JPH04177133A - 温度管理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、各種装置の発熱点検、事故の未然防止のため
、あるいは温度測定、温度分布測定のための温度管理方
法に関する。

（従来技術とその課題） 従来この種の材料としては、溶融性顔料や液晶材料を耐
熱性フィルムで密封したものが使用されているか、下記
のごとき欠点がある。

１）高価である。

２）毒性があり、かつ粉末又は液体であるため密封する
必要がある。

３）不可逆性の示温材は、再使用できない。

４）可逆性の示温材の場合は、温度が下がれば元の色に
戻るため、発色する時点を注視している必要がある。

５）発色する温度が一定温度であるため、温度か変われ
ば示温材自身を取り替える必要がある。

（課題を解決するための手段） 本発明は、従来の示温材を使用した温度管理方法の欠点
を改良した新規な管理方法を提供するものである。

即ち本発明は、少なくとも一部が合成樹脂からなる基材
の合成樹脂表面を、前記合成樹脂のガラス転移温度以上
、融点以下の特定の温度で部分的に加圧処理して凹凸構
造による光学的マーク歪みを付与し、上記特定の温度以
上になった際には、凹凸構造による光学的マーク歪みが
解放されて消失するようにしたことを特徴とする温度管
理方法である。

以下図面を参照して本発明を説明する。

第１図は本発明方法の一例を示す断面図、第２図は本発
明方法に使用する刻印の印面の一例を示す平面図、第３
図は本発明方法の別の例を示す断面図、第４図は本発明
方法に使用する基材の一例の断面図である。

本発明は、基材の合成樹脂表面に光学的マーク歪みを付
与するものであるが、大別すると、平滑な合成樹脂表面
に部分的に凹凸歪みを付与する場合と、凹凸を有する合
成樹脂表面を部分的に平滑にして歪みを付与する場合と
がある。

まず、前者について第１〜２図により説明する。

基材１は、第１図（ａ）に示すように、平滑な合成樹脂
表面２を有している。この合成樹脂表面２に対し、第２
図に示すような刻印４により、凹凸構造による光学的マ
ーク歪みを付与する。

刻印４には、任意の文字・模様を凹凸（フロスト）面４
１と平滑面４２とで描き、特定温度で合成樹脂表面２に
加圧することにより、第１図（ｂ）のように、凹凸構造
の光学的マーク歪み３が付与できる。この凹凸構造を形
成するフロストの表面粗さはＪＩＳ−Ｂ−０６０１の１
０点平均粗さで１〜１０μｍの範囲か好ましい。１μｍ
未満では、マーク有無の判定が困難であり、１０μｍを
越えると光学的マークの消失が不完全となる。

なお、表面凹凸付与の別の方法としては、加熱機構を有
するインパクトドツトプリンタ（インクリボンは不要）
を用いる方法かある。この場合は、フロスト面の状態が
複雑で表面粗さでの規定が難しいが、２５６〜２３０４
点／ｍｍ２程度の点の大きさであれば鮮明な画像が得ら
れる。

ドツトプリンタを使用すると、予め決まった文字・模様
だけでなく、必要に応じ任意の文字を任意のサイズを付
与でき、かつＣＲＴデイスプレーに記録を表示・確認後
、記録を行うことができて好ましい 光学的マーク歪みを付与する温度は、合成樹脂のガラス
転移温度（Ｔｇ）以上、融点（Ｔｍ）以下とする必要が
ある。

Ｔｇ未満では、温度が低すぎて部分的凹凸構造の付与が
困難であり、Ｔｍを越えると、凹凸構造は形成されるが
、歪みを保有しない永久的な変形のため、元の形に復元
せず、本発明の目的を達することができない。

このようにして付与された凹凸構造の光学的マーク歪み
は、凹凸（）ロスト）面と平滑面との間で光線の反射率
の差ができ、光学的手段または直接目視により認識する
ことができる。

そして、上記歪み付与温度以上の温度になると、歪みか
解放されて消失して、第１図（ａ＞の状態に戻るため、
特定温度に達したことを知ることができる。

次に、予め凹凸を有する合成樹脂表面を部分的に平滑化
して歪みを付与する場合について第３図により説明する
。

基材１は、第３図（ｃ）のようにフロスト状の合成樹脂
表面２１を有している。この表面２１を部分的に加圧、
平滑化して、凹凸面と平滑面で任意の文字・模様を付与
するものである。

即ち、特定温度に加熱された刻印などを押印することに
より、第３図（ｄ）に示すように、鮮明な光学的マーク
歪み３１が付与される。なお、ここで合成樹脂表面を予
めフロスト化するには、通常の各種粗面法によればよく
、サンドブラスト法、粗面化ロール法によるエンボス法
、粗面化した支持体上への流延法、溶剤処理法などが適
用できる。

これらの方法により、内部に歪みを有しない熱的に安定
なフロスト面が得られる。この場合も１０点平均粗さが
１μｍ以下のフロストではマークの判定が不明確であり
、１０μｍを越えると加圧して平滑化するときに過剰の
圧力が必要となり、かつ歪みを解放する場合も不完全に
なる。

平滑化する温度は、前述の場合と同様、合成樹脂の７ｇ
以上、Ｔｍ以下とする。形成された光学的マークは、平
滑化温度以上の温度になると消失する。

基材表面を形成する合成樹脂としては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ボリスチレン、ポリ
メチル（メタ）アクリレート、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセタール
、ＡＢＳ樹脂、あるいはこれらの共重合樹脂などの各種
の熱可塑性樹脂を単独または混合して用いることができ
る。また、架橋性アクリル樹脂、架橋性ウレタン樹脂、
あるいは前記各種樹脂を架橋側、電子線、γ線、加熱架
橋などにより加熱流動性を失わない程度に架橋した樹脂
も使用できる。

なお、一般にＴｍを示さない架橋性樹脂の場合も流動開
始温度または分解開始温度以下で加熱処理すればよい 本方法において、光学的マークをより鮮明にするために
は、合成樹脂を暗色に着色したり、透明な合成樹脂層の
下に金属性鏡面層を配すると効果的である。

その−例を第４図で説明すると、強度が大きく、耐熱性
のあるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などから
なる支持体層８を、アルミ蒸着層などの金属性鏡面層９
を介して、合成樹脂表面層２と積層しである。

（発明の効果） 本発明方法によれば、次のような利点かある。

１）通常の合成樹脂を使用するため、毒性もなく、且つ
密封する必要もないため、安価である。

２）可逆性示温材の如く変化する時点を注視していなく
ても冷却後でも変化したことが確認できる。

３）光学的マークか消失した後、再び加圧処理すること
により繰り返し使用できる。

４）同一材料で処理温度さえ変えれば、種々の温度の測
定が可能である。

（実施例） 実施例１ 無色透明な平滑ＰＶＣシート（厚さ１００μｍ、Ｔｇ　
　７０℃、Ｔｍ　　２０２℃）と、ＰＥＴシート（厚さ
１００μｍ）の片面にアルミ蒸着したものを第４図のご
とく接着側で積層した。次いで第２図の形状を有する刻
印を、７０．８０．９０．１００．１２０．１５０．１
８０℃の種々の温度に加熱してＰＶＣシート面に押印し
た。（圧力１０に＋ｒ／ｄｌ、時間　０．３秒） 得られた光学的マークは、非常に鮮明で肉眼でも目視で
きた。

次いで、この光学的マークを徐々に昇温できる熱風乾燥
機で処理したところ、夫々刻印した温度と同一温度で１
秒以内でマークが消失した。

実施例２ 表面を１０点平均粗さ８μｍにフロスト化した黒色ポリ
スチレンシート（厚さ２５０μｍ、Ｔｇ　　１００℃、
Ｔｍ　　２４０℃）に、刻印で下記の条件で押印したと
ころ、凹凸構造を背景にした平滑面からなる鮮明な光学
的マークが記録できた。

圧力　８　ｋ［／　− 加圧時間　０．５秒 温度　１００℃ このシートを１００℃の温水に浸したところ、１秒以下
で光学的マークは消失した。なお、この操作を１００回
繰り返しても同じ効果が得られた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法の一例を示す断面図、第２図は本発
明方法に使用する刻印の印面の一例を示す平面図、第３
図は本発明方法の別の例を示す断面図、第４図は本発明
方法に使用する基材の一例の断面図。 １・・・・・・基材　　２．２１・・・・・・合成樹脂
表面３．３１・・・・・・光学的マーク歪み特許出願人
　　三菱樹脂株式会社　　−代理人　　　　弁理士　近
藤久美　　　−・、） （Ｑ） 第 （Ｃ） 第２図 １図 （ｂ） ノ ３図 第４図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 表面の少なくとも一部が合成樹脂からなる基材の合成樹
   脂表面を、前記合成樹脂のガラス転移温度以上、融点以
   下の特定の温度で部分的に加圧処理して凹凸構造による
   光学的マーク歪みを付与し、上記特定の温度以上になっ
   た際には、凹凸構造による光学的マーク歪みが解放され
   て消失するようにしたことを特徴とする温度管理方法。