JPH04176867A - 多段式真空差圧室の防塵装置 - Google Patents

多段式真空差圧室の防塵装置

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JPH04176867A
JPH04176867A JP30381790A JP30381790A JPH04176867A JP H04176867 A JPH04176867 A JP H04176867A JP 30381790 A JP30381790 A JP 30381790A JP 30381790 A JP30381790 A JP 30381790A JP H04176867 A JPH04176867 A JP H04176867A
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JP
Japan
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differential pressure
pressure chamber
vacuum
vacuum differential
seal
Prior art date
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Pending
Application number
JP30381790A
Other languages
English (en)
Inventor
Takayuki Naoi
直井 孝之
Yutaka Naruse
豊 成瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明はストリップに連続的に貞空蒸着等を施す多段の
差圧室内にそれぞれノールロールおよびシール筒を配設
して走行するストリップを段階的に高真空へ導く多段式
真空差圧室の防塵装置に関するものである。
〈従来の技術〉 ストリップに連続的に真空蒸着等を施す多段式真空差圧
室では、外気の侵入または隣接室との間で空気の移動を
極力少なくするため上下一対のソールロール同志および
シールロールに接続しで配置したシール筒とによりシー
ルしである。このようにして10−’ トール程度の真
空度まで上げるためには、上下のソールロールのなす隙
間や、シールロールとノール筒とのなす隙間を小さくし
て通過する空気量を可及的に少なくすることが望まれる
が、これを零とすることはできず外気を吸い込むことに
なり、外気と共に粉塵も同時に差圧室内に持ち込まれる
。これがたとえば真空差圧室内へ侵入すると真空f着に
悪影響を及はし不良製品を生しるばかりでなく、真空ポ
ンプの保全面からも好ましくなかった。
このような問題に対処するため特開平1 =21276
3号公報に多段真空シール部と大気圧下の外部との間に
連絡室を設け、この連絡室に大気圧より高圧力の清浄ガ
スを供給することにより差圧室内に粉塵を持ち込むこと
なく清浄な状態に保持するものが開示されている。
〈発明が解決しようとする課題〉 前記公報に開示された従来の技術によれば、連絡室の圧
力を大気より高めているので、大気中の粉塵を差圧室番
こ侵入するのを防くことができるけれども、ストリップ
に付着した微小な粉塵が侵入するのを防止することは困
難であった。
本発明は、前記従来技術の問題点を解消し、ストリップ
を段階的に高真空に導く多段式差圧室にそれぞれ配設さ
れた上下一対のノールロールの隙間およびシールロール
とノール筒とのなす隙間から可及的に空気が通過するの
を防止すると共に、粉塵が侵入するのを防止することが
できる多段式真空差圧室の防塵装置を提供することを目
的とするものである。
〈課題を解決するための手段〉 前記目的を達成するための本発明は、多段の真空差圧室
内にそれぞれシールロールおよびシール筒を配設して走
行ストリップを段階的に高真空へ導く多段式真空差圧室
の防塵装置において、前記多段の真空差圧室のうち、入
側端の第1真空差圧室内に配設したノールロールの入側
にソール筒を設け、このシール筒に接続して前記第1真
空差圧室内に通ずると共に第1真空差圧室外に設けた配
管に通ずる迂回通路を形成し、前記第1真空差圧室外に
設けた配管に前記迂回通路を流れる空気を吸引する吸引
ファンを設けると共に、この吸引ファンの吸引側にフィ
ルタを備えた補給大気を導入するバイパス配管を接続し
、前記吸引ファンの吐出側に接続した配管を前記第1真
空差圧室の入口に配設したブローオフボックスに接続し
、このブローオフボックスには前記吸引ファンの吐出空
気を走行ストリップの上流側に向けて吐出する複数のノ
ズルを設けてなることを特徴とする多段式真空差圧室の
防塵装置である。
〈作 用〉 第1真空差圧室に配設した一対の7−ルロールの隙間お
よびシールロールとシール筒とのなす隙間から第2真空
差圧室に向かって流れる空気量Q、より多い空気量Q2
を第1真空差圧室の入口に配設したブローオフボックス
のノズルから走行ス1−リップの上流側に向けて吐出す
ることにより(Q2−Q、)の空気量がストリップの表
面に付着した粉塵を室外に吹き飛ばして除去する。
また、第1真空差圧室の入口から室内に入りかけた空気
に粉塵が混入していても空気の一部が第1真空差圧室内
に配設したシールロールの入側シール筒に迂回通路を接
続してあり、ここから吸引ファンにより積極的に取り出
し配管を介してブローオフボックスに導くので真空差圧
室内ムこ侵入する粉塵を大幅に低減できる。
迂回通路から取り出す空気tだけではブローオフボック
スに供給するのに必要な空気WQ2が確保できないので
、吸引ファンの吸引側に接続したバイパス配管からフィ
ルタを介して除塵した清浄な空気を補給して必要な空気
tQ2を確保する。
〈実施例〉 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。第
1図において、13は本体ケーシングであり、本体ケー
シング13内には仕切壁14によって第1真空差圧室1
0(以下第1差圧室という)、第2真空差圧室11(以
下第2差圧室という)および第3真空差圧室12(以下
第3差圧室という)が形成されていて、第1差圧室10
および第2差圧室II内には上下一対のシールロール2
およびシール筒3が配設されている。第3差圧室I2以
降にも同様にして配設されていて多段の差圧室を形成し
ているが、図面では省略しである。各室内のソール筒3
は仕切壁14に一端が固定されていて、他端が上下−・
対のロール2の後面とわずかの隙間をもって近接してセ
ットすると共に、第2回に示すようにストリップlを包
囲しているのは従来通りである。
本発明では第1差圧室10に配設された上下一対のシー
ルロール2の上流側にも入側ソール筒4の一端が本体ケ
ーシング13に固定されていて、他端が上下一対のロー
ルの前面とわずかな隙間をもって近接してセットされて
いる。この入側シール筒4の入口部の側壁には開口16
が設けてあり、開口16は迂回壁15aによって形成さ
れた迂回通路15に通している。この迂回壁15aの先
端は第1差圧室10の下部に室外から接続した配管9に
向かって配置してあり、迂回通路15は配管9に連通し
ている。
なお15bは本体ケーシングI3から入側シール筒4の
方向へ向けて取付けられた迂回壁を示す。
迂回通路15に連通ずる室外の配管9には吸引ファン6
が設けであると共に、吸引ファン6に接続された吸引側
の配管9にはバイパス配管17が接続してあり、バイパ
ス配管9にはその人口部にフィルタ7およびバルブ8が
取付けである。また吸引ファン6の出側に接続された配
管9は第1差圧室10の入口に配設したブローオフボッ
クス5に接続してあり、上下が連通しているブローオフ
ボックス5は吸引ファン6の吐出空気を走行ス)リップ
1の上流側に向けて吐出する複数のノズル18を設けた
構造になっている。
次に本発明の作用について説明すると、走行ストリップ
1は矢印Aで示すように左側から右側へと進行し、大気
中からブローオフボックス5および入側シール筒4を通
って第1差圧室lO1第2差圧室11へとそれぞれに配
設された一対のノールロール2およびシール筒3を通過
する間に、一対のシールロール2の隙間およびシールロ
ール2とソール筒3とのなす隙間を気流が流れる圧力を
員失により第1差圧室10と第2差圧室11との間に差
圧を発生せしめる。
空気の流れは、第1図に示すようにブローオフボックス
5のノズル18から吐出する空気ttQ2によって外気
が侵入するのを口止するため大気の侵入ff1Q、=0
である。ブローオフボックス5のノズル1日から吐出す
る空気量Q2の一部は入側ソール筒4に入り、一部はQ
3として迂回通路15に導かれ、残部はQ、とじて第1
差圧室10のソールロール2の隙間を通過する。
Q3として迂回通路15に入った空気量Q3は、その一
部が空気量Q、として配管9乙こ導かれ、残部が空気I
Q、とじてノールロール2と出側のシール筒3との隙間
からシール筒3内に侵入する。
このため第1差圧室IOから第2差圧室11へ侵入する
空気量はQa + Qb = Q 1 となる。この空
気量Q、は目標とする真空度とシール性により決まる値
である既知数と考えることができる。また各隙間から侵
入する空気量Q4、Qaは機械精度により決まり、その
イ直はほぼ′Q、 zQ6となる。
迂回通路15から配管9へ導かれた空気量Q5はフィル
タ7を通って清浄になった補給空気ff1Q。
と共に吸引ファン6に吸引され空気fitQs+Q7=
Q、となって出側の配管9からブローオフボックス5に
供給されるのは前述の通りである。かくしてブローオフ
ボックス5から吐出量Q2の一部が入側シール筒4に再
流入する割合αを0≦α≦1とするとQ3+Q、−αx
 Q tの関係がある。
つまり(1−α)×Q2の空気量がブローオフボックス
5から大気中に吹出すことになり、これによって外気の
侵入空気IQ、−〇となるように設計するのである。
以上の空気量の関係をまとめると、 Ql = cL + Qa         −−−−
−−−(+)Q、=Q、            −−
−−・−(2)Qs:Qiζ4:1 (仮定値)−一−
−・−−(3)Qt = Qs +Qt       
 −−(4)Ch + Qa =αQ2      −
1− (5)Q3−Qs + Qa         
−−一一一一−(6)のようになり、(1)〜(6)の
式に基づいて第1差圧室10から第2差圧室11への侵
入空気量Q、と補給空気量Q7の関係および前記侵入空
気量Q、とブローオフボックス5に供給される空気IQ
2との関係を求めると、 Q、= (3/2)Q。
Qy = (3/2 2)Q+ が得られる。
ここでたとえばα=0.5となるようにすれば、Qt 
””’6Q1.Q7=4 QL となるので、この数値
に沿って吸引ファン6の容量、フィルタフの面積を選択
すればよいことになる。なおフィルタ7およびバルブ8
を2系列設けたのはフィルタ7を清掃時に切換えること
ができるためである。
〈発明の効果〉 以上説明したように本発明によれば、外気を真空差圧室
に侵入するのを防止すると共に特に粉塵が持込まれるこ
とがなくなるので真空処理室の清浄化が容易に達成され
る。このため蒸着等により処理された製品の清浄度が向
上し、疵が皆無となる。また真空ポンプのトラブルが解
消される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す縦断面口、第2図は第
1図のA−A矢視を示す断面図である。 1・・・ストリップ、    2・・・シールロール、
3・・・シール筒、     4・・・入側ソール筒、
5・・・ブローオフボンクス、 6・・・吸引ファン、    7・・・フィルタ、8・
・・バルブ、     9・・・配 管、10・・・第
1真空差圧室、 11・・・第2真空差圧室、12・・
・第3真空差圧室、 13・・・本体ケーシング、14
・・・仕切壁、     15・・・迂回通路、16・
・・開 口、     17・・・バイパス配管、18
・・・ノズル。 特許出願人   川崎製鉄株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  多段の真空差圧室内にそれぞれシールロールおよびシ
    ール筒を配設して走行ストリップを段階的に高真空へ導
    く多段式真空差圧室の防塵装置において、前記多段の真
    空差圧室のうち、入側端の第1真空差圧室内に配設した
    シールロールの入側にシール筒を設け、このシール筒に
    接続して前記第1真空差圧室内に通ずると共に第1真空
    差圧室外に設けた配管に通ずる迂回通路を形成し、前記
    第1真空差圧室外に設けた配管に前記迂回通路を流れる
    空気を吸引する吸引ファンを設けると共に、この吸引フ
    ァンの吸引側にフィルタを備えた補給大気を導入するバ
    イパス配管を接続し、前記吸引ファンの吐出側に接続し
    た配管を前記第1真空差圧室の入口に配設したブローオ
    フボックスに接続し、このブローオフボックスには前記
    吸引ファンの吐出空気を走行ストリツプの上流側に向け
    て吐出する複数のノズルを設けてなることを特徴とする
    多段式真空差圧室の防塵装置。
JP30381790A 1990-11-13 1990-11-13 多段式真空差圧室の防塵装置 Pending JPH04176867A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1010531C2 (nl) * 1998-11-11 2000-05-15 Vacumetal B V Inrichting en werkwijze voor het door middel van opdampen (PVD) op voorwerpen aanbrengen van een laag.
TWI422695B (zh) * 2009-06-09 2014-01-11 夏普股份有限公司 氣相成長裝置
JP2016017182A (ja) * 2014-07-04 2016-02-01 株式会社Ihi 真空シール装置及び真空プロセス処理システム

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