long period of time without peeling off.

また、通常、5μmもの極薄の金属箔は汎用的ではなく
、ハンドリングのために例えば35μmの厚さのアルミ
キャリアを金属箔に張り付けてから金属箔を絶縁性基板
上に貼り、後にこのアルミキャリアを剥離することによ
り形成されている。
Additionally, ultra-thin metal foils as thin as 5 μm are not commonly used, and for handling purposes, for example, an aluminum carrier with a thickness of 35 μm is pasted on the metal foil, and then the metal foil is pasted on an insulating substrate. It is formed by peeling off the

しかし、本発明によれば、汎用的な18μmもの厚さの
金属箔を用いることが出来るので、アルミキャリアを剥
離する手間が省け、第1の電極を安価に形成することが
出来る。
However, according to the present invention, it is possible to use a general-purpose metal foil with a thickness of 18 μm, which eliminates the need to peel off the aluminum carrier, and allows the first electrode to be formed at low cost.

なお、この実施例では、22μmの厚さの誘電体層を用
いたが、誘電体層の厚さは15〜30μmの間で変化さ
せてもよい。また、この実施例では、あらかじめ接着剤
を塗布された第2の電極を誘電体層に張り付けたが、誘
電体層に接着剤を厚さ2μmに塗布した後、第2の電極
を張り付けてもよい。
Note that in this example, a dielectric layer with a thickness of 22 μm was used, but the thickness of the dielectric layer may be varied between 15 and 30 μm. In addition, in this example, the second electrode coated with adhesive in advance was attached to the dielectric layer, but it is also possible to apply adhesive to the dielectric layer to a thickness of 2 μm and then attach the second electrode. good.

実施例2 第1の電極13を形成するための銅箔として厚さ9μm
の銅箔を用い、接着剤層12として厚さ20μmのアク
リル系接着剤を用いたことを除いて、実施例1と同様に
してイオン発生装置を製造した。なお、アクリル系接着
剤は、実施例1で用いたエポキシ系接着剤に比べ、一般
に軟化点が低く、加工条件の制御が容易であるという利
点を有する。
Example 2 A copper foil with a thickness of 9 μm for forming the first electrode 13
An ion generator was manufactured in the same manner as in Example 1, except that acrylic adhesive with a thickness of 20 μm was used as the adhesive layer 12. Note that, compared to the epoxy adhesive used in Example 1, acrylic adhesives generally have a lower softening point and have the advantage that processing conditions can be easily controlled.

このようにして製造されたイオン製造装置においても、
誘電体表面の谷の深さは殆ど0となり、誘電体表面と第
2の電極との間の充分な接着面積が確保出来る。そのた
め、長時間の使用によっても、第2の電極16が誘電体
層15から剥離することがなく、長期にわたり安定して
イオンが発生した。
In the ion production device manufactured in this way,
The depth of the valley on the dielectric surface is almost 0, and a sufficient bonding area between the dielectric surface and the second electrode can be secured. Therefore, even after long-term use, the second electrode 16 did not peel off from the dielectric layer 15, and ions were stably generated over a long period of time.

[発明の効果コ 以上説明したように、本発明の方法により得た静電記録
用イオン発生装置では、誘電体表面の谷の深さは殆ど0
となり、誘電体表面と第2の電極との間の充分な接着面
積が確保出来る。そのため、長時間の使用によっても、
第2の電極が誘電体層から剥離することがなく、長期に
わたり安定してイオンを発生させることが可能である。
[Effects of the Invention] As explained above, in the ion generator for electrostatic recording obtained by the method of the present invention, the depth of the valleys on the dielectric surface is almost 0.
Therefore, a sufficient bonding area between the dielectric surface and the second electrode can be secured. Therefore, even after long-term use,
The second electrode does not peel off from the dielectric layer, and it is possible to generate ions stably over a long period of time.

また、金属箔を用いているため、ピンホール等の欠陥は
存在せず、高電圧下においても充分な耐久性を有する。
Furthermore, since metal foil is used, there are no defects such as pinholes, and the device has sufficient durability even under high voltage.

更に、蒸着法により1μm以上の膜厚を堆積すると、残
留応力の影響によりフレキシブルな絶縁基板に反りが発
生するが、本発明の方法では金属箔を採用しているため
、このような問題は何ら発生せず、経時的は耐久性も確
保出来る。
Furthermore, if a film with a thickness of 1 μm or more is deposited by vapor deposition, the flexible insulating substrate will warp due to the influence of residual stress, but since the method of the present invention uses metal foil, such problems do not occur. This does not occur and durability can be ensured over time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の方法により製造されたイオン発生装置
の断面図、第2図はその斜視図、第3図及び第4図は本
発明の一実施例に係るイオン発生装置の製造工程を示す
断面図である。 1・・・絶縁基板、2・・・第1の電極、3・・・誘電
体層、4・・・第2の電極、5・・・絶縁体層、6・・
・第3の電極、7・・・開口。 l 第1図 第4図
FIG. 1 is a cross-sectional view of an ion generator manufactured by the method of the present invention, FIG. 2 is a perspective view thereof, and FIGS. 3 and 4 illustrate the manufacturing process of an ion generator according to an embodiment of the present invention. FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Insulating substrate, 2... First electrode, 3... Dielectric layer, 4... Second electrode, 5... Insulator layer, 6...
- Third electrode, 7... opening. l Figure 1 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 絶縁性基板上に一方向にかつ平行に延設された複数の第
1の電極と、この第1の電極に一方の面が固着された誘
電体層と、この誘電体層の他方の面に固着され第1の電
極と交差する方向に延設された複数の第2の電極とを具
備する誘電記録用イオン発生装置の製造方法において、
前記第1の電極は、前記絶縁性基板上に接着剤層を介し
て所定のパターンの金属箔を形成し、次いでこの金属箔
を熱プレスして前記接着剤層中に押し込むことにより形
成されることを特徴とする静電記録用イオン発生装置の
製造方法。
a plurality of first electrodes extending in one direction and parallel to each other on an insulating substrate; a dielectric layer having one surface fixed to the first electrode; and a dielectric layer having one surface fixed to the first electrode; In a method of manufacturing an ion generator for dielectric recording, the method includes a plurality of second electrodes that are fixed and extend in a direction crossing the first electrode,
The first electrode is formed by forming a metal foil in a predetermined pattern on the insulating substrate via an adhesive layer, and then pressing the metal foil into the adhesive layer by hot pressing. A method for manufacturing an ion generator for electrostatic recording, characterized in that:
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